專利名稱：濾光器及其制造方法及包括濾光器的等離子顯示設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及濾光器、包括濾光器的等離子顯示設(shè)備及濾光器的制造方法。特別是，本發(fā)明所涉及的濾光器能夠改善內(nèi)部光亮度，而最小化外部光反射。
背景技術(shù)：
通常，等離子顯示裝置歸屬于平板顯示裝置，能夠利用氣體放電現(xiàn)象顯示圖像，因此，與傳統(tǒng)的顯示裝置相比，提供上好的顯示特征，例如高亮度和對(duì)比度、少殘留圖像、寬視角及薄顯示結(jié)構(gòu)。
傳統(tǒng)的等離子顯示裝置可以包括帶有多個(gè)薄層的濾光器。傳統(tǒng)的濾光器可以連接到等離子顯示裝置的前基板來(lái)控制光的傳輸，并且因此改善等離子顯示裝置的圖像質(zhì)量和清晰度。傳統(tǒng)的濾光器可以包括鋼化玻璃濾光器(tempered glass filter)，用不同于等離子顯示裝置前基板的材料形成約3mm的均勻厚度。
然而，鋼化玻璃濾光器的厚度可以引人注意地增加傳統(tǒng)等離子顯示裝置的重量和制造成本。更為重要的是，用于形成等離子顯示裝置的鋼化玻璃濾光器和前基板的材料差別由于折射可以產(chǎn)生雙重反射，因此降低了等離子顯示裝置的圖像質(zhì)量。另外，傳統(tǒng)的鋼化玻璃濾光器可以表現(xiàn)出不足的亮室對(duì)比度，并且包括復(fù)雜的制造方法，這是由于復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，即組合的過(guò)濾器執(zhí)行其各種功能。
因此，存在為等離子顯示設(shè)備提供一種能夠增加亮度和亮室對(duì)比度(bright room contrast)而最小化光反射的濾光器的需要。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明針對(duì)于濾光器和等離子顯示裝置，其基本上克服了相關(guān)技術(shù)的一個(gè)或多個(gè)缺點(diǎn)。
因此，本發(fā)明實(shí)施例的特征是所提供的濾光器能夠改善亮度和亮室對(duì)比度，而最小化光反射。
因此，本發(fā)明實(shí)施例的另一個(gè)特征是所提供的濾光器減輕了重量。
本發(fā)明實(shí)施例的再一個(gè)特征是所提供的濾光器具有簡(jiǎn)單結(jié)構(gòu)，與低成本制造相兼容。
本發(fā)明實(shí)施例的又一個(gè)特征是所提供的等離子顯示裝置具有表現(xiàn)一個(gè)或多個(gè)上面特征的濾光器。
本發(fā)明實(shí)施例的還一個(gè)特征是提供表現(xiàn)上面一個(gè)或多個(gè)特征的濾光器的制造方法。
本發(fā)明上述的和其他的特征和優(yōu)點(diǎn)中的至少一個(gè)可以通過(guò)提供濾光器予以實(shí)現(xiàn)，其包括基膜；多個(gè)光吸收單元，在基膜中彼此等間隔隔開(kāi)；和在基膜上的聚焦層，該聚焦層具有帶有多個(gè)突起形狀的前表面。
光吸收單元的寬度可以為其高度的約0.1至約3.0倍。每個(gè)光吸收單元可以對(duì)應(yīng)于聚焦層各突起形狀的中心。每個(gè)光吸收單元的前表面可以與聚焦層耦合(in communication with)?；鶎涌梢园ㄖ珓┗蝾伭暇劢箤拥耐黄鹂梢允情L(zhǎng)脊。作為選擇，聚焦層的突起可以為半球。
該濾光器還可以包括抗反射層?？狗瓷鋵涌梢园ㄓ餐糠蟛牧?。作為選擇，濾光器可以包括在抗反射層上的硬涂敷材料。另外，濾光器可以包括電磁波防護(hù)層、至少一個(gè)粘合劑層、近紅外線屏蔽層、顏色校正層或他們的結(jié)合。
在本發(fā)明的另一個(gè)方面中，提供等離子顯示裝置，其包括等離子顯示板、在等離子顯示板后表面上的底架、在底架基礎(chǔ)后表面上并且電連接到等離子顯示板的至少一個(gè)驅(qū)動(dòng)電路板及在等離子顯示板前表面上的濾光器，其中濾光器包括基膜、在基膜中彼此等間隔隔開(kāi)的多個(gè)光吸收單元和在基膜上的聚焦層，該聚焦層具有帶有多個(gè)突起形狀的前表面。聚焦層的突起形狀可以是長(zhǎng)脊。作為選擇，聚焦層的突起形狀可以為半球。
