于鏡架之后從所制造的光學(xué)鏡片中消失。在本實施例中，參考元件的可見度可以比前述實施例中的可見度高得多。
[0090]根據(jù)本發(fā)明的實施例，參考元件被安排成僅在特定照明條件下可見。
[0091]參考元件111可以包括光學(xué)鏡片構(gòu)件的折射率的局部修改。例如，參考元件包括標記集合。每個標記都可以具有幾微米的尺寸，例如在I μ m與5 μ m之間，并且每個標記都離其他標記約10 μ m至20 μ m遠。
[0092]有利的是，這些標記那么小以致于它們對光學(xué)鏡片的佩戴者而言是不可辨別的，但是它們的尺寸足以在特定照明條件下產(chǎn)生光散射點。組成該集合的這些標記足夠近以允許標識形狀，例如基本幾何形狀，如正方形、圓形、三角形等...。
[0093]可以通過使用具有在飛秒范圍內(nèi)的脈沖時長的脈沖式激光源來獲得此類微標記。激光源發(fā)射的光被聚焦在光學(xué)鏡片構(gòu)件內(nèi)。
[0094]作為非限制性示例，諸位發(fā)明人已經(jīng)使用Amplitude Systemes公司的S-Pulse激光源獲得了良好結(jié)果。使用三豐公司(Mitutoyo)的物鏡使此激光源發(fā)射的光聚焦在光學(xué)鏡片構(gòu)件內(nèi)。所使用的激光具有約1030nm的波長、約650fs的脈沖時長、對于1kHz的循環(huán)的約IW的平均功率，并且該物鏡是具有約0.4的數(shù)值孔徑的顯微鏡物鏡20x且被置于聚焦點的約1mm處。使用此類參數(shù)，諸位發(fā)明人已經(jīng)獲得了在鏡片構(gòu)件的激光側(cè)表面下方約Imm處的多個良好的子表面標記。根據(jù)一個實施例，參考元件可以包括多個子表面標記。這些子表面標記可以限定平面Pl，優(yōu)選地，平面Pl垂直于參考系的主軸(Z)。
[0095]此外，當這些子表面標記被加亮?xí)r，可以安排其形成特定的形狀，例如圓形或正方形，優(yōu)選地，此類形狀在垂直于主軸(Z)的平面Pl內(nèi)。有利的是，當通過這些光學(xué)表面之一將參考元件可視化時，這些子表面標記所限定的形狀的變形可以輕易地與光學(xué)鏡片構(gòu)件的位置繞兩個軸X和Y的傾角聯(lián)系起來。
[0096]根據(jù)圖3和圖4上所展示的本發(fā)明的實施例，參考元件可以包括圖4中表示為正方形的第一子表面標記集合112和圖4中表不為圓形的第二子表面標記集合113。每個子表面標記集合限定平面Pl和平面P2。平面Pl和平面P2彼此不同，優(yōu)選地，彼此平行并且垂直于光學(xué)鏡片的第一面的特定點。。
[0097]根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，標記集合是根據(jù)光學(xué)數(shù)據(jù)和觀察數(shù)據(jù)確定的。
[0098]光學(xué)數(shù)據(jù)表示光學(xué)鏡片構(gòu)件的折射特性。
[0099]光學(xué)數(shù)據(jù)可以表示第一和第二表面的設(shè)計、第二表面相對于第一表面的位置，例如光學(xué)鏡片的厚度和棱鏡以及折射率。例如，光學(xué)數(shù)據(jù)表示佩戴者的處方。
[0100]觀察數(shù)據(jù)表示有待觀察的第一和第二子表面標記集合的多個觀察條件?？梢酝ㄟ^考慮觀察設(shè)備和所制造的鏡片在觀察設(shè)備中的位置來限定這些觀察條件?？梢詫⑺圃斓墓鈱W(xué)鏡片在觀察設(shè)備中的位置定義為光學(xué)鏡片參考系和觀察設(shè)備參考系的位置。
[0101]有利的是，確定兩個標記集合的相對位置變得容易得多，尤其是當在觀察條件下實現(xiàn)對第一和第二標記集合的觀察時。
[0102]根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，這些子表面標記被安排成當光學(xué)鏡片構(gòu)件被正確地定位在參考系中時在這些觀察條件下出現(xiàn)在相同的位置處。因此，在觀察條件下，這些第二和第一標記看起來是重疊的。這簡化了封阻步驟之前的鏡片定位操作。
[0103]根據(jù)圖5A至圖5C上所展示的本發(fā)明的一個實施例，可以確定這些子表面標記集合，從而考慮定位誤差容差。
[0104]例如，如圖5A上所展示的，第二標記113可以具有圓形形狀，并且可以被確定以便當光學(xué)鏡片構(gòu)件被正確地定位在參考系中時在觀察條件下集中出現(xiàn)在第一標記112上。可以基于誤差位置容差確定圓形形狀的第二標記的半徑。
