一種曝光方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及液晶顯示領(lǐng)域，特別涉及一種采用掩膜板曝光的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]隨著電子產(chǎn)業(yè)日益發(fā)達(dá)，移動(dòng)電話(Mobile Phone)、個(gè)人數(shù)字助理(PersonalDigital Assistant)、筆記型計(jì)算機(jī)(Notebook)及平板型計(jì)算機(jī)(PlanetComputer)等數(shù)字化工具無不朝向更便利、多功能且美觀的方向發(fā)展。并且，移動(dòng)電話、個(gè)人數(shù)字助理、筆記型計(jì)算機(jī)及平板型計(jì)算機(jī)中的顯示屏幕是不可或缺的人機(jī)溝通界面。液晶顯示器(Liquid Crystal Display，IXD)、有機(jī)電激發(fā)光顯示器(Organic Light EmittingDisplay, 0LED)等由于其體積小、重量輕、厚度薄及功耗低等優(yōu)點(diǎn)被廣泛地應(yīng)用于掌上電腦、電視機(jī)及監(jiān)視器等電子產(chǎn)品中。
[0003]現(xiàn)有的液晶面板在制作過程中主要分為三個(gè)步驟:(I)陣列制程；(2)組立制程；
[3]模組制程。在陣列制程中需要根據(jù)玻璃基板上的電路布局，設(shè)計(jì)制作一個(gè)或者多個(gè)掩膜板(Mask)，然后再利用光刻工藝將該掩膜板上的圖案轉(zhuǎn)移到玻璃基板上。其中，掩膜板也可以稱為掩膜或者光罩板，是一種對(duì)于曝光光線可透光的基板，其上具有對(duì)于曝光光線具有遮光性的至少一個(gè)圖案，可實(shí)現(xiàn)有選擇性的遮擋到玻璃基板表面光阻液上的光，并最終在玻璃基板表面的光阻液上形成相應(yīng)的圖案。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)中，在同一 MASK上的圖案區(qū)的圖案都相同，基板上有幾個(gè)的曝光位置的，MASK上就有幾個(gè)相同圖案的圖案區(qū)。當(dāng)產(chǎn)品結(jié)構(gòu)越復(fù)雜，涉及的曝光工序越多，多個(gè)曝光工序中所需要的MASK種類也就越多，例如CMOS結(jié)構(gòu)的LTPS共需要使用到11塊不同的MASK,對(duì)于PMOS結(jié)構(gòu)的LTPS共需使用9塊不同的MASK，而MASK的生產(chǎn)成本非常高，當(dāng)每條研發(fā)線開發(fā)的產(chǎn)品型號(hào)較多時(shí)，由此會(huì)產(chǎn)生了很大的MASK成本耗費(fèi)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提供一種可應(yīng)減少掩膜板數(shù)量、從而降低生產(chǎn)成本的曝光方法。
[0006]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明實(shí)施方式提供如下技術(shù)方案:
[0007]本發(fā)明提供一種曝光方法，其特征在于，包括如下步驟:
[0008]在移動(dòng)載臺(tái)上裝載基板，所述基板上設(shè)有待曝光區(qū)域；
[0009]在掩膜板載臺(tái)上裝載掩膜板，所述掩膜板載臺(tái)位于所述移動(dòng)載臺(tái)上方，所述掩膜板上具有多個(gè)圖案區(qū)；
[0010]移動(dòng)所述移動(dòng)載臺(tái)，使得所述基板上的待曝光區(qū)域與所述掩膜板上的所述圖案區(qū)逐一對(duì)齊，每次對(duì)齊其中一個(gè)所述圖案區(qū)后，均將曝光光源對(duì)準(zhǔn)與所述待曝光區(qū)域?qū)R的所述圖案區(qū)，進(jìn)行曝光。
[0011]其中，所述多個(gè)圖案區(qū)的圖案各不相同。
[0012]其中，所述圖案區(qū)的數(shù)量為6個(gè)。
[0013]其中，所述6個(gè)圖案區(qū)的面積相同。
[0014]其中，所述6個(gè)圖案區(qū)呈陣列排布。
[0015]本發(fā)明還提供另一種曝光方法，包括如下步驟:
[0016]在移動(dòng)載臺(tái)上裝載基板，所述基板上設(shè)有多個(gè)待曝光區(qū)域；
[0017]在掩膜板載臺(tái)上裝載掩膜板，所述掩膜板載臺(tái)位于所述移動(dòng)載臺(tái)上方，所述掩膜板上具有多個(gè)圖案區(qū)；
