202上且位于主遮光機構(gòu)102的一側(cè)。在此實施例中，是以輔助遮光機構(gòu)104位于主遮光機構(gòu)102的遠離光源200的一側(cè)為例進行說明。在另一實施例中，輔助遮光機構(gòu)104也可位于主遮光機構(gòu)102的靠近光源200的一側(cè)。
[0061]輔助遮光機構(gòu)104可用于修飾由主遮光機構(gòu)102所形成的曝光開口，因此由主遮光機構(gòu)102與輔助遮光機構(gòu)104所形成的曝光開口的形狀可對應于晶片300上的曝光區(qū)域302的形狀，如非完整矩形曝光區(qū)域306的形狀或矩形曝光區(qū)域308的形狀。輔助遮光機構(gòu)104可包括第二載板118、第二驅(qū)動機構(gòu)120及輔助遮光板122a、122b、122c、122d。
[0062]第二驅(qū)動機構(gòu)120設置于第二載板118上。舉例來說，第二驅(qū)動機構(gòu)120可包括至少一個第二導軌124、第二步進馬達126a、126b、第三導軌128a、128b及第三步進馬達130a、130b、130c、130d。此外，第二驅(qū)動機構(gòu)120還可包括第二連接件132a、132b、132c、132d。
[0063]第二導軌124設置于第二載板118上。第二導軌124可分別沿著X_Y平面坐標系的X軸方向進行設置。第二步進馬達126a、126b設置于第二導軌124上。
[0064]第三導軌128a、128b分別連接于第二步進馬達126a、126b。第三導軌128a、128b可分別沿著X-Y平面坐標系的Y軸方向進行設置。
[0065]第三步進馬達130a、130b設置于第三導軌128a上且分別連接于輔助遮光板122a、122b。第三步進馬達130a、130b分別可使得輔助遮光板122a、122b在Y軸方向上移動。第三步進馬達130c、130d設置于第三導軌128b上且分別連接于輔助遮光板122c、122d。第三步進馬達130c、130d分別可使得輔助遮光板122c、122d在Y軸方向上移動。第三步進馬達130a、130b、130c、130d與輔助遮光板122a、122b、122c、122d可分別通過第二連接件132a、132b、132c、132d進行連接。由此，可將輔助遮光板122a、122b、122c、122d連接于第二驅(qū)動機構(gòu)120。
[0066]此外，可通過第二步進馬達126a、126b分別帶動第三導軌128a、128b，而使得輔助遮光板122a、122b、122c、122d可在X軸方向上移動。
[0067]然而，輔助遮光機構(gòu)104并不限于上述實施例，只要輔助遮光機構(gòu)104可用于修飾由主遮光機構(gòu)102所形成的曝光開口，而使得由主遮光機構(gòu)102與輔助遮光機構(gòu)104所形成的曝光開口的形狀可對應于晶片300上的曝光區(qū)域302的形狀即可。于此技術(shù)領域具有通常知識者可依據(jù)設計上的需求而自行調(diào)整輔助遮光機構(gòu)104的態(tài)樣。就上述實施例而言，于此技術(shù)領域具有通常知識者可調(diào)整輔助遮光板的驅(qū)動方式、形狀、數(shù)量與設置方式，也可調(diào)整第二導軌、第二步進馬達、第三導軌及第三步進馬達的數(shù)量與設置方式等。
[0068]接著，以上述實施例的曝光機臺的遮光裝置100為例，來說明通過主遮光機構(gòu)102與輔助遮光機構(gòu)104形成曝光開口的方法。
[0069]請同時參照圖2至圖5，當遮光裝置100要形成對應于矩形曝光區(qū)域308的形狀的曝光開口 134時，可通過第一驅(qū)動機構(gòu)108將主遮光板110a、110b、110c、IlOd從圖2中的位置移動到圖5中的位置而形成曝光開口 134。詳言之，第一驅(qū)動機構(gòu)108的作動方式如下:使第一步進馬達114a、114b、114c、114d分別沿著Xl方向、X2方向、Yl方向、Y2方向移動，而調(diào)整主遮光板IlOaUlOb在X軸方向上的位置以及調(diào)整主遮光板IlOcUlOd在Y軸方向上的位置，直到曝光開口 134的形狀對應于矩形曝光區(qū)域308的形狀為止。此時，由于不需使用輔助遮光機構(gòu)104來修飾由主遮光機構(gòu)102所形成的曝光開口 134，因此輔助遮光機構(gòu)104中的122a、122b、122c、122d只要位于不會遮蔽到曝光開口 134的位置即可。
[0070]同理，在其他實施例中，若晶片300上的矩形曝光區(qū)域308具有其他形狀，為了使曝光開口 134的形狀與各種形狀的矩形曝光區(qū)域308相對應，可通過調(diào)整主遮光機構(gòu)102的主遮光板110a、110b、110c、I1d的位置，而形成各種形狀的曝光開口 134。