在本發(fā)明的再一個(gè)方面中，提供濾光器的制造方法，其包括在具有導(dǎo)電性的基板上設(shè)置光致抗蝕劑層，在光致抗蝕劑層中形成涂敷圖案，在涂敷圖案中沉積金屬層，去除光致抗蝕劑層，氧化金屬層以形成光吸收單元，將帶有多個(gè)可見(jiàn)光線聚焦單元的聚焦層粘合到光吸收單元，從基板上分離光吸收單元，以及形成與光吸收單元和聚焦層后表面耦合的基膜層。
形成涂敷圖案可以包括部分地暴露光致抗蝕劑層。形成涂敷圖案可以包括在光致抗蝕劑層上形成彼此等間隔隔開(kāi)的條形槽。作為選擇，形成涂敷圖案可以包括形成以預(yù)定直徑的垂直縫隙，該垂直縫隙在光致抗蝕劑層上彼此等間隔隔開(kāi)。
沉積金屬層可以包括采用銅。氧化金屬層可以包括在堿性溶液中沉浸金屬層。
可見(jiàn)光線聚焦單元可以通過(guò)在模中熔化透明樹(shù)脂并且施壓或者通過(guò)在花紋輥模中擠壓加熱的樹(shù)脂由聚焦層上表面以等間隔形成?？梢?jiàn)光線聚焦單元可以形成為長(zhǎng)脊?？梢?jiàn)光線聚焦單元可以形成為多個(gè)微透鏡。粘合聚焦層到光吸收單元可以包括在其間設(shè)置粘合劑層。粘合聚焦層到光吸收單元可以包括粘合每個(gè)光吸收單元到各自的可見(jiàn)光線聚焦單元的中心。
該方法還可以包括在基膜中設(shè)置著色劑和顏料。另外，該方法可以包括形成抗反射層、電磁波防護(hù)層、粘合劑層、近紅外線屏蔽層、顏色校正層或他們的結(jié)合。


參照附圖，通過(guò)詳細(xì)描述其中的示范性實(shí)施例，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，本發(fā)明上述的和其他特征及優(yōu)點(diǎn)將變得更為明顯易懂，其中圖1圖解了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光器的局部透視圖；圖2圖解了沿著圖1中II-II線剖取的截面圖；圖3圖解了根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的濾光器的局部透視圖；圖4圖解了沿著圖3中IV-IV線剖取的截面圖；圖5圖解了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光器光學(xué)機(jī)構(gòu)的截面圖；圖6圖解了根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施例的濾光器的截面圖；圖7圖解了根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的具有濾光器的等離子顯示裝置的分解透視圖；圖8圖解了沿著圖7中IIIV-IIIV線剖取的截面圖；圖9-16圖解了在制造根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光器期間順序步驟的截面圖。
具體實(shí)施例方式
2006年3月28日在韓國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提出申請(qǐng)的韓國(guó)專利10-2006-0028134和10-2006-0028135號(hào)，題目為“濾光器、包括濾光器的等離子顯示設(shè)備及濾光器的制造方法(Filter，Plasma Display Device Includingthe Same and Method of Manufacturing the Filter)”在此全文引入。
在下文，將參照附圖全面地描述本發(fā)明，其中圖解了本發(fā)明的實(shí)施例。然而，本發(fā)明可以以不同的形式予以實(shí)施，而不應(yīng)該解釋成局限于在此闡述的實(shí)施例。相反，提供這些實(shí)施例，從而使本揭示透徹和完整，并且將向本領(lǐng)域的技術(shù)人員全面交流本發(fā)明的范圍。
為了圖解的清楚起見(jiàn)，圖中層和區(qū)的尺寸可以夸張。還應(yīng)該理解的是，當(dāng)層或者元件稱為在另一層或基板“之上”(“on”)時(shí)，其可以直接在其他層或基板上，或者也可以存在間插層。此外，還應(yīng)該理解的是，當(dāng)一層稱為在另一層“之下”(“under”)時(shí)，其可以直接在下面，并且也可以存在一個(gè)或多個(gè)間插層。另外，還應(yīng)該理解的是，當(dāng)一層稱為在兩層“之間”(“between”)時(shí)，其可以是在該兩層之間的僅有層，或者還可以存在一個(gè)或多個(gè)間插層。相同的參考標(biāo)記通篇指代相同的元件。
