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調(diào)色劑的制作方法

文檔序號(hào):9615697閱讀:468來源:國知局
調(diào)色劑的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及用于圖像形成方法如電子照相和靜電打印中將靜電圖像(靜電潛像) 顯影的調(diào)色劑。
【背景技術(shù)】
[0002] 近年來,隨著計(jì)算機(jī)和多媒體的發(fā)展,在包括辦公和家庭在內(nèi)的各個(gè)領(lǐng)域內(nèi)存在 輸出高清晰度全色圖像的手段的需求。
[0003] 對(duì)于涉及經(jīng)常復(fù)印和打印的商業(yè)用途,存在即使在許多復(fù)印件和打印件輸出之后 圖像品質(zhì)也不劣化的高耐久性的需求。對(duì)于小型辦公和家庭中的用途,從節(jié)約空間、節(jié)能和 輕量化方面存在對(duì)小型設(shè)備的需求以及對(duì)高品質(zhì)圖像的需求。為了滿足這些需求,必須改 進(jìn)調(diào)色劑性能,例如環(huán)境穩(wěn)定性、低溫定影性、顯影耐久性和儲(chǔ)存穩(wěn)定性。
[0004] 特別地,在由疊加的彩色調(diào)色劑形成的全色圖像的情況中,各種彩色調(diào)色劑必須 以相同的方式顯影,否則發(fā)生不良的顏色再現(xiàn)和顏色不均一。例如,當(dāng)用作調(diào)色劑用著色劑 的顏料或染料于調(diào)色劑顆粒的表面上析出時(shí),這可影響顯影性并引起顏色不均一。
[0005] 定影性和混色性(colormixtureproperties)在全色圖像中也是重要的。例如, 盡管選擇低溫定影性有效的粘結(jié)劑樹脂以滿足高速打印的需求,但此類粘結(jié)劑樹脂大大影 響了顯影性和耐久性。
[0006] 還存在對(duì)可長期使用并在各種溫度和濕度下產(chǎn)生高清晰度全色圖像的調(diào)色劑的 需求。為了滿足這些需求,必須減少由不同操作環(huán)境如溫度和濕度引起的調(diào)色劑的電荷量 的變化以及調(diào)色劑表面性質(zhì)的變化。還必須減少組件如顯影輥、充電輥、調(diào)節(jié)刮板和感光鼓 的污染。因此,存在對(duì)具有穩(wěn)定的帶電性(chargeability)、不引起組件的污染、且即使在各 種環(huán)境下長期儲(chǔ)存后也具有一致的顯影耐久性的調(diào)色劑的需求。
[0007] 依賴于溫度和濕度的儲(chǔ)存穩(wěn)定性或調(diào)色劑的電荷量的變化可由調(diào)色劑的脫模劑 或樹脂組分從調(diào)色劑的內(nèi)部滲出到表面(下文中還簡稱為滲出)并改變調(diào)色劑的表面性質(zhì) 所引起。
[0008] 此類問題可通過用樹脂覆蓋調(diào)色劑顆粒的表面的方法來解決。
[0009] 日本專利特開2006-146056公開了一種使無機(jī)細(xì)顆粒穩(wěn)固地附著至其表面的調(diào) 色劑,所述調(diào)色劑作為在常溫常濕環(huán)境或高溫高濕環(huán)境下具有良好高溫儲(chǔ)存穩(wěn)定性和打印 耐久性的調(diào)色劑。
[0010] 然而,即使在使無機(jī)細(xì)顆粒穩(wěn)固地附著至調(diào)色劑顆粒的表面的調(diào)色劑中,脫模劑 或樹脂組分可通過無機(jī)細(xì)顆粒之間的間隙滲出,且無機(jī)細(xì)顆??捎捎诮到舛鴱谋砻娣蛛x。 因此,嚴(yán)苛環(huán)境下調(diào)色劑的耐久性和組件的污染應(yīng)當(dāng)?shù)玫竭M(jìn)一步改進(jìn)。
