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光源模塊及其制作方法與流程

文檔序號:11942377閱讀:312來源:國知局
光源模塊及其制作方法與流程

本發(fā)明涉及一種光學(xué)裝置及其制作方法,且特別涉及一種光源模塊及其制作方法。



背景技術(shù):

顯示科技近年來的發(fā)展使得各種顯示器得以普及化,并且逐漸在現(xiàn)代人日常生活中扮演了不可或缺的角色?,F(xiàn)有的顯示科技已經(jīng)應(yīng)用液晶顯示(Liquid Crystal Display,LCD)面板于例如是電腦熒幕、智能型手機以及電子書等電子裝置的熒幕,且為了在提升顯示品質(zhì)的同時可以增加使用上的便利性,上述的顯示器已朝向薄型化的趨勢發(fā)展。

然而,由于液晶顯示面板屬于非自發(fā)光型的顯示器,故在顯示上必須搭配背光模塊。一般而言,背光模塊包括線性光源及具有表面微結(jié)構(gòu)的導(dǎo)光板。隨著液晶顯示器的薄型化,背光模塊亦朝向薄型化發(fā)展,因此導(dǎo)光板(light guide plate)的厚度亦被要求降低。由于薄型化的導(dǎo)光板在藉由例如是網(wǎng)印的加工方法制作表面微結(jié)構(gòu)時更容易因加工過程的疏失而損壞,進而提升制作表面微結(jié)構(gòu)時的不穩(wěn)定性,且制作后的表面結(jié)構(gòu)也無法藉由重新加工來調(diào)整或修復(fù)。上述問題不但會降低導(dǎo)光板的制作過程的良率,也提升了導(dǎo)光板的制作難度及背光模塊的成本。因此,如何同時兼顧導(dǎo)光板薄型化生產(chǎn)以及節(jié)省制造成本已成為目前亟待解決的問題之一。

“背景技術(shù)”段落只是用來幫助了解本

技術(shù)實現(xiàn)要素:
,因此在“背景技術(shù)”段落所揭露的內(nèi)容可能包含一些沒有構(gòu)成所屬技術(shù)領(lǐng)域中普通技術(shù)人員所知道的公知技術(shù)。在“公知技術(shù)”段落所揭露的內(nèi)容,不代表該內(nèi)容或者本發(fā)明一個或多個實施例所要解決的問題,在本發(fā)明申請前已被所屬技術(shù)領(lǐng)域中普通技術(shù)人員所知曉或認知。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提出一種光源模塊的制作方法,可以避免導(dǎo)光板在加工過程中所造成的損耗,進而提升制作光學(xué)品質(zhì)良好的光源模塊的效率、良率并降低整體成本。

本發(fā)明提出一種光源模塊,可以利用較為簡化的架構(gòu)形成良好的所需光源。

本發(fā)明提供一種光源模塊的制作方法,其包括提供一導(dǎo)光板,導(dǎo)光板具有一第一表面、一相對于第一表面的第二表面及一連接第一表面與第二表面的入光面,且導(dǎo)光板具有多個光擴散微單元;在第二表面上配置一反射片、在光束自入光面入射時測量第一表面上的光強度分布;當?shù)谝槐砻嫔系墓鈴姸确植寂c一預(yù)設(shè)光強度分布有差異時,在反射片之朝向第二表面的一反射面上設(shè)置多個光學(xué)結(jié)構(gòu),以使第一表面上的光強度分布趨近于預(yù)設(shè)光強度分布。

本發(fā)明提供一種光源模塊,其包括一導(dǎo)光板、一發(fā)光單元以及一反射片。導(dǎo)光板具有多個均勻分布的光擴散微單元,且具有一第一表面、一相對于第一表面的第二表面及一連接第一表面與第二表面的入光面。發(fā)光單元配置于入光面旁,且朝向入光面發(fā)出一光束。反射片配置于第二表面上,且具有朝向第二表面的一反射面。多個光學(xué)結(jié)構(gòu)以非均勻的方式配置于反射面上。