根據(jù)本發(fā)明的濾光器的示范性實(shí)施例可以安裝在等離子顯示裝置(PDP)的前面板上，并且將參見(jiàn)圖1-2詳細(xì)描述如下。如圖1所示，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光器10可以包括基膜30、多個(gè)光吸收單元11a和聚焦層21。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光器10的基膜30可以具有平面形狀，例如板狀?；?0可以是柔性的，并且厚度為約50μm至約500μm。優(yōu)選地，基膜30的厚度可以是約80μm至約400μm。在約50μm以下的厚度可能對(duì)PDP的沖擊和散射保護(hù)不足。在約500μm以上的厚度可能降低疊層的效率。
基膜30的后表面可以連接到PDP的前面板，對(duì)此應(yīng)該注意的是，在此使用的相對(duì)于元件方位的“后”和“前”，分別是指對(duì)元件所處遠(yuǎn)離和靠近外部的表面，即相對(duì)于觀看PDP的人相距距離的遠(yuǎn)和近，如圖1所示?；?0可以由能夠傳輸可見(jiàn)光并且粘合到玻璃或塑料的任何柔軟、透明的材料制成，塑料為例如聚醚(PES)、丙烯酸酯(PAR)、聚醚酰亞胺(PEI)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚酯(PET)、聚苯硫醚(PPS)、聚稀丙酯(polyallylate)、聚酰亞胺、對(duì)苯二酸鹽(PET)、三醋酸纖維素(TAC)、醋酸-丙酸纖維素(CAP)等。優(yōu)選地，可以采用PC、PET、TAC和PEN?；?0還可以包括能夠防護(hù)近紅外線或氖光的材料。
基膜30還可以包括顏色校正的材料?；?0可以具有預(yù)定的顏色，以使得容易控制傳輸通過(guò)濾光器10的光，即經(jīng)由基膜30的顏色調(diào)整器控制。例如，深色基膜30的形成可以減少傳輸通過(guò)濾光器10的光。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例，基膜30的顏色可以形成為對(duì)應(yīng)于具有本發(fā)明的濾光器的PDP的各子像素的圖案。根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光器10的光吸收單元11a可以垂直地設(shè)置在基膜30的前表面上，并且彼此基本上以等間隔隔開(kāi)，如圖1-2所示。特別是，光吸收單元11a可以沿著x-軸設(shè)置成縱向圖案，使得光吸收單元11a的前表面和基膜30的前表面可以對(duì)準(zhǔn)，即形成一致的表面。光吸收單元11a可以由展現(xiàn)高光吸收性的深色材料形成，以在此增強(qiáng)光的吸收。
光吸收單元11a的寬度可以為w，即沿著z-軸量得的距離，其等于高度h的約0.1至約3.0倍，h即沿著其y-軸量得的距離。光吸收單元11a的寬度w小于其高度h的約0.1倍時(shí)，其提供的外部光吸收可能不足，因此增加了光反射。光吸收單元11a的寬度w大于其高度h的3.0倍時(shí)，可能造成過(guò)多地吸收從PDP發(fā)射的內(nèi)部光，因此使亮度減小。
根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施例的濾光器10的聚焦層21可以設(shè)置在基膜30的前表面上，并且與光吸收單元11a耦合，使得基膜30可以設(shè)置在PDP的前基板和聚焦層21之間。聚焦層21可以由能傳輸可見(jiàn)光的材料制成，方法為例如，在模中壓熔化的環(huán)氧樹(shù)脂，在擠壓機(jī)中加熱環(huán)氧樹(shù)脂然后在壓花輥中對(duì)其施壓，環(huán)氧樹(shù)脂在紫外線下曝光并局部固化，等等。