[0011] 日本專利特開03-089361公開了通過添加硅烷偶聯(lián)劑至反應(yīng)體系來生產(chǎn)聚合調(diào) 色劑的方法,從而生產(chǎn)沒有暴露于調(diào)色劑表面的著色劑或極性物質(zhì)、具有窄的電荷分布、且 具有很大程度上不依賴于濕度的電荷量的調(diào)色劑。然而,在此類方法中,調(diào)色劑表面上硅烷 化合物的析出和水解縮聚不足,且環(huán)境穩(wěn)定性和顯影耐久性需要得到進(jìn)一步改進(jìn)。
[0012] 日本專利特開08-095284公開了覆蓋有硅烷化合物的聚合調(diào)色劑,從而控制調(diào)色 劑的電荷量并在任意溫度和任意濕度下形成高品質(zhì)打印圖像。然而,硅烷化合物高極性的 有機(jī)官能團(tuán)導(dǎo)致在調(diào)色劑表面上硅烷化合物的析出和水解縮聚不足。結(jié)果,必須減少歸因 于高溫高濕環(huán)境下帶電性的變化的圖像濃度變化,減少歸因于調(diào)色劑熔融粘附的組件污 染,和改進(jìn)儲(chǔ)存穩(wěn)定性。
[0013] 日本專利特開2001-75304公開了具有通過含有硅化合物的團(tuán)聚體的粘附形成的 覆蓋層的聚合調(diào)色劑作為具有改進(jìn)的流動(dòng)性、較少的流化劑分離的可能性、改進(jìn)的低溫定 影性和改進(jìn)的粘連性能(blockingproperties)的調(diào)色劑。然而,必須進(jìn)一步減少脫模劑 或樹脂組分的通過含有硅化合物的團(tuán)聚體之間的間隙的滲出。還必須減少歸因于由調(diào)色劑 表面上硅烷化合物的析出和水解縮聚不足造成的高溫高濕環(huán)境下帶電性的變化的圖像濃 度變化,減少歸因于調(diào)色劑熔融粘附的組件污染,并改進(jìn)儲(chǔ)存穩(wěn)定性。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0014] 本發(fā)明提供不具有上述問題的調(diào)色劑。更具體地,本發(fā)明提供具有良好環(huán)境穩(wěn)定 性、低溫定影性、顯影耐久性和儲(chǔ)存穩(wěn)定性的調(diào)色劑。
[0015] 作為深入研究的結(jié)果,本發(fā)明人通過發(fā)現(xiàn)下列結(jié)構(gòu)能解決所述問題而實(shí)現(xiàn)了本發(fā) 明。
[0016] 本發(fā)明提供一種含有調(diào)色劑顆粒的調(diào)色劑,所述調(diào)色劑顆粒各自具有包含有機(jī)硅 聚合物的表面層,
[0017] 其中所述有機(jī)硅聚合物具有由下式(T3)表示的部分結(jié)構(gòu),
[0018] R-Si(01/2)3 (T3)
[0019] 其中R表示具有1至6個(gè)碳原子的烷基或苯基,
[0020] 其中所述表面層的如通過用透射電子顯微鏡(TEM)觀察各個(gè)所述調(diào)色劑顆粒的 截面測量的平均厚度Dav.為5.Onm以上且150.Onm以下,和
[0021] 所述調(diào)色劑在通過聚焦離子束飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜法(focused-ion-beam time-〇f-flightsecondaryionmassspectrometry,F(xiàn)IB-TOF-SIMS)的映射測量中的 (ASi/AC)比為20. 00以上,其中ASi表示ISi/I,AC表示IC/I,ISi表示硅離子的強(qiáng)度,IC 表示碳離子的強(qiáng)度,和I表示一次離子的數(shù)量,所述硅離子和所述碳離子響應(yīng)于所述調(diào)色 劑顆粒用一次離子照射而從所述調(diào)色劑顆粒中放出。
