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等離子顯示面板的制作方法

文檔序號:2855888閱讀:115來源:國知局
專利名稱:等離子顯示面板的制作方法
技術領域
本發(fā)明涉及顯示裝置等中使用的等離子顯示面板。

背景技術
等離子顯示面板(以下稱為PDP),因為要能實現高清晰化、大畫面化,所以65英寸屏幕的電視等被商品化。近些年,PDP正在推進在與現有的NTSC方式相比掃描線數為2倍以上的高清晰度電視中的應用,并且,考慮到環(huán)境問題而要求PDP不含鉛成分。
PDP基本由前面板和背面板構成。前面板包括浮(float)法制造的硼硅酸鈉系玻璃的玻璃基板、玻璃基板一個主面上形成的條狀透明電極和總線電極而構成的顯示電極、覆蓋顯示電極而作為電容器工作的電介質層、以及在電介質層上形成的氧化鎂(MgO)構成的保護層。背面板包括玻璃基板、其一主面上形成的條狀尋址電極、覆蓋尋址電極的基礎電介質層、基礎電介質層上形成的障壁、以及在各障壁間形成的分別發(fā)出紅色、綠色及藍色光的熒光體層。
前面板和背面板在使其電極形成面?zhèn)认鄬Φ臓顟B(tài)下被氣密封,在由障壁分隔的放電空間中以400Torr~600Torr的壓力封入Ne-Xe的放電氣體。PDP通過有選擇地將圖像信號電壓施加到顯示電極而放電,由于該放電而產生的紫外線激勵各色熒光體層發(fā)出紅色、綠色、藍色的光,從而實現彩色圖像顯示。
顯示電極的總線電極中,為了保證導電而使用銀電極,使用以氧化鉛為主要成分的低融點玻璃作為電介質層。近些年考慮到環(huán)境問題,特開2003-128430號公報、特開2002-053342號公報、特開2001-048577號公報、以及特開平9-050769號公報公開了不含鉛成分的電介質層的示例。
如前述,正在推進與現有NTSC方式相比掃描線數為2倍以上的高清晰度電視中應用PDP。
這樣的高清晰化使得掃描線數增加,顯示電極數增加,從而顯示電極間隔變小。因此,從構成顯示電極的銀電極擴散到電介質層或玻璃基板的銀離子變多。如果銀離子擴散到電介質層或玻璃基板中,由于電介質層中的堿金屬離子或玻璃基板中含有的2價錫離子而受到還原作用,形成銀膠體。因此,明顯在電介質層或玻璃基板發(fā)生變?yōu)辄S色或褐色的變黃現象,并且,氧化銀受到還原作用而產生氧氣,使電介質層中產生氣泡。
因此,由于掃描線數的增加,玻璃基板的變黃或電介質層中的氣泡的發(fā)生變得更加顯著,圖像質量明顯受損且發(fā)生電介質層的絕緣不良。
然而,考慮到環(huán)境問題而提出的不含鉛成分的現有電介質層的示例中,存在這樣的課題不能同時滿足對此變黃現象的抑制以及對電介質層的絕緣不良的抑制。


發(fā)明內容
本發(fā)明的PDP是,將在玻璃基板上形成有顯示電極和電介質層和保護層的前面板,和在基板上形成有電極和障壁和熒光體層的背面板,兩者相對配置而且外圍密封以形成放電空間,顯示電極至少含有銀,而且,電介質層包括,覆蓋顯示電極的含有氧化鉍的第一電介質層,以及覆蓋第一電介質層的含有氧化鉍的第二電介質層,第二電介質層的氧化鉍的含量比第一電介質層的氧化鉍的含量更少。
這樣的結構,其電介質層不會發(fā)生變黃現象,絕緣耐壓性能不劣化,可見光透過率較高,從而能夠實現環(huán)保的顯示質量高的PDP。



