一種ldi曝光機對位精度檢測方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明涉及LDI曝光機性能檢測的技術領域，尤其是涉及一種LDI曝光機對位精度檢測方法。
【背景技術】
[0002]LDI曝光機包括上游機與下游曝光機。上游機用于將板材的正面進行曝光，板材的正面曝光后，將板材翻轉，通過下游曝光機將板材的反面進行曝光。無論在LDI曝光機對板材正面或反面曝光之前，均需要先抓取定位孔。并根據定位孔位置將曝光文件與板材定位孔進行對位以及通過拉伸曝光文件調整其大小以適配板材上的定位孔，然后再將曝光文件曝光在板面上?？梢?，LDI曝光機抓取定位孔的準確性對于LDI曝光機的曝光精度非常重要。在設備新裝機或者使用過程中隨著條件變化，設備抓取定位孔的準確度可能會發(fā)生變化。抓取定位孔的準確度發(fā)生變化后將導致板材上曝光圖形的實際曝光位置與理論曝光位置發(fā)生較大偏移。當板材上曝光圖形的實際曝光位置與理論曝光位置發(fā)生較大偏移時，將會導致板材在后續(xù)制作過程中，容易出現(xiàn)板材破盤、層偏等批量報廢缺陷。

【發(fā)明內容】

[0003]基于此，本發(fā)明在于克服現(xiàn)有技術的缺陷，提供一種LDI曝光機對位精度檢測方法，它能夠獲知LDI曝光機對位精度是否符合要求。
[0004]其技術方案如下:
[0005]—種LDI曝光機對位精度檢測方法，包括如下步驟:
[0006]提供測試板材；
[0007]制作鉆帶文件以及曝光圖形文件，所述鉆帶文件包括通孔和定位孔的位置信息與孔徑信息，所述曝光圖形文件包括環(huán)繞所述通孔的第一圓環(huán)和第二圓環(huán)的位置信息與環(huán)寬信息，其中，所述第二圓環(huán)環(huán)繞在所述第一圓環(huán)外，所述第一圓環(huán)、第二圓環(huán)及所述通孔同心設置；
[0008]鉆機根據所述鉆帶文件在所述測試板材上鉆設出所述通孔及定位孔；
[0009]在鉆出所述通孔及所述定位孔的所述測試板材上貼設干膜；
[0010]將貼設干膜的所述測試板材放入到LDI曝光機的上游機中，根據所述曝光圖形文件對所述測試板材第一面進行兩次曝光處理，所述兩次曝光處理為將所述測試板材第一面上通孔外的第一圓環(huán)區(qū)域與第二圓環(huán)區(qū)域分別進行曝光處理；
[0011]將經過所述兩次曝光處理的測試板材進行顯影處理；
[0012]獲取經過顯影處理的測試板材第一面上的第一圓環(huán)區(qū)域、第二圓環(huán)區(qū)域及所述通孔的中心位置信息；
[0013]根據所述測試板材第一面上的第一圓環(huán)區(qū)域的中心位置信息或第二圓環(huán)區(qū)域的中心位置信息與所述通孔的中心位置信息計算得到上游機絕對偏移量，根據所述測試板材第一面上的第一圓環(huán)區(qū)域的中心位置信息與第二圓環(huán)區(qū)域的中心位置信息計算得到上游機相對偏移量。
[0014]在其中一個實施例中，在根據所述曝光圖形文件對所述測試板材第一面進行兩次曝光處理之后還包括步驟:
[0015]將所述測試板材翻轉后送入到所述LDI曝光機的下游機中，根據所述曝光圖形文件對所述測試板材第二面進行兩次曝光處理，所述兩次曝光處理為將所述測試板材第二面上通孔外的第一圓環(huán)區(qū)域與第二圓環(huán)區(qū)域分別進行曝光處理；
[0016]獲取經過顯影處理的測試板材第二面上的所述第一圓環(huán)區(qū)域、第二圓環(huán)區(qū)域的中心位置信息；
[0017]根據所述測試板材第二面上的第一圓環(huán)區(qū)域的中心位置信息或第二圓環(huán)區(qū)域的中心位置信息與所述通孔的中心位置信息計算得到下游機絕對偏移量，根據所述測試板材第二面上的第一圓環(huán)區(qū)域的中心位置信息與第二圓環(huán)區(qū)域的中心位置信息計算得到下游機相對偏移量。
[0018]在其中一個實施例中，根據所述測試板材第一面上的第一圓環(huán)區(qū)域的中心位置信息與所述測試板材第二面上的第一圓環(huán)區(qū)域的中心位置信息，或者根據所述測試板材第一面上的第二圓環(huán)區(qū)域的中心位置信息與所述測試板材第二面上的第二圓環(huán)區(qū)域的中心位置信息計算得到所述上游機與下游機之間的層間偏移量。