[0022] 參考附圖,從下列示例性實(shí)施方案的描述中,本發(fā)明進(jìn)一步的特征將變得顯而易 見。
【附圖說明】
[0023] 圖1為用TEM觀察的調(diào)色劑顆粒的截面圖像的示意圖。
[0024] 圖2為用差示掃描量熱儀(DSC)測量的根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的調(diào)色劑的可逆熱流 曲線(reversingheatflowcurve) 〇
[0025] 圖3為用于本發(fā)明實(shí)施方案的圖像形成設(shè)備的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0026] 下面將詳細(xì)描述本發(fā)明。
[0027] 根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的調(diào)色劑為包含調(diào)色劑顆粒的調(diào)色劑,所述調(diào)色劑顆粒各自 具有包含有機(jī)娃聚合物的表面層,
[0028] 其中所述有機(jī)硅聚合物具有由下式(T3)表示的部分結(jié)構(gòu),
[0029] R-Si(01/2)3 (T3)
[0030] 其中R表示具有1至6個(gè)碳原子的烷基或苯基,
[0031] 其中所述表面層的如通過用透射電子顯微鏡(TEM)觀察各個(gè)所述調(diào)色劑顆粒的 截面測量的平均厚度Dav.為5.Onm以上且150.Onm以下,和
[0032] 所述調(diào)色劑在通過聚焦離子束飛行時(shí)間二次離子質(zhì)譜法(FIB-TOF-S頂S)的映射 測量中的(ASi/AC)比為20. 00以上,其中ASi表示ISi/I,AC表示IC/I,ISi表示硅離子的 強(qiáng)度,1C表示碳離子的強(qiáng)度,和I表示一次離子的數(shù)量,所述硅離子和所述碳離子響應(yīng)于所 述調(diào)色劑顆粒用一次離子照射而從所述調(diào)色劑顆粒中放出。
[0033] 由于歸因于有機(jī)硅聚合物的T3結(jié)構(gòu)的耐久性和式(T3)中R的疏水性和帶電性, 可減少存在于調(diào)色劑內(nèi)部而不是表面層中且可能滲出的低分子量(Mw為1000以下)樹 月旨、低Tg(40°C以下)樹脂、和在某些情況下的脫模劑的滲出。這可改進(jìn)調(diào)色劑的攪拌性 (agitation)。因此,調(diào)色劑可具有尚儲(chǔ)存穩(wěn)定性,以及關(guān)于在30%以上的尚圖像打印率下 的打印耐久的良好的環(huán)境穩(wěn)定性和顯影耐久性。
[0034] 在由式(T3)表示的部分結(jié)構(gòu)中,R表示具有1至6個(gè)碳原子的烷基或苯基。各種 環(huán)境中電荷量的變化趨于隨著R的疏水性增加。特別地,具有1至5個(gè)碳原子的烷基導(dǎo)致 高環(huán)境穩(wěn)定性。
[0035] 在本發(fā)明的實(shí)施方案中,當(dāng)R表示具有1至3個(gè)碳原子的烷基、特別是甲基時(shí),進(jìn) 一步改進(jìn)了帶電性和起霧的防止。良好的帶電性產(chǎn)生良好的轉(zhuǎn)印性和較少的未轉(zhuǎn)印調(diào)色 劑,這可減少感光鼓、充電構(gòu)件和轉(zhuǎn)印構(gòu)件的污染。
[0036] [ASi/AC]
