一種掩膜版、接近式曝光機(jī)、彩色濾光片的制備方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明提供一種掩膜版、接近式曝光機(jī)、彩色濾光片的制備方法，屬于顯示裝置的制備技術(shù)領(lǐng)域，其可解決現(xiàn)有的接近式曝光機(jī)曝光得到的圖形尺寸大小不均一的問(wèn)題。本發(fā)明的掩膜版中多個(gè)開(kāi)口區(qū)的尺寸不同，以彌補(bǔ)曝光間距不同導(dǎo)致的曝光圖形尺寸不均勻，使得各個(gè)開(kāi)口區(qū)曝光的圖形的尺寸大小相等。本發(fā)明的掩膜版適用于各種曝光機(jī)，尤其適用于接近式曝光機(jī)。本發(fā)明的彩色濾光片的制備方法曝光圖形尺寸均勻，可以減少具體生產(chǎn)中彩色濾光片工藝調(diào)試的步驟。
【專(zhuān)利說(shuō)明】
一種掩膜版、接近式曝光機(jī)、彩色濾光片的制備方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明屬于顯示裝置的制備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種掩膜版、接近式曝光機(jī)、彩色濾光片的制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有技術(shù)中制作彩色濾光片多采用接近式曝光機(jī)曝光的方式。發(fā)明人發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中至少存在如下問(wèn)題:在使用接近式曝光機(jī)時(shí)，若如圖1所示，將掩膜版10分為邊緣區(qū)域
11、中部區(qū)域12、核心區(qū)域13，則從圖2中可以看出，由于掩膜版10自重導(dǎo)致其核心區(qū)域13向下彎曲，即在垂直方向上，會(huì)造成其核心區(qū)域13和邊緣區(qū)域11與基板I之間的間距(或稱(chēng)曝光間距)大小不一。具體的，這三個(gè)區(qū)域與基板I之間的曝光間距分別為G1、G2、G3，其曝光間距由外向內(nèi)逐漸減小，即GI >G2 >G3。結(jié)合圖3的對(duì)比圖可知，由于接近式曝光機(jī)光學(xué)系統(tǒng)曝光時(shí)受衍射角等因素的影響，曝光得到的圖形尺寸會(huì)隨著曝光間距的減小而減小，邊緣區(qū)域11、中部區(qū)域12、核心區(qū)域13曝光得到的圖形尺寸分別為⑶1、⑶2、⑶3，這樣在曝光量等工藝參數(shù)都相同的條件下，由于曝光間距G1>G2>G3，造成曝光得到的圖形尺寸大小不均一，即⑶l>OT2>ra3，從而影響彩色濾光片的質(zhì)量。
[0003]在實(shí)際生產(chǎn)工藝中，如圖4所示，上述差異表現(xiàn)為核心區(qū)域13得到的圖形尺寸⑶3較小，容易造成漏光，而邊緣區(qū)域11得到的圖形尺寸CDl較大，容易造成混色，大大增加了彩色濾光片工藝調(diào)試的難度。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有的接近式曝光機(jī)曝光得到的圖形尺寸大小不均一的問(wèn)題，提供一種掩膜版、接近式曝光機(jī)、彩色濾光片的制備方法。
[0005 ]解決本發(fā)明技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:
[0006]—種掩膜版，包括多個(gè)開(kāi)口區(qū)和多個(gè)遮光區(qū)，多個(gè)所述開(kāi)口區(qū)的尺寸不同，以使各個(gè)開(kāi)口區(qū)曝光的圖形的尺寸大小相等。
[0007]優(yōu)選的是，所述掩膜版的多個(gè)開(kāi)口區(qū)的尺寸由中心至邊緣依次減小。
[0008]優(yōu)選的是，所述掩膜版由中心至邊緣依次包括環(huán)繞中心的核心區(qū)域、中部區(qū)域、邊緣區(qū)域;所述邊緣區(qū)域的開(kāi)口區(qū)的尺寸小于所述中部區(qū)域的開(kāi)口區(qū)的尺寸。
[0009]優(yōu)選的是，所述核心區(qū)域的開(kāi)口區(qū)的尺寸大于所述中部區(qū)域的開(kāi)口區(qū)的尺寸。
[0010]優(yōu)選的是，所述邊緣區(qū)域包括與中部區(qū)域相鄰的第一邊緣區(qū)以及環(huán)繞第一邊緣區(qū)的第二邊緣區(qū)；所述第二邊緣區(qū)域的開(kāi)口區(qū)的尺寸小于所述第一邊緣區(qū)的開(kāi)口區(qū)。
