專利名稱：束流傳輸系統(tǒng)及其傳輸方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種束流傳輸系統(tǒng)及其傳輸方法，特別是涉及一種調(diào)節(jié)束流的偏轉(zhuǎn)角度以及束流聚焦或發(fā)散的束流傳輸系統(tǒng)及其傳輸方法。
背景技術(shù)：
離子注入是用來把改變導(dǎo)電率的雜質(zhì)引入半導(dǎo)體晶片的標(biāo)準(zhǔn)技術(shù)。所需要的雜質(zhì)材料在離子源中被離子化，離子被加速成具有規(guī)定能量的離子束，而且離子束對(duì)準(zhǔn)晶片的表面。射束中的高能離子深入半導(dǎo)體材料的主體并且嵌入半導(dǎo)體材料的晶格形成導(dǎo)電率符合需要的區(qū)域。而且使用離子注入法在單晶或多晶硅中摻雜，是制造現(xiàn)代集成電路中使用的一種常規(guī)工藝過程。 但是當(dāng)前在太陽能晶片摻雜領(lǐng)域，使用最多的方法依舊是熱擴(kuò)散摻雜，這種方法雖然生產(chǎn)效率較高，但需要一些后續(xù)的工藝作為補(bǔ)充，例如去邊等。因而工藝步驟較多，購置設(shè)備成本高。另外由于熱擴(kuò)散工藝，不能很精確的控制摻雜離子的劑量和均勻性，所以會(huì)導(dǎo)致生產(chǎn)的太陽能晶圓損失一部分太陽能轉(zhuǎn)化效率。所以從半導(dǎo)體工藝的發(fā)展歷史來看，在太陽能晶片摻雜領(lǐng)域使用離子注入替代熱擴(kuò)散也是必然趨勢(shì)?，F(xiàn)有的離子束注入系統(tǒng)中，大部分都是通過多極結(jié)構(gòu)以及控制工件通過注入離子束的速度來控制注入的劑量的精度。但是這種結(jié)構(gòu)以及注入方法都需要采用軟件算法來支持其對(duì)注入劑量的精度的控制。因而當(dāng)需要對(duì)注入?yún)^(qū)域中的一部分進(jìn)行單獨(dú)的調(diào)節(jié)時(shí)，現(xiàn)有的離子束注入系統(tǒng)是難于調(diào)節(jié)的，而且無法減小離子束流之間的相互影響對(duì)注入劑量的影響。此外現(xiàn)有的離子束注入系統(tǒng)中的多極磁鐵或電透鏡僅用于控制離子束的發(fā)散和聚焦，不具有偏轉(zhuǎn)離子束方向的能力。如果需要進(jìn)一步調(diào)節(jié)離子束的偏轉(zhuǎn)，只有進(jìn)一步地加入偏轉(zhuǎn)電極，從而提高了生產(chǎn)裝置的復(fù)雜度以及生產(chǎn)的復(fù)雜性。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中準(zhǔn)入不均勻、聚焦或發(fā)散效果不理想的缺陷，提供一種束流傳輸系統(tǒng)及其傳輸方法。通過多線圈的方式，進(jìn)一步地提高了注入劑量的均勻性以及聚焦和散焦的特性。本發(fā)明是通過下述技術(shù)方案來解決上述技術(shù)問題的一種束流傳輸系統(tǒng)，其包括一束流出射裝置、一作為束流傳輸終點(diǎn)的目標(biāo)工件以及相互平行地設(shè)置于束流傳輸路徑兩側(cè)的一第一桿狀四極磁鐵與一第二桿狀四極磁鐵，其特點(diǎn)在于，所述第一桿狀四極磁鐵和第二桿狀四極磁鐵分別具有一鐵芯，其中沿所述第一桿狀四極磁鐵的鐵芯和第二桿狀四極磁鐵的鐵芯的長度方向，分別設(shè)置一個(gè)或多個(gè)相互獨(dú)立的線圈，其中分別設(shè)置于所述第一桿狀四極磁鐵與所述第二桿狀四極磁鐵的鐵芯的相同位置上的線圈相互對(duì)應(yīng)，并且所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵的各個(gè)線圈的電流值均是可調(diào)的。