[0037] 在本發(fā)明的實(shí)施方案中,重要的是調(diào)色劑在通過聚焦離子束飛行時(shí)間二次離子質(zhì) 譜法(下文也稱作FIB-T0F-S頂S)的映射測量中的(ASi/AC)比為20. 00以上,其中ASi表 示ISi/I,AC表示IC/I,ISi表示硅離子的強(qiáng)度(S頂S檢測器的電流值),1C表示碳離子的 強(qiáng)度(S頂S檢測器的電流值),和I表示一次離子的數(shù)量。硅離子(m/z= 27. 50至28. 50) 和碳離子(m/z= 11. 50至12. 50)響應(yīng)于調(diào)色劑顆粒用一次離子照射而從調(diào)色劑顆粒中放 出。在具有包含有機(jī)硅聚合物的表面層的調(diào)色劑顆粒中,20. 00以上的ASi/AC意指表面層 富有有機(jī)硅聚合物。這減少了調(diào)色劑顆粒的表面自由能,減少組件的污染,因而改進(jìn)顯影 耐久性。本發(fā)明的實(shí)施方案中的(ASi/AC)比在其中調(diào)色劑顆粒的積分劑量率(integral doserate)為1.66X1019(/m2)的條件下確定。積分劑量率是指由于用聚焦離子束蝕刻而 入射在調(diào)色劑顆粒上的一次離子的總數(shù)。
[0038] ASi/AC優(yōu)選40. 00以上,更優(yōu)選60. 00以上。
[0039] 有機(jī)硅聚合物可通過具有由下式(1)表示的結(jié)構(gòu)的有機(jī)硅化合物的聚合來生產(chǎn):
[0040]
[0041] 其中R1表示具有1至6個(gè)碳原子的烷基或苯基,和
[0042] R2、R3和R4獨(dú)立地表示鹵素原子、羥基、乙酰氧基或烷氧基。
[0043]ASi/AC可通過由式(T3)表示的R的結(jié)構(gòu)中的碳原子數(shù)、由式(1)表示R1的結(jié)構(gòu) 中的碳原子數(shù)、水解條件,以及加成聚合和縮聚的反應(yīng)溫度、反應(yīng)時(shí)間、反應(yīng)溶劑和pH來控 制。例如,R1的碳原子數(shù)優(yōu)選5以下,更優(yōu)選3以下,仍更優(yōu)選2以下。具有由式⑴表示的 結(jié)構(gòu)的化合物優(yōu)選在85°C以上的反應(yīng)溫度下聚合5小時(shí)以上的反應(yīng)時(shí)間,更優(yōu)選在100°C 以上的反應(yīng)溫度下聚合5小時(shí)以上的反應(yīng)時(shí)間。在具有由式(1)表示的結(jié)構(gòu)的化合物的反 應(yīng)中使用的反應(yīng)溶劑的pH優(yōu)選4.0以上且12. 0以下,更優(yōu)選8. 5以上且11.0以下。調(diào)色 劑顆粒表面上的有機(jī)硅聚合物的量可通過包含具有由式(1)表示的結(jié)構(gòu)的化合物的單體 組合物在這樣的反應(yīng)條件下聚合來增加。
[0044] 有機(jī)硅聚合物在調(diào)色劑顆粒的表面層中以及在調(diào)色劑顆粒的表面上的存在還可 通過用聚焦離子束部分蝕刻調(diào)色劑顆粒的表面層并測量ASi/AC來檢測。
[0045] 調(diào)色劑顆粒中包含有機(jī)硅聚合物的表面層可減少樹脂組分或脫模劑的滲出。因 此,調(diào)色劑可具有良好的顯影耐久性、儲(chǔ)存穩(wěn)定性和環(huán)境穩(wěn)定性。相對(duì)于調(diào)色劑顆粒的積分 劑量率,蝕刻深度取決于調(diào)色劑顆粒的表面的硬度和調(diào)色劑顆粒的材料組成。
[0046] [調(diào)色劑顆粒中包含有機(jī)硅聚合物的表面層的平均厚度Dav.,和表面層的厚度為 5.Onm以下的百分比]
