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一種曝光機(jī)環(huán)形燈的制作方法

文檔序號(hào):2976650閱讀:543來(lái)源:國(guó)知局
專利名稱:一種曝光機(jī)環(huán)形燈的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及一種曝光裝置,尤其涉及一種曝光機(jī)環(huán)形燈。
背景技術(shù)
曝光機(jī)的工作原理是將放置在曝光框的工作底片和待曝光基板,在外部的對(duì)位區(qū) 進(jìn)行對(duì)位工作,然后再將曝光框送入內(nèi)部的曝光室,把工作底片的圖樣借由曝光的程序復(fù) 制到待曝光基板上。曝光機(jī)的對(duì)位原理是各攝影機(jī)鏡頭捕捉膠片上的標(biāo)靶與板件上的對(duì)位 鉆孔相重疊的圖像,并作相應(yīng)的框架調(diào)整,以使圖像的對(duì)位精度達(dá)到工藝要求。由于待曝光 基板上的對(duì)位鉆孔往往會(huì)出現(xiàn)盲孔或者膠片上的標(biāo)靶未能完全覆蓋待曝光基板上的對(duì)位 鉆孔,使得攝影機(jī)鏡頭無(wú)法識(shí)別膠片上的標(biāo)靶及待曝光基板上對(duì)位鉆孔的相關(guān)位置,從而 大大降低了對(duì)位精度,甚至無(wú)法對(duì)位。目前曝光機(jī)的攝影機(jī)鏡頭均沒(méi)有設(shè)置光源,攝影機(jī)鏡 頭也無(wú)法識(shí)別待曝光基板上的不透光的標(biāo)靶(如,激光標(biāo)靶、銑標(biāo)靶等)的相關(guān)位置,無(wú)法 將膠片上的標(biāo)靶與待曝光基板上的不透光的標(biāo)靶對(duì)位,因而,上述的對(duì)位原理也就只能適 用于設(shè)有對(duì)位鉆孔的板件,對(duì)于沒(méi)有設(shè)置對(duì)位鉆孔的板件則無(wú)法對(duì)位。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種曝光機(jī)環(huán)形燈,這種曝光機(jī)環(huán)形燈, 使攝影機(jī)鏡頭能夠識(shí)別盲孔,提高對(duì)位精度,還可以識(shí)別處于待曝光基板表面上的不透光 標(biāo)靶,適用于待曝光基板上不透光標(biāo)靶的對(duì)位。采用的技術(shù)方案如下一種曝光機(jī)環(huán)形燈,其特征是包括環(huán)形燈架、發(fā)光二極管陣列和發(fā)光二極管的控 制電路;發(fā)光二極管陣列安裝在環(huán)形燈架上;發(fā)光二極管陣列與發(fā)光二極管的控制電路電 連接。發(fā)光二極管的控制電路一般包括交流電源、開(kāi)關(guān)、檢查電流電壓示波器、整流電 路、穩(wěn)壓電路,整流電路一般采用橋式整流對(duì)交流電進(jìn)行整流,使其變成適合驅(qū)動(dòng)發(fā)光二極 管陣列發(fā)光的直流電,通常在電路中并聯(lián)一個(gè)或多個(gè)電容作為穩(wěn)壓電路。使用時(shí),將設(shè)置有發(fā)光二極管陣列的環(huán)形燈架安裝在攝影機(jī)鏡頭的周?chē)?,?dāng)發(fā)生 盲孔或者是要對(duì)不透光標(biāo)靶進(jìn)行識(shí)別對(duì)位時(shí),通過(guò)發(fā)光二極管的控制電路的控制,使發(fā)光 二極管陣列發(fā)光,發(fā)出的光線穿透過(guò)處于待曝光基板上面的膠片,并在待曝光基板上的盲 孔或不透光標(biāo)靶(設(shè)置不透光標(biāo)靶的這種情況下,待曝光基板上并沒(méi)有設(shè)置對(duì)位鉆孔)的 表面發(fā)生反射,攝影機(jī)鏡頭捕捉反射光,形成盲孔或不透光標(biāo)靶的圖像,該圖像與膠片上標(biāo) 靶的圖像進(jìn)行重疊對(duì)位,從而解決了盲孔及不透光標(biāo)靶的對(duì)位問(wèn)題。