較佳地，所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵的各個(gè)線圈的電流方向均是可調(diào)的。較佳地，所述第一桿狀四極磁鐵和第二桿狀四極磁鐵的鐵芯長度方向，與束流傳輸路徑方向垂直。較佳地，所述束流出射裝置為一離子束源。較佳地，所述目標(biāo)工件為一晶圓。本發(fā)明的另一技術(shù)方案為一種所述的束流傳輸系統(tǒng)的束流傳輸方法，其特點(diǎn)在 于包括以下步驟Sltll、使所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵的線圈的電流方向相同，所述束流出射裝置發(fā)射束流；Sltl2、通過分別調(diào)整所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵上各對(duì)相互對(duì)應(yīng)線圈的電流值的和來調(diào)節(jié)通過所述相互對(duì)應(yīng)線圈所在平面的束流相對(duì)于束流傳輸路徑的偏轉(zhuǎn)角度；Sltl3、確定并保持所述相互對(duì)應(yīng)線圈的電流值的和，然后通過分別調(diào)節(jié)各對(duì)相互對(duì)應(yīng)線圈中位于所述第一桿狀四極磁鐵的線圈和位于第二桿狀四極磁鐵的線圈的電流值的差來調(diào)節(jié)通過所述相互對(duì)應(yīng)線圈所在平面的束流的聚焦以及發(fā)散；Sltl4、將經(jīng)過偏轉(zhuǎn)、聚焦或發(fā)散的束流注入目標(biāo)工件。較佳地，所述偏轉(zhuǎn)角度與所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵上各對(duì)相互對(duì)應(yīng)線圈的電流值的和成正比。較佳地，所述聚焦或發(fā)散的角度與各對(duì)所述相互對(duì)應(yīng)線圈中位于所述第一桿狀四極磁鐵的線圈和位于第二桿狀四極磁鐵的線圈的電流值的差成正比。本發(fā)明的另一技術(shù)方案為一種所述的束流傳輸系統(tǒng)的束流傳輸方法，其特點(diǎn)在于包括以下步驟S2tll、使所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵的線圈的電流方向相反，所述束流出射裝置發(fā)射束流；S2tl2、通過分別調(diào)整所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵上各對(duì)相互對(duì)應(yīng)線圈的電流值的和來調(diào)節(jié)通過所述相互對(duì)應(yīng)線圈所在平面的束流的聚焦以及發(fā)散；S2tl3、確定并保持所述相互對(duì)應(yīng)線圈的電流值的和，然后通過分別調(diào)節(jié)各對(duì)相互對(duì)應(yīng)線圈中位于所述第一桿狀四極磁鐵的線圈和位于第二桿狀四極磁鐵的線圈的電流值的差來調(diào)節(jié)通過所述相互對(duì)應(yīng)線圈所在平面的束流相對(duì)于束流傳輸路徑的偏轉(zhuǎn)角度；S2tl4、將經(jīng)過偏轉(zhuǎn)、聚焦或發(fā)散的束流注入目標(biāo)工件。較佳地，所述聚焦或發(fā)散的角度與所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵上各對(duì)相互對(duì)應(yīng)線圈的電流值的和成正比。較佳地，所述偏轉(zhuǎn)角度與各對(duì)所述相互對(duì)應(yīng)線圈中位于所述第一桿狀四極磁鐵的線圈和位于第二桿狀四極磁鐵的線圈的電流值的差成正比。本發(fā)明的積極進(jìn)步效果在于本發(fā)明的束流傳輸系統(tǒng)通過在桿狀四級(jí)磁鐵中采用多線圈方式，可以更加精確的控制注入的束流的偏轉(zhuǎn)角度以及聚焦或發(fā)散，從而提高注入的均勻性，提高聚焦或發(fā)散的精度和效果。