[0018]移動(dòng)所述移動(dòng)載臺(tái)，使得所述掩膜板上的其中一個(gè)所述圖案區(qū)與基板上的所述多個(gè)待曝光區(qū)域逐一對(duì)齊并進(jìn)行曝光；
[0019]通過重復(fù)移動(dòng)所述移動(dòng)載臺(tái)，使得所述掩膜板上的其它的所述圖案區(qū)與基板上的多個(gè)待曝光區(qū)域逐一對(duì)齊并進(jìn)行曝光，直至完成所有的所述圖案區(qū)域在所述多個(gè)待曝光區(qū)域的曝光。
[0020]其中，所述基板上包括6個(gè)所述待曝光區(qū)域。
[0021]其中，所述多個(gè)圖案區(qū)的圖案各不相同。
[0022]其中，所述圖案區(qū)的數(shù)量為6個(gè)。
[0023]其中，所述6個(gè)圖案區(qū)的面積相同。。
[0024]本發(fā)明實(shí)施例具有如下優(yōu)點(diǎn)或有益效果:
[0025]在本發(fā)明中通過在掩膜板設(shè)置多個(gè)圖案區(qū)，并且使得每個(gè)圖案區(qū)分別對(duì)應(yīng)基板的一個(gè)曝光工序，通過移動(dòng)基板與所述多個(gè)圖案區(qū)逐一對(duì)應(yīng)，完成各道曝光工序的方法，實(shí)現(xiàn)了原本基板的多個(gè)曝光工序中需要多個(gè)掩膜板才能完成的曝光過程，達(dá)到了減少掩膜板的數(shù)量，降低產(chǎn)品生產(chǎn)成本的技術(shù)效果。
【附圖說明】
[0026]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0027]圖1是本發(fā)明掩膜板的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028]圖2是采用圖1所示掩膜板的曝光方法流程圖。
[0029]圖3是采用圖1所示掩膜板的另一種曝光方法流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0030]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0031]圖1示意性地顯示了本發(fā)明的掩膜板10的結(jié)構(gòu)示意圖。掩膜板10包括多個(gè)不同圖案區(qū)11。即所述多個(gè)圖案區(qū)11中的圖形各不相同。每個(gè)所述圖案區(qū)11各對(duì)應(yīng)一道曝光工序。在對(duì)基板進(jìn)行曝光過程中，曝光光線可以透過所述圖案區(qū)11到達(dá)基板，并在基板的光阻膜上形成與所述圖案區(qū)11中圖形相同的光阻圖案，完成曝光過程。
[0032]在本發(fā)明中，基板的曝光過程包括多道曝光工序，每道曝光工序都需要將曝光光線通過一個(gè)圖案區(qū)11對(duì)基板進(jìn)行曝光，并將圖案區(qū)11中的圖形通過曝光形成在所述基板的光阻膜上。
[0033]進(jìn)一步的，在本實(shí)施例中，所述掩膜板10上包括6個(gè)不相同的圖案區(qū)11。所述6個(gè)圖案區(qū)11的面積相同。換而言之，所述圖案區(qū)11的尺寸大致為所述基板的六分之一。本發(fā)明的曝光過程包括6道曝光工序，每個(gè)圖案區(qū)11各與其中一道曝光工序相對(duì)應(yīng)。
[0034]更進(jìn)一步的，在本發(fā)明中，在進(jìn)行每道曝光工序過程中，每個(gè)所述圖案區(qū)11可以對(duì)應(yīng)基板上的多個(gè)曝光位置。具體的，通過移動(dòng)所述基板，使所述基板上的多個(gè)曝光位置依次與該工序中對(duì)應(yīng)的所述圖案區(qū)11相對(duì)齊，進(jìn)而對(duì)所述基板上的多個(gè)曝光位置進(jìn)行依次曝光。完成該曝光工序。
[0035]顯而易見的，在其他實(shí)施例中，還可以通過移動(dòng)掩膜板10依次與所述基板上的多個(gè)曝光位置對(duì)齊，完成該曝光工序。
[0036]本發(fā)明中，通過將原本設(shè)置在多個(gè)掩膜板10上的圖案區(qū)11，合并在同一個(gè)掩膜板10上，在基板曝光過程中通過移動(dòng)基板，逐一與多個(gè)圖案區(qū)11對(duì)齊，進(jìn)行曝光。在一個(gè)掩膜板10上就可以完成多道曝光工序，從而節(jié)省了掩膜板10的數(shù)量，進(jìn)而降低了生產(chǎn)成本。
[0037]本發(fā)明提供了一種采用上述掩膜板10的曝光方法，請(qǐng)參閱圖2，本發(fā)明的曝光方法包括下列步驟:
[0038]首先，如SI所示，在移動(dòng)載臺(tái)上裝載基板；所述基板上設(shè)有待曝光區(qū)域。
[0039]然后，如S2所示，在掩膜板10載臺(tái)上裝載掩膜板10，所述掩膜板10載臺(tái)位