圖1是表示本發(fā)明實施方式PDP的結構的立體圖。
圖2是表示本發(fā)明實施方式PDP的電介質層的結構的前面板的剖面圖。
附圖標記說明 1PDP 2前面板 3前面玻璃基板 4掃描電極 4a,5a透明電極 4b,5b金屬總線電極 5維持電極 6顯示電極 7遮光帶(遮光層) 8電介質層 9保護層 10背面板 11背面玻璃基板 12尋址電極 13基礎電介質層 14障壁 15熒光體層 16放電空間 81第一電介質層 82第二電介質層
具體實施例方式 下面使用

本發(fā)明實施方式的PDP。
(實施方式) 圖1是表示本發(fā)明實施方式PDP的結構的立體圖。PDP的基本結構與一般的交流面放電型PDP相同。如圖1所述,PDP1中,由前面玻璃基板3等構成的前面板2,與前面板2相向配置的由背面玻璃基板11等構成的背面板10,兩者的外圍部分通過由玻璃粉等構成的密封部件而被氣密封。Ne以及Xe等的放電氣體以400Torr~600Torr的壓力被封入密封的PDP1內部的放電空間16中。
在前面板2的前面玻璃基板3上配置多列相互平行的、由一對掃描電極4及維持電極5構成的帶狀的顯示電極6與遮光帶(遮光層)7。在前面玻璃基板3上,以覆蓋顯示電極6和遮光層7的方式,形成作為電容器工作的電介質層8,再在其表面形成由氧化鎂(MgO)等構成的保護層9。
在背面板10的背面玻璃基板11上,在與前面板2的掃描電極4及維持電極5相垂直的方向上,配置相互平行的多條帶狀尋址電極12,基礎電介質層13覆蓋這些尋址電極。而且,在尋址電極12間的基礎電介質層13上,形成用于劃分放電空間16的規(guī)定高度的障壁14。在障壁14間的凹槽內的每個尋址電極12上,通過順序涂布而形成利用紫外線而分別發(fā)出紅色、綠色及藍色光的熒光體層15。在掃描電極4及維持電極5與尋址電極12相交叉的位置形成放電室,與顯示電極6的方向平行的具有紅色、綠色、藍色熒光體層15的放電室,構成用于彩色顯示的像素。
圖2表示本發(fā)明實施方式的PDP1的電介質層8的結構的前面板2的剖面圖,圖2以與圖1上下顛倒的方式顯示。如圖2所述,用浮法等制造的前面玻璃基板3上,形成由掃描電極4和維持電極5構成的顯示電極6與遮光層7的圖案。掃描電極4與維持電極5分別由銦錫氧化物(ITO)或氧化錫(SnO2)等構成的透明電極4a、5a以及在透明電極4a、5a上形成的金屬總線電極4b、5b構成。金屬總線電極4b、5b是為使透明電極4a、5a的縱長方向上導電、而以銀(Ag)材料為主要成分的導電材料形成的。
電介質層8至少是兩層構造覆蓋在前面玻璃基板3上形成的透明電極4a、5a、金屬總線電極4b、5b以及遮光層7的第一電介質層81,以及,在第一電介質層81上形成的第二電介質層82,而且,在第二電介質層82上形成保護層9。
接著,說明PDP的制造方法。首先,在前面玻璃基板3上形成掃描電極4、維持電極5以及遮光層7。此透明電極4a、5a和金屬總線電極4b、5b是利用光刻法等而形成圖案的。透明電極4a、5a是使用薄膜工藝等形成的,金屬總線電極4b、5b是在希望的溫度對包含銀(Ag)材料的膏體進行焙燒硬化得到的。且,遮光層7也類似,是將包含黑色顏料的膏體絲網印刷之后或者將黑色顏料形成在玻璃基板整個面上之后,使用光刻法形成圖案、并經焙燒而形成的。