圖I為本發(fā)明的束流傳輸系統(tǒng)的較佳實(shí)施例的側(cè)視圖。圖2為本發(fā)明的束流傳輸系統(tǒng)的較佳實(shí)施例的俯視圖。圖3為本發(fā)明的束流傳輸系統(tǒng)的較佳實(shí)施例中線圈電流同向的束流傳輸方法的流程圖。圖4為本發(fā)明的束流傳輸系統(tǒng)的較佳實(shí)施例中線圈電流反向的束流傳輸方法的流程圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖給出本發(fā)明較佳實(shí)施例，以詳細(xì)說明本發(fā)明的技術(shù)方案。圖I和圖2所示的束流傳輸系統(tǒng)中包括一束流出射裝置I、一晶圓2、以及兩個(gè)桿狀四極磁鐵3和4。本實(shí)施例中所述束流出射裝置I出射的束流在束流傳輸路徑上經(jīng)過傳輸之后，最終按照預(yù)設(shè)的強(qiáng)度分布和角度分布要求到達(dá)晶圓2處，從而對(duì)晶圓2完成加工制程。該束流出射裝置I可以為一離子源，相應(yīng)地，傳輸?shù)氖鲃t可以為離子束，所述晶圓2作為目標(biāo)工件，所述目標(biāo)工件還可以是其他接收離子束的部件。本發(fā)明在所述束流出射裝置I和所述晶圓2之間設(shè)有一對(duì)相互平行的、分別位于束流傳輸路徑兩側(cè)的桿狀四極磁鐵3和4。本實(shí)施例中所述桿狀四極磁鐵3和4的鐵芯長度方向與束流傳輸路徑方向垂直，此外還可以根據(jù)實(shí)際生產(chǎn)需要等，使得所述鐵芯長度方向與束流傳輸路徑方向成一角度。所述桿狀四極磁鐵3和4均由桿狀鐵芯以及繞于鐵芯上的5個(gè)電磁線圈構(gòu)成，其中所述桿狀鐵芯可以為長方體，或者在鐵芯的長度方向上具有一定弧度的近似長方體，或者鐵芯的橫截面也可以呈近似矩形，在桿狀鐵芯不是標(biāo)準(zhǔn)長方體的情況下，設(shè)置于束流傳輸路徑兩側(cè)的所述桿狀四極磁鐵3和4仍然需要保持形狀對(duì)稱。上述各種衍生類型的四極磁鐵組均能夠?qū)崿F(xiàn)相同的聚焦或散焦以及偏轉(zhuǎn)效應(yīng)。此外沿所述桿狀四極磁鐵3和4的鐵芯的長度方向，分別設(shè)置5個(gè)相互獨(dú)立的線圈，其中分別設(shè)置于所述桿狀四極磁鐵3與所述桿狀四極磁鐵4的鐵芯的相同位置上的線圈相互對(duì)應(yīng)，從而分別設(shè)置于所述桿狀四極磁鐵3與所述桿狀四極磁鐵4上相同位置的線圈構(gòu)成一對(duì)相互對(duì)應(yīng)的線圈。而且所述分別設(shè)置于桿狀四極磁鐵3和4的線圈的數(shù)量可以是任意的，例如I對(duì)線圈或7對(duì)線圈等，從而可以滿足不同束流注入均勻性和精度的要求。本實(shí)施例中分別設(shè)置于所述桿狀四極磁鐵3和4上的所述線圈的電流值是可以調(diào)節(jié)的，從而可以通過改變線圈的電流改變束流相對(duì)于束流傳輸路徑的偏轉(zhuǎn)角度以及束流的聚焦或發(fā)散的角度。即通過調(diào)節(jié)線圈的電流值，調(diào)節(jié)如圖I所示的束流的偏轉(zhuǎn)角度e以及沿如圖2中所示箭頭方向A對(duì)束流進(jìn)行發(fā)散或聚焦的調(diào)節(jié)。此外所述分別設(shè)置于所述桿狀四極磁鐵3和4上的所述線圈的電流方向也是可以調(diào)節(jié)的，如圖I所示桿狀四極磁鐵3的5個(gè)線圈為逆時(shí)針方向，桿狀四極磁鐵4的5個(gè)線圈為順時(shí)針方向，所述分別設(shè)置于桿狀四極磁鐵3和4上的5個(gè)線圈的電流方向可為任意的順時(shí)針或逆時(shí)針方向，從而可以進(jìn)一步地改變束流相對(duì)于束流傳輸路徑的偏轉(zhuǎn)角度以及束流的聚焦或發(fā)散的角度。