[0047] 通過用透射電子顯微鏡(TEM)觀察各個(gè)調(diào)色劑顆粒的截面測量的調(diào)色劑顆粒中 包含有機(jī)硅聚合物的表面層的平均厚度Dav.必須為5.Onm以上且150.Onm以下。在本發(fā) 明的實(shí)施方案中,包含有機(jī)硅聚合物的表面層可與除調(diào)色劑顆粒表面層以外的部分(芯部 分)之間無間隙地接觸。換言之,表面層可以不是由團(tuán)聚體形成的覆蓋層。這可減少脫模 劑或樹脂組分的滲出。因此,調(diào)色劑可具有高儲(chǔ)存穩(wěn)定性、環(huán)境穩(wěn)定性和顯影耐久性,而沒 有低溫定影性的劣化。從儲(chǔ)存穩(wěn)定性的角度,調(diào)色劑顆粒中包含有機(jī)硅聚合物的表面層的 平均厚度Dav.優(yōu)選10.Onm以上且150.Onm以下,更優(yōu)選10.Onm以上且125.Onm以下,仍 更優(yōu)選15.Onm以上且100.Onm以下。
[0048] 調(diào)色劑顆粒中包含有機(jī)硅聚合物的表面層的平均厚度Dav.可經(jīng)式(T3)中R的碳 原子數(shù)、式(1)中R1的碳原子數(shù),以及水解、加成聚合和縮聚的反應(yīng)溫度、反應(yīng)時(shí)間、反應(yīng)溶 劑和pH來控制。平均厚度Dav.還可經(jīng)有機(jī)硅聚合物含量來控制。
[0049] 為了增加調(diào)色劑顆粒中包含有機(jī)硅聚合物的表面層的平均厚度Dav.A1的碳原子 數(shù)優(yōu)選5以下,更優(yōu)選3以下,仍更優(yōu)選2以下。當(dāng)R1的碳原子數(shù)為5以下時(shí),有機(jī)硅聚合 物更可能存在于調(diào)色劑顆粒的表面層中。
[0050] 調(diào)色劑顆粒中包含有機(jī)硅聚合物的表面層的平均厚度Dav.由下列方法確定。
[0051] -個(gè)調(diào)色劑顆粒中包含有機(jī)硅聚合物的表面層的平均厚度D(n)由下列方法確定。
[0052] 在用透射電子顯微鏡(TEM)觀察各個(gè)調(diào)色劑顆粒的截面時(shí),
[0053] i)將在各個(gè)調(diào)色劑顆粒的截面中的最長弦作為長軸L,
[0054] ii)由長軸L的中點(diǎn)分割長軸L形成的線段之一由線段a表示,和
[0055] iii)從長軸L的中點(diǎn)至調(diào)色劑顆粒表面以相對(duì)于線段a為11. 25度的間隔畫出的 32條線段由Arn(n=1至32)表示。
[0056] 此外,沿Arn(n= 1至32)的表面層的長度由FRAn(n= 1至32)表示。
[0057] D(n) =(FRAn(n= 1 至 32)的和)/32
[0058] 對(duì)10個(gè)調(diào)色劑顆粒進(jìn)行該計(jì)算。調(diào)色劑顆粒的包含有機(jī)硅聚合物的表面層的平 均厚度Dav.通過使用下式取10個(gè)調(diào)色劑顆粒的厚度D(n) (η為1至10的整數(shù))的平均值 計(jì)算。
[0059] Dav. ={D⑴+D⑵+D⑶+D⑷+D(5)+D(6)+D(7)+D⑶+D(9)+D(1〇)} /10
[0060] 本發(fā)明實(shí)施方案中的有機(jī)硅聚合物可具有在調(diào)色劑顆粒的最外表面層中的ASi/ AC最大值。調(diào)色劑顆粒的此類結(jié)構(gòu)可減少樹脂組分或脫模劑的滲出。因而,調(diào)色劑可具有 高儲(chǔ)存穩(wěn)定性、環(huán)境穩(wěn)定性和顯影耐久性。在本發(fā)明的實(shí)施方案中,調(diào)色劑顆粒的最外表面 層意指距離調(diào)色劑顆粒的表面0. 〇nm以上且10.Onm以下的區(qū)域。
[0061] FRA# 5.Onm以下的線段Ar"的百分比K(=表面層的厚度為5.Onm以下的百分 比)優(yōu)選20.0%以下,更優(yōu)選10.0%以下,仍更優(yōu)選5.0%以下(參見圖1)。
[0062] 當(dāng)FRAnS5.Onm以下的線段Ar"的百分比K為20. 0%以下時(shí),調(diào)色劑不論環(huán)境的 變化都具有更穩(wěn)定的帶電特性。
