曝光機(jī)臺的遮光裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種遮光裝置，且特別是涉及一種曝光機(jī)臺的遮光裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在集成電路制造過程中，光刻制作工藝是通過曝光機(jī)臺對晶片上的曝光區(qū)域(shot)進(jìn)行照射，而將光掩模圖案轉(zhuǎn)移至晶片上的感光性膜。
[0003]現(xiàn)有的曝光機(jī)臺對矩形的曝光區(qū)域可進(jìn)行一次曝光制作工藝而完成曝光。然而，現(xiàn)有的曝光機(jī)臺在對晶片邊緣的非完整矩形曝光區(qū)域進(jìn)行曝光時(shí)，對同一個(gè)非完整矩形曝光區(qū)域至少需要進(jìn)行兩次以上曝光制作工藝才能完成曝光，因此會產(chǎn)生曝光時(shí)間增加以及管芯(die)良率降低的問題。
[0004]以現(xiàn)有的步進(jìn)曝光機(jī)臺為例，由于是采用進(jìn)行兩次以上曝光制作工藝的疊合曝光法對同一個(gè)非完整矩形曝光區(qū)域進(jìn)行曝光，所以曝光路徑增長，而使得每片晶片的曝光時(shí)間增加。此外，疊合曝光法容易在疊合處產(chǎn)生重復(fù)曝光或未曝光的情況，而降低管芯良率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種曝光機(jī)臺的遮光裝置，其可有效地減少曝光時(shí)間且提升管芯良率。
[0006]為達(dá)上述目的，本發(fā)明提出一種曝光機(jī)臺的遮光裝置，包括主遮光機(jī)構(gòu)及輔助遮光機(jī)構(gòu)。主遮光機(jī)構(gòu)，設(shè)置于光行進(jìn)路徑上。輔助遮光機(jī)構(gòu)設(shè)置于光行進(jìn)路線上且位于主遮光機(jī)構(gòu)的一側(cè)。其中，由主遮光機(jī)構(gòu)與輔助遮光機(jī)構(gòu)所形成的曝光開口的形狀對應(yīng)于晶片上的曝光區(qū)域的形狀。
[0007]依照本發(fā)明的一實(shí)施例所述，在上述的曝光機(jī)臺的遮光裝置中，主遮光機(jī)構(gòu)包括第一載板、第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)及多個(gè)主遮光板。第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)設(shè)置于第一載板上。主遮光板連接于第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)。
[0008]依照本發(fā)明的一實(shí)施例所述，在上述的曝光機(jī)臺的遮光裝置中，第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括多個(gè)第一導(dǎo)軌及多個(gè)第一步進(jìn)馬達(dá)。第一導(dǎo)軌設(shè)置于第一載板上。第一步進(jìn)馬達(dá)設(shè)置于第一導(dǎo)軌上且連接于主遮光板。
[0009]依照本發(fā)明的一實(shí)施例所述，在上述的曝光機(jī)臺的遮光裝置中，第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)還包括多個(gè)第一連接件。第一步進(jìn)馬達(dá)與主遮光板通過第一連接件進(jìn)行連接。
[0010]依照本發(fā)明的一實(shí)施例所述，在上述的曝光機(jī)臺的遮光裝置中，輔助遮光機(jī)構(gòu)包括第二載板、第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)及多個(gè)輔助遮光板。第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)設(shè)置于第二載板上。多個(gè)輔助遮光板連接于第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)。
[0011]依照本發(fā)明的一實(shí)施例所述，在上述的曝光機(jī)臺的遮光裝置中，第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括至少一個(gè)第二導(dǎo)軌、多個(gè)第二步進(jìn)馬達(dá)、多個(gè)第三導(dǎo)軌及多個(gè)第三步進(jìn)馬達(dá)。第二導(dǎo)軌設(shè)置于第二載板上。第二步進(jìn)馬達(dá)設(shè)置于第二導(dǎo)軌上。第三導(dǎo)軌連接于第二步進(jìn)馬達(dá)。第三步進(jìn)馬達(dá)設(shè)置于第三導(dǎo)軌上且連接于輔助遮光板。