在本發(fā)明的一實施例中,上述的這些光學(xué)結(jié)構(gòu)包括多個光擴散(distribution)網(wǎng)點、多個光吸收網(wǎng)點或其組合。

在本發(fā)明的一實施例中,設(shè)置上述的這些光學(xué)結(jié)構(gòu)的方法為噴墨印刷或網(wǎng)版印刷(screen printing)。

在本發(fā)明的一實施例中,上述的這些光擴散微單元為配置于導(dǎo)光板內(nèi)部的多個光擴散粒子。

在本發(fā)明的一實施例中,上述的這些光擴散微單元為配置于第一表面與第二表面的至少其中之一上的多個表面光學(xué)微結(jié)構(gòu)。

在本發(fā)明的一實施例中,上述的這些光擴散微單元均勻分布于導(dǎo)光板中,且設(shè)置這些光學(xué)結(jié)構(gòu)的步驟包括將這些光學(xué)結(jié)構(gòu)設(shè)置于反射面的靠近入光面的區(qū)域或遠離入光面的區(qū)域。

在本發(fā)明的一實施例中,上述提供導(dǎo)光板的方法包括以壓出制程提供 導(dǎo)光板。

在本發(fā)明的一實施例中,上述的在反射片的反射面上設(shè)置這些光學(xué)結(jié)構(gòu)的方法是以卷對卷(roll to roll)制程來實現(xiàn)。

在本發(fā)明的一實施例中,當上述的第一表面上的局部區(qū)域的光強度大于預(yù)設(shè)光強度分布中對應(yīng)的預(yù)設(shè)值時,在反射面上的對應(yīng)區(qū)域設(shè)置這些光學(xué)結(jié)構(gòu),以降低局部區(qū)域的光強度。

在本發(fā)明的一實施例中,當上述的第一表面上的局部區(qū)域的光強度小于預(yù)設(shè)光強度分布中對應(yīng)的預(yù)設(shè)值時,在反射面上的對應(yīng)區(qū)域設(shè)置這些光學(xué)結(jié)構(gòu),以提升局部區(qū)域的光強度。

在本發(fā)明的一實施例中,上述的光強度分布與預(yù)設(shè)光強度分布中的光強度為輝度。

在本發(fā)明的一實施例中,上述的這些光學(xué)結(jié)構(gòu)設(shè)置于反射面上的局部區(qū)域,以抑制導(dǎo)光板于對應(yīng)于局部區(qū)域處光強度過強的現(xiàn)象。

在本發(fā)明的一實施例中,上述的這些光學(xué)結(jié)構(gòu)設(shè)置于反射面上的局部區(qū)域,以彌補導(dǎo)光板于對應(yīng)于局部區(qū)域處光強度過低的現(xiàn)象。

在本發(fā)明的一實施例中,上述的這些光學(xué)結(jié)構(gòu)是以六角排列的方式排列于反射面上。

在本發(fā)明的一實施例中,上述的這些光學(xué)結(jié)構(gòu)包括固化后的白色油墨、固化后的黑色油墨、固化后的透明油墨或其組合。

在本發(fā)明的一實施例中,上述的每一光學(xué)結(jié)構(gòu)呈圓點狀。

基于上述,本發(fā)明的實施例的光源模塊的制作方法在反射片上有設(shè)置多個光學(xué)結(jié)構(gòu),因此當光束自導(dǎo)光板的入光面進入導(dǎo)光板時,導(dǎo)光板的第一表面可以具有良好的所需光強度分布。另一方面,由于本發(fā)明的實施例的光源模塊藉由這些反射片的光學(xué)結(jié)構(gòu)就可以讓導(dǎo)光板在第一表面形成良好的光源,因此降低了光源模塊的制作難度,可以避免導(dǎo)光板在加工過程中所造成的損耗,且可以利用較簡化的架構(gòu)形成良好的所需光源。

為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點能更明顯易懂,下文特舉實施例,并配合附圖作詳細說明如下。