[0063] 調(diào)色劑顆粒中包含有機(jī)硅聚合物的表面層的平均厚度Dav.和百分比K可經(jīng)式 (T3)中R的碳原子數(shù)、式(1)中R1的碳原子數(shù)、溫度、反應(yīng)時(shí)間、反應(yīng)溶劑和pH來控制。平 均厚度Dav.和百分比K還可經(jīng)有機(jī)硅聚合物含量來控制。
[0064] 百分比K由下列方法確定。
[0065] 首先,使用下式計(jì)算一個(gè)調(diào)色劑顆粒的百分比K'。
[0066]FRA# 5.Onm以下的Ar"的百分比K'=((FRA"為5.Onm以下的線段的數(shù) 量)/32)X100
[0067] 接著計(jì)算10個(gè)調(diào)色劑顆粒的百分比K'。計(jì)算10個(gè)百分比的算術(shù)平均數(shù)作為百分 比K〇
[0068][調(diào)色劑顆粒的表面上硅元素的濃度]
[0069] 根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的調(diào)色劑的調(diào)色劑顆粒的表面上如通過化學(xué)分析用電子能 譜法(ESCA)測量的硅元素的濃度為2. 5原子%以上,更優(yōu)選5. 0原子%以上,仍更優(yōu)選 10. 0原子%以上。ESCA為具有幾納米厚度的最外表面的元素分析。當(dāng)調(diào)色劑顆粒的最外表 面層中硅元素的濃度為2. 5原子%以上時(shí),最外表面層可具有較低的表面自由能。當(dāng)硅元 素的濃度調(diào)整為2. 5原子%以上時(shí),調(diào)色劑具有改進(jìn)的流動(dòng)性、組件污染和起霧可進(jìn)一步 得到抑制。調(diào)色劑顆粒的最外表面層中硅元素的濃度可經(jīng)式(Τ3)中R的碳原子數(shù)、式(1) 中R1的碳原子數(shù)、反應(yīng)溫度、反應(yīng)時(shí)間、反應(yīng)溶劑和pH來控制。調(diào)色劑顆粒的最外表面層 中硅元素的濃度還可經(jīng)有機(jī)硅聚合物含量來控制。
[0070] [用于有機(jī)硅聚合物的生產(chǎn)的化合物]
[0071] 有機(jī)硅聚合物可通過聚合性單體的聚合來生產(chǎn),所述聚合性單體包含具有由下式 (1)表示的結(jié)構(gòu)的化合物:
[0072]
[0073] 其中R1表示具有1至6個(gè)碳原子的烷基或苯基,R2、R3和R4獨(dú)立地表示鹵素原子、 羥基、乙酰氧基或烷氧基。
[0074] 調(diào)色劑顆粒的表面層中的有機(jī)硅聚合物可改進(jìn)調(diào)色劑顆粒的表面的疏水性。這可 改進(jìn)調(diào)色劑的環(huán)境穩(wěn)定性。R1的烷基可改進(jìn)疏水性。因此,調(diào)色劑顆??删哂辛己玫沫h(huán)境 穩(wěn)定性。R1可為具有1至6個(gè)碳原子的烷基或苯基。在各種環(huán)境中電荷量的變化趨于隨著 R1的疏水性而增加。因此,考慮環(huán)境穩(wěn)定性,R1可為具有1至3個(gè)碳原子的烷基。
[0075] 具有1至3個(gè)碳原子的烷基的實(shí)例包括,但不限于,甲基、乙基和丙基。使用此類 烷基導(dǎo)致改進(jìn)的帶電性和起霧的防止。從環(huán)境穩(wěn)定性和儲(chǔ)存穩(wěn)定性的角度,R1可為甲基。 由于式(1)中R1的疏水性和帶電性,可減少存在于調(diào)色劑內(nèi)部而不是表面層中且可能滲出 到調(diào)色劑表面上的低分子量(Mw為1000以下)樹脂、低Tg(40°C以下)樹脂、和在某些情況 下的脫模劑的滲出。這可改進(jìn)調(diào)色劑的攪拌性。因此,調(diào)色劑可具有高儲(chǔ)存穩(wěn)定性,以及關(guān) 于在30%以上的高圖像打印率下的打印耐久的良好的環(huán)境穩(wěn)定性和顯影耐久性。