接下來,以覆蓋掃描電極4、維持電極5及遮光層7的方式,在前面玻璃基板3上用狹縫涂布(die coat)法等涂布電介質膏,而形成電介質膏層(電介質材料層)。涂布電介質膏之后,放置規(guī)定時間,使已涂布的電介質膏表面校平,成為平坦表面。然后,通過焙燒硬化電介質膏層,形成覆蓋掃描電極4、維持電極5及遮光層7的電介質層8。電介質膏是包含玻璃粉末等電介質材料、粘合劑及溶劑的涂料。其次,在電介質層8上通過真空蒸鍍法形成由氧化鎂(MgO)構成的保護層9。通過上述工序,在前面玻璃基板3上形成了規(guī)定結構物(掃描電極4、維持電極5、遮光層7、電介質層8、保護層9),完成前面板2。
另一方面,背面板10通過以下方式而形成。首先,在背面玻璃基板11上,絲網印刷包含銀(Ag)材料的膏體之后,或者將金屬膜形成在整個面上之后,使用光刻法形成圖案,利用這樣的方法,形成作為尋址電極12結構物的材料層,在一定的溫度下焙燒此材料層,由此形成尋址電極12。接下來,在形成了尋址電極12的背面玻璃基板11上,利用狹縫涂布法等,以覆蓋尋址電極12的方式涂布電介質膏,形成電介質膏層。然后,通過焙燒電介質膏層而形成基礎電介質層13。電介質膏是包含玻璃粉末等電介質材料、粘合劑及溶劑的涂料。
接著,在基礎電介質層13上涂布包含障壁材料的障壁形成用膏,以規(guī)定形狀進行圖案化,這樣形成障壁材料層之后進行焙燒,從而形成障壁14。在此,作為在基礎電介質層13上涂布的障壁用膏圖案化的方法,可以用光刻法或噴砂法(sandblast)等。其次,在相鄰的障壁14間的基礎電介質層13上以及障壁14的側面上涂布包含螢光體材料的螢光體膏并焙燒,由此形成熒光體層15。通過以上工序,完成在背面玻璃基板11上具有規(guī)定結構部件的背面板10。
具有前述規(guī)定結構部件的前面板2與背面板10相向配置,使得掃描電極4與尋址電極12相垂直,其周圍用玻璃粉密封,在放電空間16內封入含有Ne、Xe等的放電氣體,由此完成PDP1。
下面詳細說明構成前面板2的電介質層8的第一電介質層81與第二電介質層82。第一電介質層81的電介質材料,是由下述材料成分構成的。即,包含重量比(重量百分比)為20%~40%的氧化鉍(Bi2O3),包含重量比為0.5%~12%的從氧化鈣(CaO)、氧化鍶(SrO)和氧化鋇(BaO)中選擇的至少一種成分,還包含重量比為0.1%~7%的從氧化鉬(MoO3)、氧化鎢(WO3)、氧化鈰(CeO2)、二氧化錳(MnO2)中選擇的至少一種成分。
然而,取代氧化鉬(MoO3)、氧化鎢(WO3)、氧化鈰(CeO2)、二氧化錳(MnO2),也可以包含重量比為0.1%~7%的從氧化銅(CuO)、氧化鉻(Cr2O3)、氧化鈷(Co2O3)、氧化釩(V2O7)和氧化銻(Sb2O3)中選擇的至少一種成分。
另外,除了前述成分之外,還可以包含重量比為0%~40%的氧化鋅(ZnO)、重量比為0%~35%的氧化硼(B2O3)、重量比為0%~15%的氧化硅(SiO2)、重量比為0%~10%的氧化鋁(Al2O3)等的不含鉛成分的材料成分,這些材料成分的含量沒有特別限定,在現有技術的材料成分的含量范圍內。
利用濕式射流粉碎機或球磨機,將這些組成成分構成的電介質材料粉碎為平均粒徑為0.5μm~2.5μm,制成電介質材料粉末。然后,將重量比為55%~70%的此電介質材料粉末以及重量比為30%~45%的粘合劑成分,用三根軋輥(roll)充分混練,制成狹縫涂布用或者印刷用的第一電介質層用膏。