[0012]依照本發(fā)明的一實(shí)施例所述，在上述的曝光機(jī)臺的遮光裝置中，第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)還包括多個(gè)第二連接件。第三步進(jìn)馬達(dá)與輔助遮光板通過第二連接件進(jìn)行連接。
[0013]依照本發(fā)明的一實(shí)施例所述，在上述的曝光機(jī)臺的遮光裝置中，曝光區(qū)域可為非完整矩形曝光區(qū)域或矩形曝光區(qū)域。
[0014]依照本發(fā)明的一實(shí)施例所述，在上述的曝光機(jī)臺的遮光裝置中，輔助遮光機(jī)構(gòu)可位于主遮光機(jī)構(gòu)的遠(yuǎn)離或靠近光源的一側(cè)。
[0015]依照本發(fā)明的一實(shí)施例所述，在上述的曝光機(jī)臺的遮光裝置中，曝光機(jī)臺可為步進(jìn)曝光機(jī)臺。
[0016]基于上述，在本發(fā)明所提出的曝光機(jī)臺的遮光裝置中，由于可使得通過主遮光機(jī)構(gòu)與輔助遮光機(jī)構(gòu)所形成的曝光開口的形狀對應(yīng)于晶片上的曝光區(qū)域的形狀，所以對晶片上的非完整矩形曝光區(qū)域與矩形曝光區(qū)域均只要進(jìn)行一次曝光制作工藝即可完成曝光，因此可有效地減少曝光時(shí)間且提升管芯良率。
[0017]為讓本發(fā)明的上述特征和優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，下文特舉實(shí)施例，并配合所附的附圖作詳細(xì)說明如下。
【附圖說明】
[0018]圖1為本發(fā)明的一實(shí)施例的曝光機(jī)臺的遮光裝置的側(cè)面圖；
[0019]圖2為本發(fā)明的一實(shí)施例的曝光機(jī)臺的遮光裝置中的主遮光機(jī)構(gòu)的正視圖；
[0020]圖3為本發(fā)明的一實(shí)施例的曝光機(jī)臺的遮光裝置中的輔助遮光機(jī)構(gòu)的正視圖；
[0021]圖4為本發(fā)明的一實(shí)施例的晶片的上視圖；
[0022]圖5為圖2中的主遮光機(jī)構(gòu)在形成對應(yīng)于矩形曝光區(qū)域的形狀的曝光開口時(shí)的正視圖；
[0023]圖6為圖3中的輔助遮光機(jī)構(gòu)在形成對應(yīng)于非完整矩形曝光區(qū)域的形狀的曝光開口時(shí)的正視圖。
[0024]符號說明
[0025]100:遮光裝置
[0026]102:主遮光機(jī)構(gòu)
[0027]104:輔助遮光機(jī)構(gòu)
[0028]106:第一載板
[0029]108:第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)
[0030]110a、110b、110c、110d:主遮光板
[0031]112a、112b:第一導(dǎo)軌
[0032]114a、114b、114c、114d:第一步進(jìn)馬達(dá)
[0033]116a、116b、116c、116d:第一連接件
[0034]118:第二載板
[0035]120:第二驅(qū)動機(jī)構(gòu)
[0036]122a、122b、122c、122d:輔助遮光板
[0037]124:第二導(dǎo)軌
[0038]126a、126b:第二步進(jìn)馬達(dá)
[0039]l28a、l28b:第三導(dǎo)軌
[0040]130a、130b、130c、130d:第三步進(jìn)馬達(dá)
[0041]132a、132b、132c、132d:第二連接件
[0042]134、136:曝光開口
[0043]200:光源
[0044]202:光行進(jìn)路徑
[0045]300:晶片
[0046]302:曝光區(qū)域
[0047]304:感光性膜
[0048]306:非完整矩形曝光區(qū)域
[0049]308:矩形曝光區(qū)域
[0050]X:軸
[0051]Y:軸
[0052]X1、X2、X3、Y1、Y2、Y3、Y4:方向
【具體實(shí)施方式】