[0076] 為了在表面層中包含有機(jī)硅聚合物,R1的碳原子數(shù)優(yōu)選5以下,更優(yōu)選3以下,仍 更優(yōu)選2以下。
[0077]R2、R3和R4獨(dú)立地表示鹵素原子、羥基或烷氧基(R2、R3和R4下文中還稱作反應(yīng)性 基團(tuán))。這些反應(yīng)性基團(tuán)經(jīng)歷水解、加成聚合或縮聚,從而形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)。調(diào)色劑顆粒的表 面上的此類交聯(lián)結(jié)構(gòu)可改進(jìn)調(diào)色劑的顯影耐久性。特別地,從緩慢的水解和有機(jī)硅聚合物 在調(diào)色劑顆粒的表面上的析出和涂覆性的角度,R2、R3和R4可獨(dú)立地表示烷氧基,例如甲氧 基或乙氧基。R2、R3和R4的水解、加成聚合或縮聚可經(jīng)反應(yīng)溫度、反應(yīng)時(shí)間、反應(yīng)溶劑和pH 來控制。
[0078] [有機(jī)硅聚合物的生產(chǎn)方法]
[0079] 根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的有機(jī)硅聚合物的典型生產(chǎn)方法為溶膠-凝膠法。在溶 膠-凝膠法中,金屬醇鹽M(0R)n(M:金屬,0 :氧,R:經(jīng),η:金屬的價(jià)態(tài))用作起始材料。金 屬烷氧化物在溶劑中進(jìn)行水解和縮聚并經(jīng)溶膠狀態(tài)轉(zhuǎn)化成凝膠。該方法用于合成玻璃、陶 瓷、有機(jī)-無機(jī)雜化物(hybrid)、和納米復(fù)合物。具有各種形狀的功能性材料如表面層、纖 維、結(jié)塊體(bulk)和細(xì)顆粒可通過低溫下的液相法生產(chǎn)。
[0080] 更具體地,調(diào)色劑顆粒的表面層通過硅化合物如烷氧基硅烷的水解縮聚來形成。 由于表面層均勻形成在調(diào)色劑顆粒的表面上,因此不像已知的調(diào)色劑,該調(diào)色劑可具有改 進(jìn)的環(huán)境穩(wěn)定性,在長期使用期間不太傾向于性能劣化,且具有高儲(chǔ)存穩(wěn)定性,而沒有無機(jī) 細(xì)顆粒粘著或附著至調(diào)色劑的表面。
[0081] 由于溶液通過溶膠-凝膠法轉(zhuǎn)化成凝膠,可生產(chǎn)具有各種微細(xì)結(jié)構(gòu)和形狀的材 料。特別地,當(dāng)調(diào)色劑顆粒在水性介質(zhì)中生產(chǎn)時(shí),由于親水性基團(tuán)如有機(jī)硅化合物的硅烷醇 基的親水性,表面層可容易地形成于調(diào)色劑顆粒的表面上。然而,當(dāng)有機(jī)硅化合物具有高疏 水性時(shí)(例如,當(dāng)有機(jī)硅化合物具有疏水性官能團(tuán)時(shí)),有機(jī)硅化合物很少析出在調(diào)色劑顆 粒的表面層上,包含有機(jī)硅聚合物的表面層很少形成在調(diào)色劑顆粒上。當(dāng)有機(jī)硅化合物的 式(1)中R1的結(jié)構(gòu)不具有碳原子時(shí),調(diào)色劑由于過低的疏水性而傾向于具有低的帶電穩(wěn)定 性。微細(xì)結(jié)構(gòu)和形狀可經(jīng)反應(yīng)溫度、反應(yīng)
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