[0071]請同時參照圖2至圖6，當遮光裝置100要形成對應于非完整矩形曝光區(qū)域306的形狀的曝光開口 136時，除了可通過第一驅(qū)動機構(gòu)108將主遮光板110a、110b、110c、IlOd從圖2中的位置移動到圖5中的位置而形成曝光開口 134之外，更可通過第二驅(qū)動機構(gòu)120將輔助遮光板122c、122d從圖3中的位置移動到圖6中的位置而對曝光開口 134的形狀進行修飾，進而形成曝光開口 136。詳言之，第二驅(qū)動機構(gòu)120的作動方式如下:使第二步進馬達126b沿著X3方向移動，而調(diào)整輔助遮光板122c、122d在X軸方向上的位置，且使第三步進馬達130c、130d分別沿著Y3方向與Y4方向移動，而調(diào)整輔助遮光板122c、122d在Y軸方向上的位置，直到曝光開口 136的形狀對應于非完整矩形曝光區(qū)域306的形狀為止。
[0072]同理，在對晶片300上的其他形狀的非完整矩形曝光區(qū)域306進行曝光時，為了使曝光開口 136的形狀與各種形狀的非完整矩形曝光區(qū)域306相對應，可通過調(diào)整主遮光機構(gòu)102的主遮光板110a、110b、110c、I 1d的位置與輔助遮光機構(gòu)104的輔助遮光板122a、122b、122c、122d的位置，而形成各種形狀的曝光開口 136。
[0073]基于上述可知，通過上述實施例的曝光機臺的遮光裝置100，可使得通過主遮光機構(gòu)102與輔助遮光機構(gòu)104所形成的曝光開口 134、136的形狀分別對應于晶片300上的曝光區(qū)域302的形狀，所以對晶片300上的非完整矩形曝光區(qū)域306與矩形曝光區(qū)域308均只要進行一次曝光制作工藝即可完成曝光，因此可有效地減少曝光時間。此外，在通過上述實施例的曝光機臺的遮光裝置100進行曝光時，由于不需進行疊合曝光，因此可避免產(chǎn)生重復曝光或未曝光的情況，進而可有效地提升管芯良率。
[0074]綜上所述，上述實施例的曝光機臺的遮光裝置至少具有下列特點。由于上述實施例的曝光機臺的遮光裝置可使得所形成的曝光開口的形狀對應于晶片上的各個曝光區(qū)域的形狀，所以只要進行一次曝光制作工藝即可完成曝光，因此可有效地減少曝光時間且提升管芯良率。
[0075]雖然結(jié)合以上實施例公開了本發(fā)明，然而其并非用以限定本發(fā)明，任何所屬技術(shù)領域中具有通常知識者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，可作些許的更動與潤飾，故本發(fā)明的保護范圍應當以附上的權(quán)利要求所界定的為準。
【主權(quán)項】
1.一種曝光機臺的遮光裝置，包括: 主遮光機構(gòu)，設置于一光行進路徑上；以及 輔助遮光機構(gòu)，設置于該光行進路線上且位于該主遮光機構(gòu)的一側(cè)，其中由該主遮光機構(gòu)與該輔助遮光機構(gòu)所形成的一曝光開口的形狀對應于一晶片上的一曝光區(qū)域的形狀。2.如權(quán)利要求1所述的曝光機臺的遮光裝置，其中該主遮光機構(gòu)包括: 第一載板； 第一驅(qū)動機構(gòu)，設置于該第一載板上；以及 多個主遮光板，連接于該第一驅(qū)動機構(gòu)。3.如權(quán)利要求2所述的曝光機臺的遮光裝置，其中該第一驅(qū)動機構(gòu)包括: 多個第一導軌，設置于該第一載板上；以及 多個第一步進馬達，設置于該些第一導軌上且連接于該些主遮光板。4.如權(quán)利要求3所述的曝光機臺的遮光裝置，其中該第一驅(qū)動機構(gòu)還包括多個第一連接件，該些第一步進馬達與該些主遮光板通過該些第一連接件進行連接。5.如權(quán)利要求1所述的曝光機臺的遮光裝置，其中該輔助遮光機構(gòu)包括: 第二載板； 第二驅(qū)動機構(gòu)，設置于該第二載板上；以及 多個輔助遮光板，連接于該第二驅(qū)動機構(gòu)。6.如權(quán)利要求5所述的曝光機臺的遮光裝置，其中該第二驅(qū)動機構(gòu)包括: 至少一第二導軌，設置于該第二載板上； 多個第二步進馬達，設置于該些第二導軌上； 多個第三導軌，連接于該些第二步進馬達；以及 多個第三步進馬達，設置于該些第三導軌上且連接于該些輔助遮光板。7.如權(quán)利要求6所述的曝光機臺的遮光裝置，其中該第二驅(qū)動機構(gòu)還包括多個第二連接件，該些第三步進馬達與該些輔助遮光板通過該些第二連接件進行連接。8.如權(quán)利要求1所述的曝光機臺的遮光裝置，其中該曝光區(qū)域包括非完整矩形曝光區(qū)域或矩形曝光區(qū)域。9.如權(quán)利要求1所述的曝光機臺的遮光裝置，其中該輔助遮光機構(gòu)位于該主遮光機構(gòu)的遠離或靠近光源的一側(cè)。10.如權(quán)利要求1所述的曝光機臺的遮光裝置，其中該曝光機臺包括步進曝光機臺。
【專利摘要】本發(fā)明公開一種曝光機臺的遮光裝置，包括主遮光機構(gòu)及輔助遮光機構(gòu)。主遮光機構(gòu)，設置于光行進路徑上。輔助遮光機構(gòu)設置于光行進路線上且位于主遮光機構(gòu)的一側(cè)。其中，由主遮光機構(gòu)與輔助遮光機構(gòu)所形成的曝光開口的形狀對應于晶片上的曝光區(qū)域的形狀。
【IPC分類】G03F7/20
【公開號】CN105573059
【申請?zhí)枴緾N201410526683
【發(fā)明人】王宏祺
【申請人】力晶科技股份有限公司
【公開日】2016年5月11日
【申請日】2014年10月9日