聚焦層21可以形成為透鏡結(jié)構(gòu)(lenticular structure)。該透鏡結(jié)構(gòu)可以包括多個(gè)長(zhǎng)脊21a，其在y-z平面具有半圓截面，而在x-z和x-y平面為矩形截面，如圖1所示。長(zhǎng)脊21a可以設(shè)置在一個(gè)層中，并且彼此等間隔隔開(kāi)。多個(gè)溝槽21b可以形成在長(zhǎng)脊21a之間，即一個(gè)溝槽21b可以形成在每?jī)蓚€(gè)長(zhǎng)脊21a之間，使得溝槽21b、長(zhǎng)脊21a和基膜30的長(zhǎng)度即在x-軸量得的距離相等。每個(gè)溝槽21b的寬度可以基本上短于每個(gè)長(zhǎng)脊21a的寬度，如圖1所示。聚焦層21的長(zhǎng)脊21a可以形成在其前表面中，使得聚焦層21的后表面可以是一致的平面，并且與基膜30和光吸收單元11a耦合，還如圖1所示。光吸收單元11a可以與聚焦層21的各半圓截面的中心對(duì)準(zhǔn)，即在相同的垂直軸上。
根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例，如圖3-4所示的濾光器50可以包括基膜30、多個(gè)光吸收?qǐng)D案單元11b和聚焦層22。
濾光器50的基膜30可以與前面參照?qǐng)D1-2描述的濾光器10的基膜30相同，因此在此不詳細(xì)描述。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光器50的光吸收單元11b可以設(shè)置在基膜30的前表面中，并且彼此基本上等間隔隔開(kāi)。特別是，如圖3-4所示，光吸收單元11b可以形成為在基膜30中的帶有預(yù)定直徑的垂直即沿y-軸的棒，使得光吸收單元11b的前表面和基膜30的前表面可以對(duì)準(zhǔn)，即形成一致的表面。光吸收?qǐng)D案單元11b可以由呈現(xiàn)光吸收性的深色材料制成，以在此增強(qiáng)光吸收。
光吸收?qǐng)D案單元11b的寬度可以等于其高度的約0.1至約3.0倍。光吸收單元11b的寬度小于其高度的約0.1倍時(shí)，可能造成不足的外部光吸收，因此增加了光反射。光吸收單元11b的寬度大于其高度的約3.0倍時(shí)，可能造成過(guò)多地吸收從PDP發(fā)射的內(nèi)部光，因此減小亮度。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光器50的聚焦層22可以設(shè)置在基膜30的前表面上，并且與光吸收單元11b耦合，使得基膜30可以設(shè)置在PDP的前基板和聚焦層22之間。聚焦層22可以由能夠傳輸可見(jiàn)光的材料制成，其方法為例如，在模中壓熔化的環(huán)氧樹(shù)脂，在擠壓機(jī)中加熱環(huán)氧樹(shù)脂然后在壓花輥中對(duì)其施壓，使環(huán)氧樹(shù)脂在紫外線下曝光并且局部固化，等等。
聚焦層22可以包括多個(gè)微透鏡22a，其成型為半球形突起的突出物，每個(gè)微透鏡具有y-z和x-y平面中的半圓截面，以及x-z平面中的圓形截面，如圖3所示。微透鏡22a可以布置成預(yù)定的圖案，例如矩陣，使得在每?jī)蓚€(gè)微透鏡22a之間的間隔22b可以小于每個(gè)微透鏡22a的寬度，如圖3所示。聚焦層22的微透鏡22a可以形成在其前表面中，使得聚焦層22的后表面可以是一致的平面，并且與基膜30和光吸收單元11b耦合，還如圖3所示。光吸收單元11b可以與聚焦層22的微透鏡22a的各個(gè)中心對(duì)準(zhǔn)，即在相同的垂直軸上。
下面將參照?qǐng)D5更詳細(xì)地描述根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光器的光學(xué)機(jī)構(gòu)，即光在其中反射和傳輸。應(yīng)該注意的是，在下面的說(shuō)明中，“濾光器”可以是指前面參照?qǐng)D1-4描述的濾光器10或?yàn)V光器50。類似地，“光吸收單元”可以是指光吸收單元11a或11b，而“聚焦層”可以是指聚焦層21或聚焦層22。
在PDP中產(chǎn)生并從其中發(fā)射的光可以從PDP的前面板朝著濾光器的基膜30投射。所投射光的第一部分L1可以入射在光吸收單元上，因此在其中被吸收。所投射光的第二部分和第三部分L2和L3可以通過(guò)基膜30朝著聚焦層傳輸。在聚焦層和外部之間的界面上，所投射光的第二部分L2可以入射在平行于基膜30的表面上，因此垂直于聚焦層地從濾光器射出。所投射光的第三部分L3可以入射在不平行于基膜30的表面上，即長(zhǎng)脊21a或微透鏡22a，因此被折射，并且以預(yù)定的方向聚焦。如圖5所示，從PDP通過(guò)一個(gè)長(zhǎng)脊21a或一個(gè)微透鏡22a投射的多個(gè)光束聚焦在一個(gè)方向上，該方向可以與沿著各長(zhǎng)脊21a或微透鏡22a的垂直方向的中心軸相重疊，并且與沿著各光吸收單元的垂直方向的中心軸相重疊。另一方面，入射在濾光器前表面即聚焦層的長(zhǎng)脊21a或微透鏡22a上的外部光(未示出)，可以通過(guò)聚焦層散射。外部光的一部分可以通過(guò)聚焦層傳輸，并且通過(guò)光吸收單元吸收。