本實(shí)施例中所述桿狀四極磁鐵3和4上的線圈的電流值及其電流方向都是獨(dú)立可調(diào)的，從而可以分別控制經(jīng)過各對(duì)線圈的束流的偏轉(zhuǎn)以及聚焦或發(fā)散的角度，從而更加精確的控制注入的束流的偏轉(zhuǎn)角度以及束流的聚焦或發(fā)散，從而提高注入的均勻性，提高聚焦或發(fā)散的精度和效果。本實(shí)施例的束流傳輸系統(tǒng)的工作原理如下I、當(dāng)所述束流傳輸系統(tǒng)中，使得分別設(shè)置于所述桿狀四極磁鐵3和4上的所述線圈的電流方向相同時(shí)，例如，所有線圈的電流方向?yàn)轫槙r(shí)針方向或逆時(shí)針方向，所述束流傳輸系統(tǒng)的束流傳輸方法如圖3所示，其中包括以下步驟步驟101，使所述桿狀四極磁鐵3和4上的線圈的電流方向相同，所述束流出射裝 置I發(fā)射束流。步驟102，分別調(diào)整所述桿狀四極磁鐵3和4中各對(duì)相互對(duì)應(yīng)線圈的電流值的和來調(diào)節(jié)通過所述相互對(duì)應(yīng)線圈所在平面的束流相對(duì)于束流傳輸路徑的偏轉(zhuǎn)角度。本實(shí)施例中，當(dāng)所述桿狀四極磁鐵3和4上的線圈的電流方向相同時(shí)，所述偏轉(zhuǎn)角度e的大小與各對(duì)所述桿狀四極磁鐵3和4上相互對(duì)應(yīng)線圈的電流值的和成正比。步驟103，確定并保持各對(duì)相互對(duì)應(yīng)線圈的電流值的和，然后通過分別調(diào)節(jié)各對(duì)相互對(duì)應(yīng)線圈中位于所述桿狀四極磁鐵3的線圈和位于桿狀四極磁鐵4的線圈上的電流值的差來調(diào)節(jié)通過所述相互對(duì)應(yīng)線圈所在平面的束流的聚焦以及發(fā)散的角度。
本實(shí)施例中，由于所述桿狀四極磁鐵3和4上的線圈的電流方向相同，所述沿箭頭方向A進(jìn)行聚焦或發(fā)散的角度與各對(duì)所述相互對(duì)應(yīng)線圈中位于所述桿狀四極磁鐵3的線圈和位于桿狀四極磁鐵4的線圈的電流值的差成正比。步驟104，將經(jīng)過偏轉(zhuǎn)、聚焦或發(fā)散的束流注入晶圓2。2、當(dāng)所述束流傳輸系統(tǒng)中，使得分別設(shè)置于所述桿狀四極磁鐵3和4上的5個(gè)線圈的電流方向相反時(shí)，例如桿狀四極磁鐵3的線圈電流方向?yàn)轫槙r(shí)針方向，所述桿狀四極磁鐵4的線圈電流方向?yàn)槟鏁r(shí)針方向等，所述束流傳輸系統(tǒng)的束流傳輸方法如圖4所示，其中包括以下步驟步驟201，使所述桿狀四極磁鐵3和4上的線圈的電流方向相反，所述束流出射裝置I發(fā)射束流。步驟202，通過分別調(diào)整所述桿狀四極磁鐵3和4中各對(duì)相互對(duì)應(yīng)線圈的電流值的和來調(diào)節(jié)通過所述相互對(duì)應(yīng)線圈所在平面的束流的聚焦以及發(fā)散的角度。本實(shí)施例中，由于所述桿狀四極磁鐵3和4上的線圈的電流方向相反，所述沿箭頭方向A進(jìn)行聚焦或發(fā)散的角度與各對(duì)所述相互對(duì)應(yīng)線圈中位于所述桿狀四極磁鐵3的線圈和位于桿狀四極磁鐵4的線圈的電流值的和成正比。步驟203，確定并保持各對(duì)相互對(duì)應(yīng)線圈的電流值的和，然后通過分別調(diào)節(jié)各對(duì)相互對(duì)應(yīng)線圈中位于所述桿狀四極磁鐵3的線圈和位于桿狀四極磁鐵4上的線圈的電流值的差來調(diào)節(jié)通過所述相互對(duì)應(yīng)線圈所在平面的束流相對(duì)于束流傳輸路徑的偏轉(zhuǎn)角度。