[0011]優(yōu)選的是，所述中部區(qū)域包括與核心區(qū)域相鄰的第一中部區(qū)域以及環(huán)繞第一中部區(qū)域的第二中部區(qū)域，所述第二中部區(qū)域的開(kāi)口區(qū)的尺寸小于所述第一中部區(qū)域的開(kāi)口區(qū)的尺寸。
[0012 ]本發(fā)明還提供一種接近式曝光機(jī)，包括上述的掩膜版。
[0013]優(yōu)選的是，所述曝光機(jī)還包括用于支撐基板的曝光機(jī)臺(tái)，所述掩膜版與所述曝光機(jī)臺(tái)之間的間距為100-200nm O
[0014]優(yōu)選的是，所述掩膜版由石英構(gòu)成，所述掩膜版的厚度為5-20mm。
[0015]優(yōu)選的是，在豎直的方向上，所述邊緣區(qū)域與曝光機(jī)臺(tái)的間距大于所述中部區(qū)域與曝光機(jī)臺(tái)的間距。
[0016]優(yōu)選的是，在豎直的方向上，所述核心區(qū)域與曝光機(jī)臺(tái)的間距小于所述中部區(qū)域與曝光機(jī)臺(tái)的間距。
[0017]本發(fā)明還提供一種彩色濾光片的制備方法，包括在基板上形成彩膜的步驟，以及將彩膜圖案化的步驟;所述將彩膜圖案化的步驟采用上述的接近式曝光機(jī)曝光形成。
[0018]本發(fā)明的掩膜版中多個(gè)開(kāi)口區(qū)的尺寸不同，以彌補(bǔ)曝光間距不同導(dǎo)致的曝光圖形尺寸不均勻，使得各個(gè)開(kāi)口區(qū)曝光的圖形的尺寸大小相等。本發(fā)明的掩膜版適用于各種曝光機(jī)，尤其適用于接近式曝光機(jī)。本發(fā)明的彩色濾光片的制備方法曝光圖形尺寸均勻，可以減少具體生產(chǎn)中彩色濾光片工藝調(diào)試的步驟。
【附圖說(shuō)明】
[0019]圖1為現(xiàn)有的掩膜版的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖2為現(xiàn)有的掩膜版的曝光間距示意圖；
[0021 ]圖3為現(xiàn)有的掩膜版曝光得到的圖形尺寸對(duì)比示意圖；
[0022]圖4為現(xiàn)有的掩膜版曝光得到的圖形尺寸示意圖；
[0023]圖5為本發(fā)明的實(shí)施例1和實(shí)施例2的掩膜版的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖6為本發(fā)明的實(shí)施例2的掩膜版曝光得到的圖形尺寸對(duì)比示意圖；
[0025]圖7為本發(fā)明的實(shí)施例2的掩膜版曝光得到的圖形尺寸示意圖；
[0026]圖8為本發(fā)明的實(shí)施例3的接近式曝光機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0027]圖9為本發(fā)明的實(shí)施例4的彩色濾光片的制備流程圖；
[0028]其中，附圖標(biāo)記為:1、基板;10、掩膜版;11、邊緣區(qū)域;12、中部區(qū)域;13、核心區(qū)域；
2、曝光機(jī)臺(tái)；3、曝光光源。
【具體實(shí)施方式】
[0029]為使本領(lǐng)域技術(shù)人員更好地理解本發(fā)明的技術(shù)方案，下面結(jié)合附圖和【具體實(shí)施方式】對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0030]實(shí)施例1:
[0031]本實(shí)施例提供一種掩膜版10，如圖5所示，包括多個(gè)開(kāi)口區(qū)和多個(gè)遮光區(qū)，多個(gè)開(kāi)口區(qū)的尺寸不同，以使各個(gè)開(kāi)口區(qū)曝光的圖形的尺寸大小相等。
[0032]本實(shí)施例的掩膜版10中多個(gè)開(kāi)口區(qū)的尺寸不同，以彌補(bǔ)曝光間距不同導(dǎo)致的曝光圖形尺寸不均勻，使得各個(gè)開(kāi)口區(qū)曝光的圖形的尺寸大小相等。本發(fā)明的掩膜版10適用于各種曝光機(jī)，尤其適用于接近式曝光機(jī)。本發(fā)明的彩色濾光片的制備方法曝光圖形尺寸均勻，可以減少具體生產(chǎn)中彩色濾光片工藝調(diào)試的步驟。
[0033]實(shí)施例2:
[0034]本實(shí)施例提供一種掩膜版10，如圖5-7所示，包括多個(gè)開(kāi)口區(qū)和多個(gè)遮光區(qū)，其中，多個(gè)開(kāi)口區(qū)的尺寸由中心至邊緣依次減小，以使各個(gè)開(kāi)口區(qū)曝光的圖形的尺寸大小相等。