當(dāng)然,如果待曝光基板 為透光材料,而在待曝光基板的內(nèi)部設(shè)置有辯識(shí)對(duì)位鉆孔(不透光標(biāo)靶),這種情況也能夠 進(jìn)行準(zhǔn)確對(duì)位。為達(dá)到進(jìn)一步提高對(duì)位精度的目的,作為本實(shí)用新型的優(yōu)選方案,所述發(fā)光二極 管采用綠色發(fā)光二極管。綠色發(fā)光二極管發(fā)出的光線為綠色光線,綠色光線明亮、穿透性 高,形成的圖像輪廓清晰,對(duì)位效果更好。[0008]為了達(dá)到便于控制亮度的目的,所述發(fā)光二極管的控制電路還包括直流穩(wěn)壓電 源,直流穩(wěn)壓電源并聯(lián)在發(fā)光二極管陣列的兩端。并聯(lián)的直流穩(wěn)壓電源,可以在發(fā)光二極管 陣列兩端電壓不變的情況下,調(diào)節(jié)通過(guò)發(fā)光二極管的電流,達(dá)到控制發(fā)光二極管的亮度的 目的。為了達(dá)到亮度均勻的目的,還包括散光片,散光片設(shè)置在處于發(fā)光二極管陣列下 方的環(huán)形燈架上。通過(guò)在發(fā)光二極管陣列下方的環(huán)形燈架上設(shè)置散光片,使曝光機(jī)環(huán)形燈 照射到膠片上的光線亮度更加均勻。另外,還可以結(jié)合曝光機(jī)環(huán)形燈,通過(guò)增加上光源及各種調(diào)試以試驗(yàn)激光標(biāo)靶在 不同種類(lèi)燈及不同顏色燈光下的清晰度,一般做法是一、增加曝光室上光源,使用貼附 有防紫外線膜的日光燈管,并增加電路控制開(kāi)關(guān);二、調(diào)整攝影機(jī)鏡頭放大器的M GAIN M0DE(手動(dòng)增益模式)可適當(dāng)在各鏡頭上作微調(diào)整快門(mén)速度,以提高鏡頭的對(duì)比度及亮度; 三、打開(kāi)r Compensation模式(補(bǔ)償選擇開(kāi)關(guān))可自動(dòng)補(bǔ)償,以調(diào)整鏡頭圖像的對(duì)比度及 亮度。本實(shí)用新型的曝光機(jī)環(huán)形燈,由發(fā)光二極管陣列發(fā)出的光線穿透過(guò)處于待曝光基 板上面的膠片,并在待曝光基板上的盲孔或不透光標(biāo)靶的表面發(fā)生反射,攝影機(jī)鏡頭捕捉 反射光,形成盲孔或不透光標(biāo)靶的圖像,該圖像與膠片上標(biāo)靶的圖像進(jìn)行重疊對(duì)位,從而使 攝影機(jī)能夠識(shí)別盲孔,提高對(duì)位精度,也可以識(shí)別處于待曝光基板表面上的不透光標(biāo)靶,適 用于待曝光基板上不透光標(biāo)靶的對(duì)位。

圖1是本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施方式的結(jié)構(gòu)示意圖圖2是圖1的A-A剖視圖圖3是本實(shí)用新型優(yōu)選實(shí)施方式中發(fā)光二極管的控制電路的電路原理圖。
具體實(shí)施方式

以下結(jié)合附圖和本實(shí)用新型的優(yōu)選實(shí)施方式做進(jìn)一步的說(shuō)明。如圖1和圖2所示,這種曝光機(jī)環(huán)形燈包括環(huán)形燈架1、發(fā)光二極管陣列2和發(fā)光 二極管的控制電路;發(fā)光二極管陣列2安裝在環(huán)形燈架1上;發(fā)光二極管陣列2與發(fā)光二極 管的控制電路電連接。發(fā)光二極管陣列2均采用綠色發(fā)光二極管。這種曝光機(jī)環(huán)形燈還包 括散光片3,散光片3設(shè)置在處于發(fā)光二極管陣列2下方的環(huán)形燈架1上。如圖3所示,發(fā)光二極管的控制電路包括交流電源10、開(kāi)關(guān)4、檢查電流電壓示波 器5、整流電路6、穩(wěn)壓電路7,整流電路6采用橋式整流對(duì)交流電進(jìn)行整流,在電路中并聯(lián)一 個(gè)或多個(gè)電容作為穩(wěn)壓電路7。發(fā)光二極管的控制電路還包括直流穩(wěn)壓電源8,直流穩(wěn)壓電 源8并聯(lián)在發(fā)光二極管陣列2的兩端。