本實(shí)施例中，由于所述桿狀四極磁鐵3和4上的線圈的電流方向相反，所述偏轉(zhuǎn)角度e的大小與各對(duì)所述相互對(duì)應(yīng)線圈中位于所述桿狀四極磁鐵的線圈3和位于桿狀四極磁鐵4上的線圈的電流值的差成正比。步驟204，將經(jīng)過偏轉(zhuǎn)、聚焦或發(fā)散的束流注入晶圓2。綜上所述，本發(fā)明的束流傳輸系統(tǒng)通過在桿狀四級(jí)磁鐵中采用多線圈方式，可以更加精確的控制注入的束流的偏轉(zhuǎn)角度以及聚焦或發(fā)散，從而提高注入的均勻性，提高聚焦或發(fā)散的精度和效果。雖然以上描述了本發(fā)明的具體實(shí)施方式
，但是本領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，這些 僅是舉例說明，本發(fā)明的保護(hù)范圍是由所附權(quán)利要求書限定的。本領(lǐng)域的技術(shù)人員在不背離本發(fā)明的原理和實(shí)質(zhì)的前提下，可以對(duì)這些實(shí)施方式做出多種變更或修改，但這些變更和修改均落入本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種束流傳輸系統(tǒng)，其包括一束流出射裝置、一作為束流傳輸終點(diǎn)的目標(biāo)工件以及相互平行地設(shè)置于束流傳輸路徑兩側(cè)的一第一桿狀四極磁鐵與一第二桿狀四極磁鐵，其特征在于，所述第一桿狀四極磁鐵和第二桿狀四極磁鐵分別具有一鐵芯，其中沿所述第一桿狀四極磁鐵的鐵芯和第二桿狀四極磁鐵的鐵芯的長度方向，分別設(shè)置一個(gè)或多個(gè)相互獨(dú)立的線圈，其中分別設(shè)置于所述第一桿狀四極磁鐵與所述第二桿狀四極磁鐵的鐵芯的相同位置上的線圈相互對(duì)應(yīng)，并且所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵的各個(gè)線圈的電流值均是可調(diào)的。
2.如權(quán)利要求I所述的束流傳輸系統(tǒng)，其特征在于，所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵的各個(gè)線圈的電流方向均是可調(diào)的。
3.如權(quán)利要求I或2所述的束流傳輸系統(tǒng)，其特征在于，所述第一桿狀四極磁鐵和第二桿狀四極磁鐵的鐵芯長度方向與束流傳輸路徑方向垂直。
4.如權(quán)利要求I所述的束流傳輸系統(tǒng)，其特征在于，所述束流出射裝置為一離子束源。
5.如權(quán)利要求4所述的束流傳輸系統(tǒng)，其特征在于，所述目標(biāo)工件為一晶圓。·
6.一種如權(quán)利要求2所述的束流傳輸系統(tǒng)的束流傳輸方法，其特征在于包括以下步驟 Sltll、使所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵的線圈的電流方向相同，所述束流出射裝置發(fā)射束流； Sltl2、通過分別調(diào)整所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵上各對(duì)相互對(duì)應(yīng)線圈的電流值的和來調(diào)節(jié)通過所述相互對(duì)應(yīng)線圈所在平面的束流相對(duì)于束流傳輸路徑的偏轉(zhuǎn)角度； Sltl3、確定并保持所述相互對(duì)應(yīng)線圈的電流值的和，然后通過分別調(diào)節(jié)各對(duì)相互對(duì)應(yīng)線圈中位于所述第一桿狀四極磁鐵的線圈和位于第二桿狀四極磁鐵的線圈的電流值的差來調(diào)節(jié)通過所述相互對(duì)應(yīng)線圈所在平面的束流的聚焦以及發(fā)散； Sltl4、將經(jīng)過偏轉(zhuǎn)、聚焦或發(fā)散的束流注入目標(biāo)工件。