粘合劑成分是乙基纖維素(ethylcellulose)、或者是含有重量比為1%~20%的丙烯酸樹脂的松油醇、或者是二甘醇丁醚醋酸酯(butyl carbitolacetate)。而且,在膏體中,根據需要還可以添加作為增塑劑的鄰苯二甲酸二辛酯、鄰苯二甲酸二丁酯、磷酸三苯酯、磷酸三丁酯,也可以添加作為分散劑的單油酸甘油酯(glycerol monooleate)、脫水山梨醇倍半油酸酯(sorbitan sesquioleate)、烷基芳基磷酸酯(alkyl-aryl phosphate ester)等,從而提高印刷性。
接著,將此第一電介質層用膏,用狹縫涂布法或者絲網印刷法以覆蓋顯示電極6的方式印刷到前面玻璃基板3上,并使其干燥,然后,在比電介質材料的軟化點稍高一點的溫度575℃~590℃下焙燒,形成第一電介質層81。
下面說明第二電介質層82。第二電介質層82的電介質材料由下述材料成分而構成。即,包含重量比為11%~20%的氧化鉍(Bi2O3),還包含重量比為1.6%~21%的從氧化鈣(CaO)、氧化鍶(SrO)和氧化鋇(BaO)中選擇的至少一種成分,并且包含重量比為0.1%~7%的從氧化鉬(MoO3)、氧化鎢(WO3)、氧化鈰(CeO2)中選擇的至少一種成分。
然而,取代氧化鉬(MoO3)、氧化鎢(WO3)和氧化鈰(CeO2),可以是包含重量比為0.1%~7%的從氧化銅(CuO)、氧化鉻(Cr2O3)、氧化鈷(Co2O3)、氧化釩(V2O7)、氧化銻(Sb2O3)和氧化錳(MnO2)中選擇的至少一種成分。
而且,除了上述成分之外,也可以包含有重量比為0%~40%的氧化鋅(ZnO)、重量比為0%~35%的氧化硼(B2O3)、重量比為0%~15%的氧化硅(SiO2)、重量比為0%~10%的氧化鋁(Al2O3)等的不含鉛成分的材料成分,這些材料成分的含量沒有特別限定,在現有技術的材料成分的含量范圍內。
用濕式射流粉碎機或球磨機,將由這些組成成分構成的電介質材料粉碎成平均粒徑為0.5μm~2.5μm,制作成電介質材料粉末。接著,重量比為55%~70%的此電介質材料粉末、重量比為30%~45%的粘合劑成分,用三根軋輥充分混練,制成狹縫涂布用或者印刷用的第二電介質層用膏。粘合劑成分是乙基纖維素、或者是包含重量比為1%~20%的丙烯酸樹脂的松油醇、或者是二甘醇丁醚醋酸酯。而且,膏體中,還可以根據需要添加作為增塑劑的鄰苯二甲酸二辛酯、鄰苯二甲酸二丁酯、磷酸三苯酯、磷酸三丁酯,也可以添加作為分散劑的單油酸甘油酯、脫水山梨醇倍半油酸酯、烷基芳基磷酸酯等,以提高印刷性。
接著,用此第二電介質層用膏,以絲網印刷法或者狹縫涂布法印刷到第一電介質層81上,再使其干燥。然后,在比電介質材料的軟化點稍高的溫度550℃~590℃下焙燒,形成第二電介質層82。
關于電介質層8的膜厚度,為了保證可見光透過率,優(yōu)選第一電介質層81和第二電介質層82合計為41μm以下。為了抑制金屬總線電極4b、5b與銀(Ag)的反應,第一電介質層81的氧化鉍(Bi2O3)的含量比第二電介質層82的氧化鉍(Bi2O3)含量更多,重量比為20%~40%。因此,第一電介質層81的可見光透過率比第二電介質層82的可見光透過率更低,所以第一電介質層81的膜厚比第二電介質層82的膜厚更薄。