附圖說明

圖1A至圖1C是依照本發(fā)明的第一實施例的一種光源模塊的制作方法的示意圖。

圖2是依照本發(fā)明的第一實施例的反射面及光學(xué)結(jié)構(gòu)的局部放大圖。

圖3是依照本發(fā)明第二實施例的光源模塊的示意圖。

圖4是依照本發(fā)明第三實施例的光源模塊的示意圖。

圖5是依照本發(fā)明第四實施例的光源模塊的示意圖。

具體實施方式

有關(guān)本發(fā)明的前述及其他技術(shù)內(nèi)容、特點與功效,在以下配合參考圖式的多個實施例的詳細說明中,將可清楚的呈現(xiàn)。以下實施例中所提到的方向用語,例如上、下、前、后、左、右等,僅是參考附圖的方向。因此,使用的方向用語是用來說明,而非用來限制本發(fā)明。

圖1A至圖1C是依照本發(fā)明的第一實施例的一種光源模塊的制作方法的示意圖。在本發(fā)明的第一實施例所參照的示意圖中,為了清楚說明各元件之間的相對關(guān)系及其所能帶來的效果,圖中僅示例性地示出部分光束的傳遞路徑,其并非用以限定本發(fā)明的光源模塊中的光束傳遞方式。請參考圖1A,本發(fā)明的第一實施例的光源模塊的制作方法提供了一導(dǎo)光板110。導(dǎo)光板110具有一第一表面112、一相對于第一表面112的第二表面114及一連接第一表面112與第二表面114的入光面116,且導(dǎo)光板110具有多個光擴散微單元118。在本實施例中,這些光擴散微單元118分布于導(dǎo)光板110中,且當一光束傳遞至這些光擴散微單元118時,這些光擴散微單元118適于讓光束往多個方向傳遞。換句話說,這些光擴散微單元118適于讓光束擴散。

請參照圖1B,本實施例的光源模塊的制作方法在導(dǎo)光板110的第二表面114上配置一反射片120。反射片120適于反射來自第二表面114的光束(此處以光束L2為例),進而使反射后的光束(此處以光束L2為例)可以自第一表面112穿出導(dǎo)光板110。舉例來說,本實施例的導(dǎo)光板110接收例如是發(fā)光單元130所發(fā)出的光束(此處以光束L1為例)。藉由導(dǎo)光板110的傳遞、光擴散微單元118的擴散及反射片120的反射,光束(此處以光 束L1為例)可以自入光面116進入導(dǎo)光板110后再穿出第一表面112。本實施例的光源模塊的制作方法在光束(此處以光束L1為例)自入光面116入射時,以例如是輝度計(brightness meter)測量光束在第一表面112上所形成的光強度分布。

在藉由上述的方式測得第一表面112上的光強度分布的相關(guān)數(shù)據(jù)后,光強度分布的相關(guān)數(shù)據(jù)會與一預(yù)設(shè)光強度分布數(shù)據(jù)比較。上述的預(yù)設(shè)光強度分布例如是所欲制作的光源模塊在最佳狀態(tài)時的光強度分布,本發(fā)明并不限于此,而藉由上述的比較可以得知第一表面112是否在部分區(qū)域有亮度過高、過低的問題。請參照圖1C,當?shù)谝槐砻?12上的光強度分布與預(yù)設(shè)光強度分布有差異時,本實施例的光源模塊100的制作方法在反射片120的朝向第二表面114的一反射面122上設(shè)置多個光學(xué)結(jié)構(gòu)124,以使第一表面112上的光強度分布趨近于預(yù)設(shè)光強度分布。

換句話說,本實施例的反射片120可以反射來自第二表面114的光束,且這些光學(xué)結(jié)構(gòu)124可以改變經(jīng)反射片120反射后進入導(dǎo)光板110的光強度分布,進而使第一表面112的光強度分布可以藉由這些光學(xué)結(jié)構(gòu)124的補償來趨近于預(yù)設(shè)光強度分布。