根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施例，如圖6所示，濾光器60可以類似于前面參照?qǐng)D1-2描述的濾光器10或前面參照?qǐng)D3-4描述的濾光器50，除了濾光器60可以另外包括沉積在濾光器60上的多個(gè)功能層。特別是，濾光器60可以包括電磁波防護(hù)層41和抗反射層42。電磁波防護(hù)層41和抗反射層42可以沉積在濾光器60之前面或在濾光器60之后面，如圖6所示。
電磁波防護(hù)層41可以通過(guò)在金屬氧化物層上沉積至少一個(gè)金屬層來(lái)形成，從而金屬氧化物層可以減小金屬層的氧化或退化。作為選擇，電磁波防護(hù)層41可以由多層形成，例如約五到十一層，以便調(diào)整表面電阻和控制可見(jiàn)光的傳輸。作為另一種選擇，電磁波防護(hù)層41可以形成為導(dǎo)電金屬網(wǎng)。電磁波防護(hù)層41可以提供防護(hù)由具有濾光器的PDP產(chǎn)生的有害電磁波和近紅外光，因此減少了對(duì)人類健康的潛在風(fēng)險(xiǎn)，并且降低了外圍電子設(shè)備的故障。
電磁波防護(hù)層41的金屬層可以包括鈀、銅、鉑、銠、鋁、鐵、鈷、鎳、鋅、釕、錫、鎢、銥、鉛、銀或他們的組合。電磁波防護(hù)層41的金屬氧化物層可以包括氧化錫、氧化銦、氧化銻、氧化鋅、氧化鋯、氧化鈦、氧化鎂、氧化硅、氧化鋁、金屬醇鹽、氧化銦錫或氧化銻錫。電磁波防護(hù)層41可以通過(guò)濺射、真空沉積、離子鍍、化學(xué)氣相沉積(CVD)或物理氣相沉積等方法形成在濾光器上，例如在基膜30的后表面上?？梢栽谀?3形成在圖6的基膜30后表面上后形成電磁波防護(hù)層41，即膜層43可以設(shè)置在電磁波防護(hù)層41和基膜30之間。
抗反射層42可以散射在濾光器60表面上的入射光而可以減小光反射。對(duì)此，應(yīng)該注意的是，不能在傳統(tǒng)的鋼化玻璃濾光器中形成抗反射層，這是因?yàn)樵赑DP的前面板和傳統(tǒng)鋼化玻璃的后表面之間的縫隙可能降低圖像清晰度。然而，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光器60可以是有利的，這是由于直接將濾光器60連接或粘合到顯示裝置的前面板的可能性，因此保持了適當(dāng)?shù)膱D像清晰度，并且使得容易采用抗反射層42。
抗反射層42可以包括硬涂敷材料，以減小外部沖擊的損害，例如擦傷。作為選擇，硬涂敷膜(未示出)可以形成為在抗反射層42上的單獨(dú)層。硬涂敷材料可以包括用作粘接劑的聚合物。例如，聚合物粘接劑可以包括丙烯酸酯、氨基甲酸乙脂、環(huán)氧樹(shù)脂、硅氧烷聚合物，或紫外線固化樹(shù)脂，如低聚物。另外，填料例如氧化硅可以加入硬涂敷材料中，以增加其硬度。
抗反射層42可以設(shè)置在濾光器60的基膜30上，厚度為約2.0μm至約7.0μm，并且呈現(xiàn)出約2H至約3H鉛筆的硬度。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光器60還可以包括粘合劑層44。粘合劑層44可以形成在電磁波防護(hù)層41和抗反射層42之間，以改善其間的粘合。粘合劑層44可以由熱塑性塑料、紫外線固化樹(shù)脂例如丙烯酸酯樹(shù)脂或壓感粘合劑形成，形成方法為浸漬涂布、空氣刀涂布、輥涂布、線棒涂布、照相凹板式涂敷(gravure coating)等。粘合劑層44還可以包括吸收近紅外線的化合物，例如銅基化合物、磷基化合物、含硫尿素衍生物(THIO urea derivative)、鎢基化合物和青色素基(cyanine-based)化合物。另外，為了通過(guò)屏蔽氖光校正顏色，粘合劑層44可以包括能夠吸收約400nm至約700nm光的顏色材料，例如著色劑或顏料，如花青(cyanine)、方酸菁染料(squarylium)、甲亞胺(azomethine)、氧雜蔥(xanthene)、oxonol染料和偶氮基化合物(azo compound)。顏色材料可以以擴(kuò)散粒子的形式包括在粘合劑層44中。