另外,第二電介質層82中氧化鉍(Bi2O3)重量比為11%以下時,雖然不易變色,但第二電介質層82中卻容易產生氣泡。而且,如果重量比超過40%時,則變得容易變色,對于提高透過率來說不夠理想。
而且,電介質層8的膜厚度越小,提高面板亮度和降低放電電壓的效果越顯著,因此,較佳的是設定為,在不降低絕緣耐壓的范圍內使膜厚度盡量小。從這樣的角度來看,本發(fā)明實施方式中,電介質層8的膜厚度設定為41μm以下,第一電介質層81為5μm~15μm,第二電介質層82為20μm~36μm。
已確認,這樣制造的PDP,即使在顯示電極6中使用銀(Ag)材料,前面玻璃基板3的變色現象(變黃)也少,并且,電介質層8中不會發(fā)生氣泡等,實現絕緣耐壓性能優(yōu)良的電介質層。
接下來,分析本發(fā)明實施方式的PDP,利用此電介質材料,第一電介質層81中變黃或氣泡發(fā)生被抑制的原因。即,已知的是,如果在含有氧化鉍(Bi2O3)的電介質玻璃中添加氧化鉬(MoO3)或者氧化鎢(WO3),則在580℃以下的低溫下容易生成Ag2MoO4、Ag2Mo2O7、Ag2Mo4O13、Ag2WO4、Ag2W2O7、Ag2W4O13化合物。本發(fā)明實施方式中,電介質層8的焙燒溫度是550℃~590℃,所以,焙燒中擴散到電介質層8中的銀離子(Ag+)與電介質層8中的氧化鉬(MoO3)、氧化鎢(WO3)氧化鈰(CeO2)、氧化錳(MnO2)發(fā)生反應,生成穩(wěn)定的化合物,從而穩(wěn)定下來。換言之,銀離子(Ag+)沒有被還原而是穩(wěn)定下來,沒有凝集生成膠體。因此,通過使銀離子(Ag+)穩(wěn)定化,伴隨著銀(Ag)的膠體化而發(fā)生的氧氣也變少,因此,電介質層8中的氣泡的發(fā)生也就變少了。
另一方面,為了有效地實現這樣的效果,含有氧化鉍(Bi2O3)的電介質玻璃中,氧化鉬(MoO3)、氧化鎢(WO3)、氧化鈰(CeO2)、氧化錳(MnO2)的含量較佳的是在重量比為0.1%以上,重量比為0.1%以上7%以下更好。特別是,如果不到重量比0.1%,抑制變黃的效果較差,如果超過重量比7%,則玻璃上發(fā)生變色,不夠理想。
即,本發(fā)明實施方式的PDP的電介質層8,與銀(Ag)材料構成的金屬總線電極4b、5b相接觸的第一電介質層81中,抑制變黃現象和氣泡發(fā)生,利用在第一電介質層81上設置的第二電介質層82,實現較高的光透過率。因此,能夠實現整個電介質層8極少發(fā)生氣泡和變黃的、透過率較高的PDP。
(實施例) 本發(fā)明實施方式的PDP,放電室的障壁的高度是0.15mm,障壁的間隔(放電室間距)是0.15mm、顯示電極的電極間距離是0.06mm,以封入壓60kPa封入Xe的含量是體積比為15%的Ne-Xe系的混合氣體,制作這樣適用于42英寸高清晰度電視的PDP,評價其性能。
制作下附表1和表2所示材料成分的第一電介質層和第二電介質層,組合這些電介質層,制作如表3所示條件的PDP。表3中,本發(fā)明實施方式的PDP的實施例由面板編號1~26表示,比較例由面板編號27~30表示。且,表1和表2中材料成分的樣品No.A12、A13、B6、B7也是與本發(fā)明比較的比較例。另外,如表1和表2內所示的材料成分的項目“其它、材料成分”,是如前述的氧化鋅(ZnO)、氧化硼(B2O3)、氧化硅(SiO2)、氧化鋁(Al2O3)等的不含鉛成分的材料成分,這些材料成分的含量沒有特別限定,在現有技術的材料成分的含量范圍內。