7.如權(quán)利要求6所述的束流傳輸方法，其特征在于，所述偏轉(zhuǎn)角度與所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵上各對(duì)相互對(duì)應(yīng)線圈的電流值的和成正比。
8.如權(quán)利要求6或7所述的束流傳輸方法，其特征在于，所述聚焦或發(fā)散的角度與各對(duì)所述相互對(duì)應(yīng)線圈中位于所述第一桿狀四極磁鐵的線圈和位于第二桿狀四極磁鐵的線圈的電流值的差成正比。
9.一種如權(quán)利要求2所述的束流傳輸系統(tǒng)的束流傳輸方法，其特征在于包括以下步驟 S2tll、使所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵的線圈的電流方向相反，所述束流出射裝置發(fā)射束流； S2tl2、通過分別調(diào)整所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵上各對(duì)相互對(duì)應(yīng)線圈的電流值的和來調(diào)節(jié)通過所述相互對(duì)應(yīng)線圈所在平面的束流的聚焦以及發(fā)散； S2tl3、確定并保持所述相互對(duì)應(yīng)線圈的電流值的和，然后通過分別調(diào)節(jié)各對(duì)相互對(duì)應(yīng)線圈中位于所述第一桿狀四極磁鐵的線圈和位于第二桿狀四極磁鐵的線圈的電流值的差來調(diào)節(jié)通過所述相互對(duì)應(yīng)線圈所在平面的束流相對(duì)于束流傳輸路徑的偏轉(zhuǎn)角度； S2tl4、將經(jīng)過偏轉(zhuǎn)、聚焦或發(fā)散的束流注入目標(biāo)工件。
10.如權(quán)利要求9所述的束流傳輸方法，其特征在于，所述聚焦或發(fā)散的角度與所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵上各對(duì)相互對(duì)應(yīng)線圈的電流值的和成正比。
11.如權(quán)利要求9或10所述的束流傳輸方法，其特征在于，所述偏轉(zhuǎn)角度與各對(duì)所述相互對(duì)應(yīng)線圈中位于所述第一桿狀四極磁鐵的線圈和位于第二桿狀四極磁鐵的線圈的電流值的差成正比。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種束流傳輸系統(tǒng)及其傳輸方法，其包括一束流出射裝置、一作為束流傳輸終點(diǎn)的目標(biāo)工件以及相互平行地設(shè)置于束流傳輸路徑兩側(cè)的一第一桿狀四極磁鐵與一第二桿狀四極磁鐵，其中所述第一桿狀四極磁鐵和第二桿狀四極磁鐵分別具有一鐵芯，其中沿所述第一桿狀四極磁鐵的鐵芯和第二桿狀四極磁鐵的鐵芯的長度方向，分別設(shè)置一個(gè)或多個(gè)相互獨(dú)立的線圈，其中分別設(shè)置于所述第一桿狀四極磁鐵與所述第二桿狀四極磁鐵的鐵芯的相同位置上的線圈相互對(duì)應(yīng)，并且所述第一桿狀四極磁鐵和所述第二桿狀四極磁鐵的各個(gè)線圈的電流值均是可調(diào)的。本發(fā)明的可以更加精確的控制注入的束流的偏轉(zhuǎn)角度以及聚焦或發(fā)散，從而提高注入的均勻性和聚焦或發(fā)散的精度。
文檔編號(hào)H01J37/317GK102751155SQ20111010259
公開日2012年10月24日 申請(qǐng)日期2011年4月22日 優(yōu)先權(quán)日2011年4月22日
發(fā)明者錢鋒 申請(qǐng)人:上海凱世通半導(dǎo)體有限公司