附加粘合劑層(未示出)可以形成在抗反射層42上，例如作為濾光器60的后表面上的外層，以便增強(qiáng)在濾光器60和PDP前面之間的粘合力。附加粘合劑層可以類似于粘合劑層44。對(duì)此，應(yīng)該注意的是，附加粘合劑層和顯示板的折射指數(shù)之間的差別不可以超過(guò)預(yù)定量，例如約0.1％，以便減小雙重反射。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光器60還可以包括近紅外線屏蔽層(未示出)和/或顏色校正層(未示出)。電磁波防護(hù)層41、粘合劑層44和附加粘合劑層可以屏蔽近紅外線。然而，屏蔽近紅外線的附加層可以提供加強(qiáng)的保護(hù)。當(dāng)包括根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光器的顯示裝置所發(fā)射的可見(jiàn)光色純度低或要求調(diào)整色溫時(shí)，可以使用顏色校正層。
根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光器60可以呈現(xiàn)出約30.0％以上的光透射率，霾(haze)少于5.0％。
根據(jù)本發(fā)明又一實(shí)施例，如圖7-8所示，等離子顯示裝置100可以包括前面參照?qǐng)D1-3所描述的濾光器10。特別是，等離子顯示裝置100可以包括帶有彼此連接的前面板151和后面板152的PDP150、底架130、多個(gè)驅(qū)動(dòng)電路板140和濾光器10。然而，應(yīng)該注意的是，盡管等離子顯示裝置100描述成與濾光器10連接，但是其他形式的濾光器例如濾光器50和濾光器60不排除在本發(fā)明的范圍之外。
濾光器10可以通過(guò)粘合劑層(未示出)連接到PDP的前面板151。濾光器10與PDP150的連接可以減少PDP產(chǎn)生的電磁波和紅外光，并且在此基本上減少了圖像的雙重反射。另外，與帶有鋼化玻璃濾光器(tempered glassfilter)的傳統(tǒng)PDP相比，在PDP150中采用濾光器組件10可以減輕重量，并且降低制造成本。
底架130可以通過(guò)粘合方法例如雙面膠帶154連接到PDP150的后面板152，以在其上提供結(jié)構(gòu)支撐。底架130可以由剛性金屬如鋁、鐵或類似金屬或者塑料形成。導(dǎo)熱材料153可以設(shè)置在底架130和PDP150之間，以便散發(fā)PDP150產(chǎn)生的熱。
驅(qū)動(dòng)電路板140可以設(shè)置在底架130的后表面上，即使得底架130可以設(shè)置在PDP150和電路板140之間，以驅(qū)動(dòng)PDP150。特別是，驅(qū)動(dòng)電路板140可以用如本領(lǐng)域普通技術(shù)人員所確定的任何合適的傳遞方式傳遞電信號(hào)到PDP150，例如柔性印刷電纜(FPC)、帶載封裝(TCP)和膜上芯片(COF)等。例如，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的等離子顯示裝置100可以包括多個(gè)設(shè)置在底架130的每個(gè)垂直側(cè)面上的FPC161和設(shè)置在底架130的每個(gè)水平側(cè)面即上部和下部上的TCP160，作為信號(hào)傳遞方式。
在本發(fā)明中，所描述的等離子顯示裝置作為采用根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光器的顯示裝置的實(shí)例。然而，其他的顯示裝置不排除在本發(fā)明的范圍之外。
根據(jù)本發(fā)明的再一實(shí)施例，如圖9-16所示，根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光器的制造方法如下。