[0035]也就是說(shuō)，由于掩膜版10自重導(dǎo)致其核心區(qū)域13向下彎曲，這樣在垂直方向上，中心至邊緣的多個(gè)開(kāi)口區(qū)與基板I之間的間距逐漸增大，將由中心至邊緣的多個(gè)開(kāi)口區(qū)的尺寸設(shè)置為依次減小，可以彌補(bǔ)曝光間距不同導(dǎo)致的曝光圖形尺寸不均勻，使得各個(gè)開(kāi)口區(qū)曝光的圖形的尺寸大小相等。
[0036]優(yōu)選的是，掩膜版10由中心至邊緣依次包括環(huán)繞中心的核心區(qū)域13、中部區(qū)域12、邊緣區(qū)域11;邊緣區(qū)域11的開(kāi)口區(qū)的尺寸小于中部區(qū)域12的開(kāi)口區(qū)的尺寸。
[0037]優(yōu)選的是，核心區(qū)域13的開(kāi)口區(qū)的尺寸大于中部區(qū)域12的開(kāi)口區(qū)的尺寸。
[0038]也就是說(shuō)，如圖5所示，將掩膜版10分為邊緣區(qū)域11、中部區(qū)域12、核心區(qū)域13，則如圖6所示，這三個(gè)區(qū)域與基板11之間的曝光間距分別為G1、G2、G3，其曝光間距由外向內(nèi)逐漸減小，即G1>G2>G3，邊緣區(qū)域11的開(kāi)口區(qū)的尺寸小于中部區(qū)域12的開(kāi)口區(qū)的尺寸，核心區(qū)域13的開(kāi)口區(qū)的尺寸大于中部區(qū)域12的開(kāi)口區(qū)的尺寸，最終如圖7所示，使得曝光得到的圖形尺寸大小相同，即⑶I =⑶2 =⑶3。
[0039]優(yōu)選的是，邊緣區(qū)域11包括與中部區(qū)域12相鄰的第一邊緣區(qū)以及環(huán)繞第一邊緣區(qū)的第二邊緣區(qū)；第二邊緣區(qū)域11的開(kāi)口區(qū)的尺寸小于第一邊緣區(qū)的開(kāi)口區(qū)。
[0040]優(yōu)選的是，中部區(qū)域12包括與核心區(qū)域13相鄰的第一中部區(qū)域12以及環(huán)繞第一中部區(qū)域12的第二中部區(qū)域12，第二中部區(qū)域12的開(kāi)口區(qū)的尺寸小于第一中部區(qū)域12的開(kāi)口區(qū)的尺寸。
[0041]也就是說(shuō)，當(dāng)掩膜版10較大(例如流水作業(yè)生產(chǎn)顯示面板母板)時(shí)，單純將掩膜版10由中心至邊緣劃分為三個(gè)區(qū)域進(jìn)行設(shè)計(jì)不足以將其每個(gè)開(kāi)頭區(qū)的曝光得到的圖形尺寸大小相同，此時(shí)，將整個(gè)掩膜版10由中心至邊緣進(jìn)行更進(jìn)一步的區(qū)域劃分，以彌補(bǔ)曝光間距不同導(dǎo)致的曝光圖形尺寸不均勻，使得各個(gè)開(kāi)口區(qū)曝光的圖形的尺寸大小相等。
[0042]實(shí)施例3:
[0043]本實(shí)施例提供一種接近式曝光機(jī)，如圖8所示，包括上述實(shí)施例的掩膜版10，還包括用于支撐基板的曝光機(jī)臺(tái)2，曝光光源3，掩膜版10與曝光機(jī)臺(tái)2之間的間距為100-200nm。
[0044]優(yōu)選的是，掩膜版10由石英構(gòu)成，掩膜版10的厚度為5-20mm。
[0045]其中，由于石英材質(zhì)的掩膜版10自身重力作用，在豎直的方向上，邊緣區(qū)域與曝光機(jī)臺(tái)的間距大于中部區(qū)域與曝光機(jī)臺(tái)的間距，核心區(qū)域與曝光機(jī)臺(tái)的間距小于中部區(qū)域與曝光機(jī)臺(tái)的間距。而掩膜版10邊緣區(qū)域的開(kāi)口區(qū)的尺寸小于中部區(qū)域的開(kāi)口區(qū)的尺寸，核心區(qū)域的開(kāi)口區(qū)的尺寸大于中部區(qū)域的開(kāi)口區(qū)的尺寸，彌補(bǔ)曝光間距不同導(dǎo)致的曝光圖形尺寸不均勻，使得各個(gè)開(kāi)口區(qū)曝光的圖形的尺寸大小相等。
[0046]實(shí)施例4:
[0047]本實(shí)施例提供一種彩色濾光片的制備方法，如圖9所示，包括以下步驟:
[0048]S01、在基板上涂覆一層彩膜;其中，彩膜包括紅色樹(shù)脂膜層、綠色樹(shù)脂膜層、藍(lán)色樹(shù)脂膜層。
[0049]S02、采用上述實(shí)施例的接近式曝光機(jī)將彩膜圖案化。