因此,本實施例的制作方法可以藉由形成這些光學(xué)結(jié)構(gòu)124來輕易制作出良好的光源模塊100。當光束自入光面116進入導(dǎo)光板110時,形成于反射面122的光學(xué)結(jié)構(gòu)124可以讓第一表面112的光強度分布趨近于預(yù)設(shè)光強度分布,因此導(dǎo)光板110可以不需要額外的加工及微結(jié)構(gòu)設(shè)計(例如網(wǎng)版印刷的加工),進而降低了導(dǎo)光板110的制作難度。另一方面,由于本實施例的光源模塊100的制造方法在測量第一表面112上的光強度分布后,可以再藉由在反射面122形成光學(xué)結(jié)構(gòu)124來補償?shù)谝槐砻?12上的光強度分布,進而避免了在光源模塊100的制作過程中因?qū)Ч獍?10的導(dǎo)光效果不佳而報廢整組光源模塊110,提供了較簡化的架構(gòu)來形成良好的所需光源,同時也提升了在制作導(dǎo)光板110時的良率。

本實施例的制作方法更可以形成例如是增亮膜(Brightness Enhancement Film)、擴散膜(Diffuser Film)等的光學(xué)膜片140于第一表面112上,本發(fā)明不限于此。詳細來說,請參照圖1C,在本實施例中,光源模塊100包括導(dǎo)光板110、發(fā)光單元130(例如:發(fā)光二極管(Light Emitting Diode,LED))以及反射片120。光源模塊100的導(dǎo)光板110具有多個均勻分布的光擴散微單元118,且上述的這些光擴散微單元118為配置于導(dǎo)光板110內(nèi)部的多個光擴散粒子,而導(dǎo)光板110在傳遞光束時可以藉由這些以非均勻的方式配置于反射面122上的光學(xué)結(jié)構(gòu)124補償局部區(qū)域的光強度分布,進而使光源模塊100可以以預(yù)設(shè)光強度分布發(fā)出光束。發(fā)光單元130配置于入光面116旁,且朝向入光面116發(fā)出光束L。光束L在導(dǎo)光板110中傳遞時經(jīng)由光擴散微單元118的擴散或反射片120的反射后自第一表面112發(fā)出,進而使第一表面112上的光強度分布趨近于預(yù)設(shè)光強度分布。

圖2是依照本發(fā)明的第一實施例的反射面及光學(xué)結(jié)構(gòu)的局部放大圖。請參照圖2,在本實施例中,上述的這些光學(xué)結(jié)構(gòu)124包括多個光擴散網(wǎng)點125。更具體來說,這些光擴散網(wǎng)點125例如是固化后的白色油墨或固化后的透明油墨或上述兩者的組合,且這些光擴散網(wǎng)點125例如是以噴墨印刷的方式形成于反射面122上,因此本發(fā)明的實施例的光源模塊的制作方法可以輕易的形成光學(xué)結(jié)構(gòu)124于反射面122上,也提供了一個可以輕易形成良好的光源模塊的制作方法,但本發(fā)明不限于此。在其他實施例中,光學(xué)結(jié)構(gòu)124還可以包括多個光吸收網(wǎng)點或上述這些光擴散網(wǎng)點和光吸收網(wǎng)點的組合,其中光吸收網(wǎng)點例如是固化后的黑色油墨,且這些光學(xué)結(jié)構(gòu)124還可以是以網(wǎng)版印刷形成。進一步來說,在本發(fā)明的其他實施例中,在反射片的反射面上設(shè)置這些光學(xué)結(jié)構(gòu)的方法還可以是以卷對卷制程來實現(xiàn),進而可以在例如是量產(chǎn)時提供更高效率的光源模塊制作方式。