首先，光致抗蝕劑層80可以形成在金屬基板70上，如圖9所示。接下來(lái)，光致抗蝕劑層80可以經(jīng)受局部曝光和顯影，以形成其中的涂敷圖案81，如圖10所示，寬度等于其高度的約0.1至約3.0倍。對(duì)此，應(yīng)該注意的是，如果濾光器的聚焦層包括透鏡結(jié)構(gòu)，則涂敷圖案81可以形成為彼此等間隔隔開(kāi)的條形槽。作為選擇，如果濾光器的聚焦層為多個(gè)微透鏡，則涂敷圖案81可以形成為具有預(yù)定直徑并且彼此等間隔隔開(kāi)的垂直縫隙。
隨后，如圖11所示，呈現(xiàn)高光吸收性的金屬層例如銅可以設(shè)置在涂敷圖案81中，即光致抗蝕劑80的部分之間，以形成多個(gè)光吸收單元11a或11b。所形成的金屬層，即多個(gè)光吸收單元11a或11b可以比用薄膜方法形成的金屬層具有更高的長(zhǎng)度直徑比(slenderness)。
接下來(lái)，可以去除光致抗蝕劑層80，如圖12所示。通過(guò)例如將多個(gè)光吸收單元11a或11b沉浸在堿性溶液中，如圖13所示，多個(gè)光吸收單元11a或11b可以被氧化成呈現(xiàn)深顏色。
接下來(lái)，通過(guò)在聚焦層和金屬層之間設(shè)置粘合劑層，聚焦層可以粘接到金屬層上，如圖14所示。聚焦層可以處理成在其中形成可見(jiàn)光線的聚焦單元。換言之，多個(gè)長(zhǎng)脊或微透鏡可以通過(guò)在模中熔化透明樹(shù)脂并施壓或在壓花輥模中擠壓加熱的樹(shù)脂在聚焦層的上表面等間隔地形成。聚焦層21或22可以具有例如透鏡結(jié)構(gòu)或微透鏡矩陣結(jié)構(gòu)。
可見(jiàn)光線聚焦單元即聚焦層的多個(gè)長(zhǎng)脊或微透鏡可以形成為，使其彎曲部分可以與外部耦合。此外，可見(jiàn)光線聚焦單元可以形成為對(duì)應(yīng)于各自光吸收單元11a或11b。更具體地講，如果聚焦層包括透鏡結(jié)構(gòu)(lenticularstructure)，則每個(gè)光吸收單元11a可以對(duì)應(yīng)于各自的長(zhǎng)脊21a的中心。作為選擇，如果聚焦層包括多個(gè)微透鏡22a，則每個(gè)光吸收單元11b可以對(duì)應(yīng)于各自的微透鏡22a的中心。
接下來(lái)，基板70可以與光吸收單元11a或11b分開(kāi)，如圖15所示。隨后，基膜30可以形成為與聚焦層和光吸收單元11a或11b的后表面耦合，如圖16所示，以便完成濾光器10或50的形成。
對(duì)此，應(yīng)該注意的是，上面參照?qǐng)D9-16所描述的濾光器的制造方法可以對(duì)應(yīng)于圖1-4所示的濾光器10和50的形成。然而，圖6所示的濾光器60的形成還可以包括在基膜30中填加著色劑或顏料，以便于顏色的控制和光透射，并且包括沉積抗反射層、電磁波防護(hù)層、近紅外線屏蔽層、顏色校正層或他們的組合。
在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光器和包括濾光器的等離子顯示裝置中，濾光器可以直接連接到PDP的前面板，因此減少了雙重反射，并且增強(qiáng)其亮度。特別是，由于采用了深色光吸收單元，可以減少外部光反射，因此進(jìn)一步改善了亮室對(duì)比度。亮度可以增強(qiáng)，這是由于所采用的聚焦層能夠?qū)DP發(fā)射的可見(jiàn)光聚焦成一個(gè)方向。另外，濾光器可以采用相對(duì)薄的基膜形成，因此減輕其總重，并且增強(qiáng)其透射率。
在根據(jù)本發(fā)明實(shí)施例的濾光器的制造方法中，具有改善亮室對(duì)比度和減少雙重反射的濾光器由于其結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，可以降低成本制造。
在此已經(jīng)揭示了本發(fā)明的示范性實(shí)施例，盡管采用了特定的術(shù)語(yǔ)，但是他們通常是并僅為一般描述意義的解釋，而不是限制的目的。因此，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)該理解的是，可以對(duì)其進(jìn)行形式上和細(xì)節(jié)上的變化，而不脫離如所附權(quán)利要求所闡明的本發(fā)明的精神和范圍。
權(quán)利要求
1.一種濾光器，包括基膜；多個(gè)光吸收單元，在該基膜中彼此等間隔隔開(kāi)；和聚焦層，在該基膜上，該聚焦層具有帶有多個(gè)突起形狀的前表面。