[0050]本實(shí)施例的彩色濾光片的制備方法曝光圖形尺寸均勻，可以減少具體生產(chǎn)中彩色濾光片工藝調(diào)試的步驟。
[0051]可以理解的是，以上實(shí)施方式僅僅是為了說(shuō)明本發(fā)明的原理而采用的示例性實(shí)施方式，然而本發(fā)明并不局限于此。對(duì)于本領(lǐng)域內(nèi)的普通技術(shù)人員而言，在不脫離本發(fā)明的精神和實(shí)質(zhì)的情況下，可以做出各種變型和改進(jìn)，這些變型和改進(jìn)也視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種掩膜版，包括多個(gè)開(kāi)口區(qū)和多個(gè)遮光區(qū)，其特征在于，多個(gè)所述開(kāi)口區(qū)的尺寸不同，以使各個(gè)開(kāi)口區(qū)曝光的圖形的尺寸大小相等。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版的多個(gè)開(kāi)口區(qū)的尺寸由中心至邊緣依次減小。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜版由中心至邊緣依次包括環(huán)繞中心的核心區(qū)域、中部區(qū)域、邊緣區(qū)域;所述邊緣區(qū)域的開(kāi)口區(qū)的尺寸小于所述中部區(qū)域的開(kāi)口區(qū)的尺寸。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述核心區(qū)域的開(kāi)口區(qū)的尺寸大于所述中部區(qū)域的開(kāi)口區(qū)的尺寸。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述邊緣區(qū)域包括與中部區(qū)域相鄰的第一邊緣區(qū)以及環(huán)繞第一邊緣區(qū)的第二邊緣區(qū)；所述第二邊緣區(qū)域的開(kāi)口區(qū)的尺寸小于所述第一邊緣區(qū)的開(kāi)口區(qū)。6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述中部區(qū)域包括與核心區(qū)域相鄰的第一中部區(qū)域以及環(huán)繞第一中部區(qū)域的第二中部區(qū)域，所述第二中部區(qū)域的開(kāi)口區(qū)的尺寸小于所述第一中部區(qū)域的開(kāi)口區(qū)的尺寸。7.—種接近式曝光機(jī)，其特征在于，包括權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的掩膜版。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的接近式曝光機(jī)，其特征在于，還包括用于支撐基板的曝光機(jī)臺(tái)，所述掩膜版與所述曝光機(jī)臺(tái)之間的間距為100-200nm。9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的接近式曝光機(jī)，其特征在于，所述掩膜版由石英構(gòu)成，所述掩膜版的厚度為5_20mm。10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的接近式曝光機(jī)，其特征在于，所述掩膜版為權(quán)利要求3所述的掩膜版，在豎直的方向上，所述邊緣區(qū)域與曝光機(jī)臺(tái)的間距大于所述中部區(qū)域與曝光機(jī)臺(tái)的間距。11.根據(jù)權(quán)利要求8所述的接近式曝光機(jī)，其特征在于，所述掩膜版為權(quán)利要求4所述的掩膜版，在豎直的方向上，所述核心區(qū)域與曝光機(jī)臺(tái)的間距小于所述中部區(qū)域與曝光機(jī)臺(tái)的間距。12.—種彩色濾光片的制備方法，其特征在于，包括在基板上形成彩膜的步驟，以及將彩膜圖案化的步驟;所述將彩膜圖案化的步驟采用權(quán)利要求7-11任一項(xiàng)所述的接近式曝光機(jī)曝光形成。
【文檔編號(hào)】G03F7/00GK105892222SQ201610391422
【公開(kāi)日】2016年8月24日
【申請(qǐng)日】2016年6月3日
【發(fā)明人】王偉, 白鑫, 郝明遷
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 鄂爾多斯市源盛光電有限責(zé)任公司