請參照圖2,在本發(fā)明的第一實施例中,這些光擴散網(wǎng)點125例如是以噴墨印刷的方式所形成的圓點狀光學(xué)結(jié)構(gòu)124,且經(jīng)由上述的方式可以讓這些光學(xué)結(jié)構(gòu)124是以六角排列的高密度排列方式排列于反射面122上,進而提供一個最佳的光強度補償效果。本發(fā)明的實施例的這些光學(xué)結(jié)構(gòu)還可以視需求以其他方式排列于反射面,并不限于上述光學(xué)結(jié)構(gòu)124的排列方式。另一方面,在本實施例的光源模塊100的制作方法中,當?shù)谝槐砻?12上的局部區(qū)域的光強度大于預(yù)設(shè)光強度分布中對應(yīng)的預(yù)設(shè)值時,利用在反射面122上的對應(yīng)區(qū)域設(shè)置這些光學(xué)結(jié)構(gòu)124,以降低上述局部區(qū)域的光強度。換句話說,本實施例的光源模塊100的這些光學(xué)結(jié)構(gòu)124設(shè)置于反射面122上的局部區(qū)域,并藉由光學(xué)結(jié)構(gòu)124對光的擴散或吸收來抑制導(dǎo)光 板110于對應(yīng)于局部區(qū)域處光強度過強的現(xiàn)象。

具體來說,在本發(fā)明的第一實施例中,由于例如是塑膠材質(zhì)所形成的這些光擴散微單元118均勻分布于導(dǎo)光板110中,這些光學(xué)結(jié)構(gòu)124設(shè)置于反射面的122遠離入光面116的區(qū)域A。由于導(dǎo)光板110遠離入光面116的局部區(qū)域除了會有光束(這邊以光束L3、L4為例)在往表面117傳遞的過程中穿出第二表面114,還會有光束經(jīng)表面117反射后再穿出第二表面114,進而使反射片120的區(qū)域A的局部光強度較高。本實施例的光源模塊100藉由光學(xué)結(jié)構(gòu)124來擴散照射到區(qū)域A中的部分光束(這邊以光束L3為例),進而使導(dǎo)光板110的第一表面112的光強度分布趨近于預(yù)設(shè)光強度分布。

在本發(fā)明的實施例中,光學(xué)結(jié)構(gòu)在反射面的位置并不限于上述實施例所述遠離入光面的局部區(qū)域,光學(xué)結(jié)構(gòu)的分布區(qū)域還可以視導(dǎo)光板的厚度、材質(zhì)及光擴散微單元的大小、材質(zhì)、密度及預(yù)設(shè)光強度分布來適度調(diào)整。以下將列舉其他實施例以作為說明。在此必須說明的是,下述實施例沿用前述實施例的元件標號與部分內(nèi)容,其中采用相同的標號來表示相同或近似的元件,并且省略了相同技術(shù)內(nèi)容的說明。關(guān)于省略部分的說明可參考前述實施例,下述實施例不再重復(fù)贅述。

圖3是依照本發(fā)明第二實施例的光源模塊的示意圖。請參考圖3,光源模塊100A與光源模塊100大致相似,二者主要差異之處在于:在本發(fā)明的第二實施例中,導(dǎo)光板110A的這些光擴散微單元118A為配置于第一表面112A的多個表面光學(xué)微結(jié)構(gòu),且光學(xué)結(jié)構(gòu)124A設(shè)置于靠近入光面116A的區(qū)域B。本實施例的光學(xué)結(jié)構(gòu)124A例如是光吸收網(wǎng)點,因此當發(fā)光單元130A所發(fā)出的光束自入光面116A進入導(dǎo)光板110A后,反射面122A上的光學(xué)結(jié)構(gòu)124A可以吸收部分傳遞到反射片120A的區(qū)域B的光束,進而使第一表面112A上及光學(xué)膜片140A上的光強度分布可以趨近于預(yù)設(shè)光強度分布。

圖4是依照本發(fā)明第三實施例的光源模塊的示意圖。請參考圖4,光源模塊100B與光源模塊100A大致相似,二者主要差異之處在于:在本發(fā)明的第三實施例中,導(dǎo)光板110B的這些光擴散微單元118B為配置于第二表面114B的多個表面光學(xué)微結(jié)構(gòu),且光學(xué)結(jié)構(gòu)124B設(shè)置于遠離入光面116B 的區(qū)域A。本實施例的光學(xué)結(jié)構(gòu)124B例如是光吸收網(wǎng)點及光擴散網(wǎng)點的組合,因此當發(fā)光單元130B所發(fā)出的光束自入光面116B進入導(dǎo)光板110B后,反射面122B上的光學(xué)結(jié)構(gòu)124B可以吸收或擴散部分傳遞到反射片120B的區(qū)域A的光束,進而使第一表面112B上及光學(xué)膜片140B上的光強度分布可以趨近于預(yù)設(shè)光強度分布。