表1
*樣品No.A12和樣品No.A13是比較例 *“其它材料成分”不含鉛成分 表2
*樣品No.B6和樣品No.B7是比較例 *“其它材料成分”不含鉛成分 表3 *面板編號20~23是比較例 如表1~表3所述,面板編號1~23的PDP,在銀(Ag)材料構成的金屬總線電極4b、5b上,由第一電介質層81覆蓋,第一電介質層81是用含有下述成分的電介質玻璃在560℃~590℃下焙燒得到的至少包含重量比為20%~40%的氧化鉍(Bi2O3)以及重量比為0.1%~7%的從氧化鉬(MoO3)、氧化鎢(WO3)、氧化鈰(CeO2)、氧化錳(MnO2)中選擇的至少一種成分,而且其膜厚是5μm~15μm。且,在此第一電介質層81上形成第二電介質層82,第二電介質層82是這樣形成的使用至少含有重量比為11%~20%的氧化鉍(Bi2O3)以及重量比為0.1%~7%的從氧化鉬(MoO3)、氧化鎢(WO3)、氧化鈰(CeO2)中選擇的至少一種成分的電介質玻璃,在550℃~570℃下焙燒,形成厚度為20μm~35μm的第二電介質層82。
面板編號20、21的PDP是,構成表1所示的第一電介質層81的電介質玻璃中的氧化鉍(Bi2O3)的含量較小的情況下,不包含氧化鉬(MoO3)、氧化鎢(WO3)、氧化鈰(CeO2)、氧化錳(MnO2)中任一個的情況下的結果;面板編號29、30的PDP,是構成第二電介質層82的電介質玻璃中的氧化鉍(Bi2O3)的含量較多的情況下,不包含氧化鉬(MoO3)、氧化鎢(WO3)、氧化鈰(CeO2)中任一個的情況下的結果。
制作這些面板編號1~23的PDP,進行以下項目的評價,其評價結果在表3中表示。首先,用光譜儀測量前面板2的透過率。測量是從前面玻璃基板3的透過率中減去電極的影響,求得電介質層8的實際透過率。
且,用色彩計(Minolta公司制造的CR-300)測量由于銀(Ag)引起的變黃的程度,測量表示黃色的程度的b*值。變黃對PDP的顯示性能產生影響的b*值的閾值是b*=3,此值越大,則變黃越醒目,導致色溫度降低,PDP的效果不理想。
而且,將面板編號1~23的PDP各制作20個,進行加速老化試驗。加速老化試驗是在放電維持電壓200V,頻率50kHz下4小時連續(xù)放電。然后,評價電介質層已破壞的(絕緣耐壓缺陷)PDP有多少個。因為絕緣耐壓缺陷是由電介質層8中發(fā)生的氣泡等的缺陷而引發(fā)的,所以可以認為,發(fā)生絕緣破壞的面板的電介質層8較多發(fā)生氣泡。
由表3的結果可知,在對應于本發(fā)明實施方式的PDP的面板編號1~19的PDP中,銀(Ag)引起的變黃及氣泡的發(fā)生被抑制,電介質層的可見光透過率高達86%~91%,而且,與變黃相關的b*值也低到1.7~2.8,也沒有加速老化試驗后的絕緣破壞。
相反,第一電介質層的電介質玻璃中的氧化鉍(Bi2O3)少至重量比為15%的面板編號20的PDP中,表示變黃程度的b*值小到2.1,但是,因為電介質玻璃的流動性變差,所以與顯示電極及前面玻璃基板之間的粘著性惡化,特別是在界面上發(fā)生氣泡。因此,加速老化試驗后的絕緣破壞變多。而且,第一電介質層的電介質玻璃中不含氧化鉬(MoO3)、氧化鎢(WO3)、氧化鈰(CeO2)、二氧化錳(MnO2)的面板編號21中,變黃程度大,因此氣泡的發(fā)生及絕緣破壞變多。