2.如權(quán)利要求1所述的濾光器，其中該光吸收單元的寬度是其高度的約0.1至約3.0倍。
3.如權(quán)利要求1所述的濾光器，其中每個(gè)光吸收單元對(duì)應(yīng)于該聚焦層的各自的突起形狀的中心。
4.如權(quán)利要求1所述的濾光器，其中每個(gè)光吸收單元的前表面與該聚焦層耦合。
5.如權(quán)利要求1所述的濾光器，其中該聚焦層的該突起形狀是長(zhǎng)脊形。
6.如權(quán)利要求1所述的濾光器，其中該聚焦層的該突起形狀是半球。
7.如權(quán)利要求1所述的濾光器，其中該基膜包括著色劑或顏料。
8.如權(quán)利要求1所述的濾光器，還包括抗反射層。
9.如權(quán)利要求8所述的濾光器，其中該反射層包括硬涂敷材料。
10.如權(quán)利要求8所述的濾光器，還包括在該反射層上的硬涂敷材料。
11.如權(quán)利要求1所述的濾光器，還包括電磁波防護(hù)層、至少一個(gè)粘合劑層、近紅外線屏蔽層、顏色校正層或他們的組合。
12.一種等離子顯示裝置，包括等離子顯示板；底架，在該等離子顯示板的后表面上；至少一個(gè)驅(qū)動(dòng)電路板，在該底架的后表面上，并且電連接到該等離子顯示板；和濾光器，在該等離子顯示板的前表面上，其中該濾光器包括基膜、在該基膜中彼此以等間隔隔開(kāi)的多個(gè)光吸收單元和在該基膜上的聚焦層，該聚焦層具有帶有多個(gè)突起形狀的前表面。
13.如權(quán)利要求12所述的等離子顯示裝置，其中該聚焦層的該突起形狀是長(zhǎng)脊形。
14.如權(quán)利要求12所述的等離子顯示裝置，其中該聚焦層的該突起形狀是半球。
15.一種制造濾光器的方法，包括在具有導(dǎo)電性的基板上沉積光致抗蝕劑層；在該光致抗蝕劑層中形成涂敷圖案；在該涂敷圖案中沉積金屬層；去除該光致抗蝕劑層；氧化該金屬層，以形成光吸收單元；將帶有多個(gè)可見(jiàn)光線聚焦單元的聚焦層粘合到該光吸收單元；將該光吸收單元從該基板分離；并且形成與該光吸收單元和該聚焦層的后表面耦合的基膜層。
16.如權(quán)利要求15所述的方法，其中形成涂敷圖案包括局部曝光該光致抗蝕劑層。
17.如權(quán)利要求15所述的方法，其中形成該涂敷圖案包括在該光致抗蝕劑層中形成彼此等間隔隔開(kāi)的條形槽。
18.如權(quán)利要求15所述的方法，其中形成該涂敷圖案包括形成預(yù)定直徑的垂直縫隙，該垂直縫隙在該光致抗蝕劑層上彼此等間隔隔開(kāi)。
19.如權(quán)利要求15所述的方法，其中沉積該金屬層包括沉積銅層。
20.如權(quán)利要求15所述的方法，其中氧化該金屬包括將該金屬浸在堿性溶液中。
21.如權(quán)利要求15所述的方法，其中該可見(jiàn)光線聚焦單元通過(guò)在模中熔化透明樹(shù)脂并施壓或通過(guò)在壓花輥模中擠壓加熱的樹(shù)脂由聚焦層的上表面以等間隔形成。
22.如權(quán)利要求21所述的方法，其中該可見(jiàn)光線聚焦單元形成為長(zhǎng)脊。
23.如權(quán)利要求21所述的方法，其中該可見(jiàn)光線聚焦單元形成為多個(gè)微透鏡。
24.如權(quán)利要求15所述的方法，其中將該聚焦層粘合到該光吸收單元包括在其間沉積粘合劑層。
25.如權(quán)利要求15所述的方法，其中將該聚焦層粘合到該光吸收單元包括將每個(gè)光吸收單元粘合到相應(yīng)的可見(jiàn)光線聚焦單元。
26.如權(quán)利要求15所述的方法，還包括在該基膜中沉積著色劑或顏料。
27.如權(quán)利要求15所述的方法，還包括在該濾光器上形成抗反射層、電磁波防護(hù)層、粘合劑層、近紅外線屏蔽層、顏色校正層或他們的結(jié)合。
全文摘要
一種濾光器，包括基膜、在該基膜中彼此等間隔隔開(kāi)的多個(gè)光吸收單元和在該基膜上的聚焦層。該聚焦層可以包括與該光吸收單元對(duì)準(zhǔn)的多個(gè)長(zhǎng)脊或微透鏡。本發(fā)明還涉及包括濾光器的等離子顯示設(shè)備及濾光器的制造方法。
文檔編號(hào)H01J9/00GK101047091SQ20071009143
公開(kāi)日2007年10月3日 申請(qǐng)日期2007年3月28日 優(yōu)先權(quán)日2006年3月28日
發(fā)明者車準(zhǔn)圭, 裵宰佑, 文東建, 許相烈, 吳浣錫 申請(qǐng)人:三星Sdi株式會(huì)社