圖5是依照本發(fā)明第四實施例的光源模塊的示意圖。在本發(fā)明的實施例中,形成于反射面上的光學(xué)結(jié)構(gòu)并不限于上述可以吸收光束或擴散光束的光學(xué)結(jié)構(gòu)124。請參照圖5,在本發(fā)明的第五實施例中,發(fā)光單元130C發(fā)出光束L5至導(dǎo)光板110C的入光面116C,當?shù)谝槐砻?12C上的局部區(qū)域的光強度分布過低時,反射面122C上還可以在對應(yīng)的區(qū)域(此處以區(qū)域C為例)形成具有高反射率的光學(xué)結(jié)構(gòu)124C,因此反射片120C的反射面122C和光學(xué)結(jié)構(gòu)124C都可以往第二表面114C反射光束L6、L7,進而使第一表面112C上光強度分布過低的局部區(qū)域的光強度得以提升,而獲得補償。換句話說,在反射面122C上的光學(xué)結(jié)構(gòu)124C可以彌補導(dǎo)光板110C于對應(yīng)于上述局部區(qū)域處的光強度過低的現(xiàn)象。

在本發(fā)明上述的實施例中,由于導(dǎo)光板具有均勻分布的光擴散微單元,因此上述導(dǎo)光板可以例如是以壓出制程的方式來制作,但本發(fā)明不限于此。換句話說,由于本發(fā)明的實施例中的光學(xué)模塊藉由反射片就可以提供良好的光源,且導(dǎo)光板以均勻的材質(zhì)形成,因此本發(fā)明的實施例提供了更簡易的提供導(dǎo)光板的方式。

在本發(fā)明上述的實施例中,上述的光強度分布與預(yù)設(shè)光強度分布中的光強度為輝度,但本發(fā)明不限于此。在其他實施例中,導(dǎo)光板的第一表面的光強度分布更可以視預(yù)設(shè)光強度分布的單位及需求來作適度地調(diào)整。

綜上所述,本發(fā)明的實施例的光源模塊的制作方法先測量導(dǎo)光板的第一表面上的光強度分布,再根據(jù)上述光強度分布與預(yù)設(shè)光強度分布的比較結(jié)果而在反射片上設(shè)置多個光學(xué)結(jié)構(gòu),藉由這些光學(xué)結(jié)構(gòu)來補償?shù)谝槐砻嫔系墓鈴姸确植?。由于上述的方法不需對?dǎo)光板額外加工,因此可以避免導(dǎo)光板在加工過程中所造成的損耗,同時大幅提升光源模塊的制作良率,進而利用較簡化的架構(gòu)來形成良好的所需光源。本發(fā)明的實施例的光源模塊的發(fā)光單元所發(fā)出的光束自導(dǎo)光板的入光面進入導(dǎo)光板時,導(dǎo)光板的第 一表面可以具有良好的所需光強度分布,且由于光源模塊藉由這些反射片的光學(xué)結(jié)構(gòu)就可以讓導(dǎo)光板在第一表面提供良好的光源,進而降低光源模塊的制作難度。

【符號說明】

A、B、C:區(qū)域

L1、L2、L3、L4、L5、L6、L7:光束

100、100A、100B、100C:光源模塊

110、110A、110B、110C:導(dǎo)光板

112、112A、112B、112C:第一表面

114、114B、114C:第二表面

116、116A、116B、116C:入光面

117:表面

118、118A、118B:光擴散微單元

120、120A、120B、120C:反射片

122、122A、122B、122C:反射面

124、124A、124B、124C:光學(xué)結(jié)構(gòu)

125:光擴散網(wǎng)點

130、130A、130B、130C:發(fā)光單元

140、140A、140B:光學(xué)膜片

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