如圖1所示,使用時(shí),將設(shè)置有發(fā)光二極管陣列2的環(huán)形燈架1安裝在攝影機(jī)鏡頭 9的周?chē)?,?dāng)發(fā)生盲孔或者是要對(duì)不透光標(biāo)靶進(jìn)行識(shí)別對(duì)位時(shí),通過(guò)發(fā)光二極管的控制電 路的控制,使發(fā)光二極管陣列2發(fā)光,發(fā)出的光線經(jīng)散光片3發(fā)生散射后,穿透過(guò)處于待曝 光基板上面的膠片,并在待曝光基板上的盲孔或不透光標(biāo)靶的表面發(fā)生反射,攝影機(jī)鏡頭9 捕捉反射光,形成盲孔或不透光標(biāo)靶的圖像,該圖像與膠片上標(biāo)靶的圖像進(jìn)行重疊對(duì)位,從而解決了盲孔及不透光標(biāo)靶的對(duì)位問(wèn)題。另外,可以調(diào)節(jié)直流穩(wěn)壓電源8輸出的電流,在發(fā) 光二極管陣列兩端電壓不變的情況下,使通過(guò)發(fā)光二極管的電流增加或減少,從而控制發(fā)
光二極管的亮度。 曝光機(jī)在攝影機(jī)的鏡頭周?chē)惭b了上述的曝光機(jī)環(huán)形燈之后,可以識(shí)別處于待曝 光基板表面上的不透光標(biāo)靶,適用于待曝光基板上不透光標(biāo)靶的對(duì)位,以及提高對(duì)盲孔的 對(duì)位精度。當(dāng)然,如果待曝光基板為透光材料,而在待曝光基板的內(nèi)部設(shè)置有辯識(shí)對(duì)位鉆孔 (不透光標(biāo)靶),這種情況也能夠進(jìn)行準(zhǔn)確對(duì)位。
權(quán)利要求1.一種曝光機(jī)環(huán)形燈,其特征是包括環(huán)形燈架、發(fā)光二極管陣列和發(fā)光二極管的控 制電路;發(fā)光二極管陣列安裝在環(huán)形燈架上;發(fā)光二極管陣列與發(fā)光二極管的控制電路電 連接。
2.如權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)環(huán)形燈,其特征是所述發(fā)光二極管采用綠色發(fā)光二極管。
3.如權(quán)利要求1或2所述的曝光機(jī)環(huán)形燈,其特征是所述發(fā)光二極管的控制電路還 包括直流穩(wěn)壓電源,直流穩(wěn)壓電源并聯(lián)在發(fā)光二極管陣列的兩端。
4.如權(quán)利要求1或2所述的曝光機(jī)環(huán)形燈,其特征是還包括散光片,散光片設(shè)置在處 于發(fā)光二極管陣列下方的環(huán)形燈架上。
5.如權(quán)利要求3所述的曝光機(jī)環(huán)形燈,其特征是還包括散光片,散光片設(shè)置在處于發(fā) 光二極管陣列下方的環(huán)形燈架上。
專利摘要本實(shí)用新型涉及一種曝光機(jī)環(huán)形燈,包括環(huán)形燈架、發(fā)光二極管陣列和發(fā)光二極管的控制電路;發(fā)光二極管陣列安裝在環(huán)形燈架上;發(fā)光二極管陣列與發(fā)光二極管的控制電路電連接。由發(fā)光二極管陣列發(fā)出的光線穿透過(guò)處于待曝光基板上面的膠片,并在待曝光基板上的盲孔或不透光標(biāo)靶的表面發(fā)生反射,攝影機(jī)鏡頭捕捉反射光,形成盲孔或不透光標(biāo)靶的圖像,該圖像與膠片上標(biāo)靶的圖像進(jìn)行重疊對(duì)位,從而使攝影機(jī)能夠識(shí)別盲孔,提高對(duì)位精度,也可以識(shí)別處于待曝光基板表面上的不透光標(biāo)靶,適用于待曝光基板上不透光標(biāo)靶的對(duì)位。
文檔編號(hào)F21V23/00GK201903751SQ201020609889
公開(kāi)日2011年7月20日 申請(qǐng)日期2010年11月12日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月12日
發(fā)明者莫任平, 賴偉軍, 陳乃瑾 申請(qǐng)人:汕頭超聲印制板(二廠)有限公司, 汕頭超聲印制板公司
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