[0105]因此，當光學(xué)鏡片構(gòu)件的定位誤差大于誤差位置容差時，第一標記出現(xiàn)在第二標記外，如圖5B上所展示的。
[0106]然而，當光學(xué)鏡片構(gòu)件的定位誤差小于誤差位置容差時，第一標記出現(xiàn)在第二標記內(nèi)側(cè)，如圖5C上所展示的。
[0107]如圖6上所示，本發(fā)明進一步涉及一種封阻光學(xué)鏡片構(gòu)件的方法。
[0108]該方法包括:
[0109]-光學(xué)鏡片構(gòu)件提供步驟SI;
[0110]-粘貼步驟S2;
[0111]-封阻件提供步驟S3;
[0112]-光學(xué)鏡片構(gòu)件定位步驟S4；
[0113]-封阻步驟S5。
[0114]在光學(xué)鏡片構(gòu)件提供步驟SI過程中，提供根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)鏡片構(gòu)件，例如如上文所述的光學(xué)鏡片構(gòu)件。
[0115]在粘貼步驟S2過程中，在鏡片構(gòu)件的第一面上提供粘帶以至少覆蓋第一面的一部分。
[0116]US 6，036，013中給出了適合的粘帶的多個示例。
[0117]在封阻件提供步驟S3過程中，提供具有封阻件參考系的封阻件。
[0118]在光學(xué)鏡片構(gòu)件定位步驟S4過程中，將光學(xué)鏡片置于封阻件上并使用這些子表面參考元件將其相對于封阻件參考系定位于封阻位置中。
[0119]在封阻步驟S5過程中，在封阻件上將光學(xué)鏡片構(gòu)件封阻在封阻位置。使用子表面參考元件相對于封阻件參考系來確定封阻位置。
[0120]現(xiàn)在參照圖7，用于在制造工藝中將光學(xué)鏡片構(gòu)件10封阻在正確位置上的鏡片封阻裝置包括鑲塊21和封阻環(huán)22。將封阻鑄造材料24灌入由光學(xué)鏡片構(gòu)件10的下表面、鑲塊21以及封阻環(huán)22所限定的空腔中。封阻鑄造材料24冷卻而凝固，以便在針對機加工的期望定位處提供用于鏡片構(gòu)件10的封阻件。
[0121]如圖8中所展示的，鏡片封阻裝置20是封阻臺30的一部分。封阻臺30包括封阻裝置20和夾持臂35，該封阻裝置被布置在封阻臺30的頂板31上，該夾持臂可以從自由位置移動到夾持位置，在該夾持位置上，該夾持臂將光學(xué)鏡片構(gòu)件10在封阻裝置20上固持在位。封阻臺30還包括用于拍攝鏡片構(gòu)件10在封阻裝置20上的定位圖像的數(shù)碼相機36、以及用于觀看來自數(shù)碼相機36的圖像的屏幕37。鏡片構(gòu)件10還可以由操作者在不使用數(shù)碼相機36的情況下直接觀看。
[0122]如在圖9上所示的，封阻裝置20配備有包括設(shè)置在封阻環(huán)22上的多個對準標記222和一個中央標記211在內(nèi)的多個封阻件參考標記。在封阻環(huán)的中心設(shè)置有鑲塊的情況下，中央標記211可以被設(shè)置在該鑲塊上。封阻臺30的頂板31專用于接納頂板31上的封阻環(huán)22。環(huán)上的對準標記222可以包括一個孔，用于接納在頂板31上相應(yīng)的定位突出部，從而允許環(huán)22被正確地定位在封阻板31上。這些對準標記222可以進一步配備有沿著一條參考軸線的線標記，以便輔助對準。
[0123]在光學(xué)鏡片構(gòu)件10已經(jīng)被放置在封阻裝置20上之后，在繼續(xù)該封阻過程之前，操作者可以通過相對于封阻裝置20的那些參考標記對光學(xué)鏡片構(gòu)件10的子表面參考元件111進行直接可視化來對定位品質(zhì)做出一個初始判斷。如果操作者對初始定位不滿意，那么可以在封阻裝置20上手動地或自動地重新定位光學(xué)鏡片構(gòu)件10。一旦操作者對定位滿意，就可以將夾持臂35放置在位以使光學(xué)鏡片構(gòu)件10在封阻裝置20上固持在位。
[0124]隨后可以使用數(shù)碼相機36來對光學(xué)鏡片構(gòu)件10在封阻裝置20上的定位進行量化。為了測量鏡片構(gòu)件10的定位，借助于如圖8中所展示的封阻裝置20的相機36透過鏡片構(gòu)件10來觀看參考元件111以及設(shè)置在封阻裝置20上的參考標記211和222。
[0125]參考元件的位置和/或定向可以是通過透過外周邊表面照亮光學(xué)鏡片構(gòu)件并且捕捉被照亮的子表面參考元件的圖像(例如使用相機36)。
[0126]根據(jù)本發(fā)