而且,第二電介質層的電介質玻璃中的氧化鉍(Bi2O3)的含量較多的面板編號22中,可見光透過率下降,同時,電介質層中的氣泡變多。另一方面,第二電介質層的電介質玻璃中的氧化鉍(Bi2O3)的含量少,不含氧化鉬(MoO3)、氧化鎢(WO3)、氧化鈰(CeO2)的面板編號23中,可見光透過率良好,但是因為玻璃的流動性較差,所以較多發(fā)生氣泡,絕緣破壞顯著增加。
另外,電介質材料中,上述各材料成分的含量數值存在重量比±0.5%左右的測量誤差,焙燒后的電介質層中,存在重量比±2%左右的測量誤差。包含此誤差的數值范圍的含量的材料成分也能得到與本發(fā)明相同的效果。
如上所述本發(fā)明實施方式的PDP能夠提供,電介質層的可見光透過率高,絕緣耐壓性能高,而且不含鉛成分的環(huán)保的PDP。
工業(yè)可利用性 如上所述本發(fā)明的PDP,提供了一種電介質層不變黃及絕緣耐壓性能不劣化,而且環(huán)保的顯示質量高的PDP,在大畫面顯示裝置等中有用。
權利要求
1、一種等離子顯示面板,由在玻璃基板上形成有顯示電極和電介質層和保護層的前面板,和在基板上形成有電極和障壁和熒光體層的背面板,兩者相對配置而且外圍密封以形成放電空間,所述等離子顯示面板的特征在于
所述顯示電極至少含有銀,所述電介質層含有氧化鉍且含有氧化鉬、氧化鈰及氧化鎢中的至少一種。
2、根據權利要求1所述的等離子顯示面板,其特征在于
所述電介質層含有重量比為0.1%以上且7%以下的在氧化鉬、氧化鈰及氧化鎢中選擇的至少一種成分。
3、根據權利要求1或2所述的等離子體顯示板,其特征在于
所述電介質層包含在氧化鋅、氧化硼、氧化硅、氧化鋁、氧化鈣、氧化鍶、氧化鋇及氧化錳中選擇的至少一種成分。
4、根據權利要求1或2所述的等離子體顯示板,其特征在于
所述電介質層由覆蓋所述顯示電極的第一電介質層以及覆蓋所述第一電介質層的第二電介質層構成,所述第二電介質層的氧化鉍的重量含量比所述第一電介質層的氧化鉍的重量含量少。
5、根據權利要求3所述的等離子顯示面板,其特征在于
所述第一電介質層包含重量比為20%以上且40%以下的氧化鉍。
6、根據權利要求3所述的等離子顯示面板,其特征在于
所述第二電介質層包含重量比為11%以上且20%以下的氧化鉍。
全文摘要
本發(fā)明提供一種等離子顯示面板,由在前面玻璃基板(3)上形成有顯示電極(6)、電介質層(8)和保護層(9)的前面板(2),和基板上形成有電極、障壁和熒光體層的背面板,兩者相對配置而且外圍密封以形成放電空間,顯示電極(6)至少含有銀,而且,電介質層(8)含有氧化鉍且含有氧化鉬、氧化鈰及氧化鎢中的至少一種。
文檔編號H01J11/12GK101651073SQ200910166078
公開日2010年2月17日 申請日期2006年9月27日 優(yōu)先權日2005年10月3日
發(fā)明者河瀨覺, 森岡一裕, 橫田和弘, 齋藤唯, 三舩達雄 申請人:松下電器產業(yè)株式會社
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