[0019]在其中一個實施例中，在所述測試板材的平面上建立Χ-0-Υ直角坐標系，所述獲取經過顯影處理的測試板材第一面上的第一圓環(huán)區(qū)域、第二圓環(huán)區(qū)域及所述通孔的中心位置信息為獲取所述測試板材第一面上的第一圓環(huán)區(qū)域、第二圓環(huán)區(qū)域及所述通孔的中心在所述Χ-0-Υ直角坐標系上的坐標，所述獲取經過顯影處理的測試板材第二面上的所述第一圓環(huán)區(qū)域、第二圓環(huán)區(qū)域的中心位置信息為獲取所述測試板材第二面上的第一圓環(huán)區(qū)域與第二圓環(huán)區(qū)域的中心在所述Χ-0-Υ直角坐標系上的坐標。
[0020]在其中一個實施例中，所述通孔為四個以上。
[0021]在其中一個實施例中，四個以上所述通孔呈矩陣布置在所述測試板材上，且相鄰所述通孔之間的距離相同。
[0022]在其中一個實施例中，在所述曝光圖形文件中，所述通孔的孔徑為100?2000 μ m,所述第一圓環(huán)的環(huán)寬為200?600 μ m,所述第一圓環(huán)的外環(huán)直徑為1000?3000 μπι，所述第二圓環(huán)的環(huán)寬為200?600 μπι，所述第二圓環(huán)的外環(huán)直徑為1500?5000 μmD
[0023]在其中一個實施例中，在所述曝光圖形文件中，所述通孔的孔徑為100 μ m，所述第一圓環(huán)的環(huán)寬為400 μ m，所述第一圓環(huán)的外環(huán)直徑為1700 μ m，所述第二圓環(huán)的環(huán)寬為400 μ m，所述第二圓環(huán)的外環(huán)直徑為3300 μ m。
[0024]在其中一個實施例中，所述定位孔為至少兩個，所述定位孔位于所述測試板材的頂角。
[0025]下面結合上述技術方案對本發(fā)明的原理、效果進一步說明:
[0026]1、上述的LDI曝光機對位精度檢測方法，測試板材上設置通孔，且曝光圖形文件中第一圓環(huán)、第二圓環(huán)及通孔同心設置，通過LDI曝光機將曝光圖形文件曝光到測試板材上后，在測試板材第一面上通孔外形成第一圓環(huán)區(qū)域與第二圓環(huán)區(qū)域，獲取測試板材第一面上第一圓環(huán)區(qū)域、第二圓環(huán)區(qū)域及通孔的中心位置信息，便能夠計算得到通孔中心與第一圓環(huán)區(qū)域或第二圓環(huán)區(qū)域中心之間的偏移量山、(12，及第一圓環(huán)區(qū)域中心與第二圓環(huán)區(qū)域中心之間的偏移量d3，如此山與d 2即為上游機絕對偏移量，d 3為上游機相對偏移量。根據上游機絕對偏移量與相對偏移量，便能夠獲取到LDI曝光機對位精度是否符合要求，在LDI曝光機對位精度不符合要求時，對LDI曝光機相應進行調整，以提高LDI曝光機的對位精度。且測試板材能夠反復利用，能避免浪費。
[0027]2、獲取所述測試板材第二面上的第一圓環(huán)區(qū)域與第二圓環(huán)區(qū)域的中心在所述Χ-0-Υ直角坐標系上的坐標。下游機絕對偏移量即為測試板材第二面上的第一圓環(huán)區(qū)域的中心坐標與通孔的中心坐標之間的偏移量或者測試板材第二面上的第二圓環(huán)區(qū)域的中心坐標與通孔的中心坐標之間的距離。下游機相對偏移量即為測試板材第二面上的第一圓環(huán)區(qū)域的中心坐標與第二圓環(huán)區(qū)域的中心坐標之間的距離。上游機與下游機之間的層間偏移量即為測試板材第一面上第一圓環(huán)區(qū)域中心坐標與測試板材第二面上第一圓環(huán)區(qū)域中心坐標之間的距離，或者測試板材第一面上第二圓環(huán)區(qū)域中心坐標與測試板材第二面上第二圓環(huán)區(qū)域中心坐標之間的距離。
[0028]3、通孔為四個以上，測試板材第一面與第二面上的每個通孔外均對應有第一圓環(huán)區(qū)域和第二圓環(huán)區(qū)域。上游機或下游機根據第一圓環(huán)區(qū)域中心坐標、第二圓環(huán)區(qū)域中心及通孔中心坐標所計算得到的絕對