[0053]圖1為本發(fā)明的一實(shí)施例的曝光機(jī)臺的遮光裝置的側(cè)面圖。圖2為本發(fā)明的一實(shí)施例的曝光機(jī)臺的遮光裝置中的主遮光機(jī)構(gòu)的正視圖。圖3為本發(fā)明的一實(shí)施例的曝光機(jī)臺的遮光裝置中的輔助遮光機(jī)構(gòu)的正視圖。圖4為本發(fā)明的一實(shí)施例的晶片的上視圖。圖5為圖2中的主遮光機(jī)構(gòu)在形成對應(yīng)于曝光區(qū)域的形狀的矩形曝光開口時(shí)的正視圖。圖6為圖3中的輔助遮光機(jī)構(gòu)在形成對應(yīng)于非完整矩形曝光區(qū)域的形狀的曝光開口時(shí)的正視圖。
[0054]請同時(shí)參照圖1至圖4，曝光機(jī)臺的遮光裝置100，包括主遮光機(jī)構(gòu)102及輔助遮光機(jī)構(gòu)104。曝光機(jī)臺可對晶片300的曝光區(qū)域302進(jìn)行照射，而將光掩模圖案轉(zhuǎn)移至晶片300上的感光性膜304。曝光區(qū)域302可為非完整矩形曝光區(qū)域306或矩形曝光區(qū)域308。曝光機(jī)臺可為步進(jìn)曝光機(jī)臺。
[0055]請參照圖1、圖2及圖4，主遮光機(jī)構(gòu)102可設(shè)置于光源200的光行進(jìn)路徑202上。主遮光機(jī)構(gòu)102可用于形成曝光開口，且所形成的曝光開口的形狀可對應(yīng)于晶片300上的矩形曝光區(qū)域308的形狀。在本實(shí)施例中，形狀上的「對應(yīng)」意指形狀實(shí)質(zhì)上一致，然而依照透鏡的設(shè)計(jì)可能會有倍率或方向上的差異。于此技術(shù)領(lǐng)域具有通常知識者可依照需求對倍率或方向進(jìn)行調(diào)整。主遮光機(jī)構(gòu)102可包括第一載板106、第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)108及主遮光板110a、110b、110c、110d。
[0056]第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)108設(shè)置于第一載板106上。舉例來說,第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)108可包括第一導(dǎo)軌112a、112b及第一步進(jìn)馬達(dá)114a、114b、114c、114d。此外,第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)108還可包括第一連接件 116a、116b、116c、116d。
[0057]第一導(dǎo)軌112a、112b設(shè)置于第一載板106上。第一導(dǎo)軌112a、112b可分別沿著X-Y平面坐標(biāo)系的X軸方向與Y軸方向進(jìn)行設(shè)置。
[0058]第一步進(jìn)馬達(dá)114a、114b設(shè)置于第一導(dǎo)軌112a上且分別連接于主遮光板110a、110b。第一步進(jìn)馬達(dá)114a、114b可使得主遮光板110a、IlOb在X軸方向上移動。第一步進(jìn)馬達(dá)114c、114d設(shè)置于第一導(dǎo)軌112b上且分別連接于主遮光板110c、110d。第一步進(jìn)馬達(dá)114c、114d可使得主遮光板110c、110d在Y軸方向上移動。第一步進(jìn)馬達(dá)114a、114b、114c、114d與主遮光板110c、IlOcUl 10c、I 1d可分別通過第一連接件116a、116b、116c、116d進(jìn)行連接。由此，可將主遮光板110c、IlOcU 110c、IlOd連接于第一驅(qū)動機(jī)構(gòu)108。
[0059]然而，主遮光機(jī)構(gòu)102并不限于上述實(shí)施例，只要主遮光機(jī)構(gòu)102能夠形成對應(yīng)于晶片300上的矩形曝光區(qū)域308的形狀的曝光開口即可。于此技術(shù)領(lǐng)域具有通常知識者可依據(jù)設(shè)計(jì)上的需求而自行調(diào)整主遮光機(jī)構(gòu)102的態(tài)樣。就上述實(shí)施例而言，于此技術(shù)領(lǐng)域具有通常知識者可調(diào)整主遮光板的驅(qū)動方式、形狀、數(shù)量與設(shè)置方式，也可調(diào)整第一導(dǎo)軌及第一步進(jìn)馬達(dá)的數(shù)量與設(shè)置方式等。
[0060]請參照圖1、圖3及圖4，輔助遮光機(jī)構(gòu)104設(shè)置于光行進(jìn)路線