光學特性優(yōu)秀的防反射膜的制作方法
【技術領域】
[0001] 本發(fā)明提供光學特性優(yōu)秀的防反射膜。
【背景技術】
[0002] 在顯示器暴露于各種照明及自然光等外光的情況下，由于反射光，在顯示器內(nèi)部 形成的圖像不能清晰地進入眼睛，由此導致對比度（contrast)的下降，從而不僅導致難以 觀看畫面并且感到眼睛疲勞或引發(fā)頭痛。由于這種理由，對防反射的要求也變得非常高。
[0003] 隨著強調(diào)防反射必要性，開發(fā)了高折射層與低折射層反復的防反射膜，以尋找在 可見光范圍具有防反射效果的膜結構，并且持續(xù)進行了減少層的數(shù)量的研宄。進而，防反射 膜的發(fā)展形態(tài)為在高折射層上部涂敷低折射層，可知低折射層的折射率與高折射層的折射 率之差越大，防反射效果就越卓越，但是包括低折射層及高折射層的防反射膜在設計方面 仍然存在困難。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 本發(fā)明要解決的摶術問題
[0005] 本發(fā)明的一實例提供利用高折射層和低折射層來表現(xiàn)出卓越的防反射效果并改 善附著力及光學特性的防反射膜。
[0006] 摶術方案
[0007] 本發(fā)明的一實例提供防反射膜，上述防反射膜為透明基材、高折射層及低折射層 的層疊結構，上述低折射層包含粘結劑和中空二氧化硅粒子，其中，上述粘結劑通過由以下 述化學式1表示的硅烷化合物與以下化學式2表示的有機硅烷化合物聚合而成，
[0008] 化學式1:
[0009]R^Si^R2)^,
[0010]在上述化學式1中，R1為碳數(shù)1~10的烷基、碳數(shù)6~10的芳基或碳數(shù)3~10 的烯基，R2為碳數(shù)1~6的烷基，x表示0彡x < 4的整數(shù)，
[0011] 化學式2:
[0012] R3ySi(0R4)4_ y，
[0013] 在上述化學式2中，R3為碳數(shù)1~12的氟烷基（fluoroalkyl)，R 4為碳數(shù)1~6 的烷基，y表不〇 < x < 4的整數(shù)。
[0014] 以上述化學式1表示的硅烷化合物可以為選自由四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、 四丙氧基硅烷、四異丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四仲丁氧基硅烷、四叔丁氧基硅烷、三甲 氧基硅烷、三乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基 三乙氧基硅烷、丙基三甲氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、異丁基三乙氧基硅烷、環(huán)己基三甲 氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基 硅烷、烯丙基三甲氧基硅烷、烯丙基三乙氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基 硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷以及它們的組合組成的組中的一種以上 的化合物。
[0015] 以上述化學式2表示的有機硅烷化合物可以為選自由三氟甲基三甲氧基硅烷、三 氟甲基三乙氧基硅烷、三氟丙基三甲氧基硅烷、三氟丙基三乙氧基硅烷、九氟丁基乙基三甲 氧基硅烷、九氟丁基乙基三乙氧基硅烷、九氟己基三甲氧基硅烷、九氟己基三乙氧基硅烷、 十三氟辛基三甲氧基硅烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷、十七氟癸基三甲氧基硅烷、十七氟癸 基三乙氧基硅烷以及它們的組合組成的組中的一種以上的化合物。
[0016] 上述中空二氧化硅粒子的數(shù)均直徑可以是約lnm至約lOOOnm。
[0017] 相對于上述中空二氧化硅粒子100重量份，可包含約10重量份至約120重量份的 上述粘結劑。
[0018] 上述低折射層的折射率可以是約1. 2至約1. 25。
[0019] 上述低折射層的厚度可以是約50nm至約150nm。
[0020] 上述高折射層的折射率可以是約1. 6至約1. 7。
[0021] 上述高折射層的厚度可以是約100nm至約500nm。
[0022] 上述防反射膜的對于水的接觸角可以是約70°以下。
[0023] 上述防反射膜的反射率在約450nm至約650nm的波長范圍內(nèi)可以小于約0. 5%。
[0024] 當向上述防反射膜照射白色光時，反射光的顏色a*值及顏色b*值可以是-1 <a* < 2 及-1 <b* < 1〇
[0025] 有益效果
[0026] 上述防反射膜可具有卓越的附著力及優(yōu)秀的光學特性。
[0027] 并且，由于上述防反射膜的防反射效果優(yōu)秀，因而可適用于觸摸膜等各種顯示設 備。
【附圖說明】
[0028] 圖1以圖式化的方式表示了作為本發(fā)明的一實例的防反射膜。
【具體實施方式】
[0029] 以下，將對本發(fā)明的實例進行詳細的說明。但上述實例只是例示性的，本發(fā)明并不 受其限制，本發(fā)明僅由發(fā)明要求保護范圍來定義。
[0030] 本發(fā)明的一實例提供防反射膜，上述防反射膜為透明基材、高折射層及低折射層 的層疊結構，上述低折射層包含粘結劑和中空二氧化硅粒子，其中，上述粘結劑由以下述化 學式1表示的硅烷化合物與以下述化學式2表示的有機硅烷化合物聚合而成，
[0031] 化學式1:
[0032] R^Si^R2)^,
[0033] 在上述化學式1中，R1為碳數(shù)1~10的烷基、碳數(shù)6~10的芳基或碳數(shù)3~10 的烯基，R2為碳數(shù)1~6的烷基，x表示0彡x< 4的整數(shù)，
[0034] 化學式2 :
[0035] R3ySi(0R4)4_y，
[0036] 在上述化學式2中，R3為碳數(shù)1~12的氟烷基，R4為碳數(shù)1~6的烷基，y表示 0彡x< 4的整數(shù)。
[0037] 通常情況下，低折射層的折射率與高折射層的折射率之間的差異越大，防反射效 果越卓越。因此，基于作為低折射材料的中空型二氧化硅粒子的開發(fā)，有關折射率非常低的 低折射涂敷材料持續(xù)進行了研宄，但是像利用現(xiàn)有的丙烯酸酯樹脂來開發(fā)的低折射涂敷材 料，折射率并未達到作為對于防反射的上述理論上的最佳值約1. 22至約1. 24。
[0038] 但是，在對上述低折射層使用包含由具有氟烷基的有機硅烷與烷氧基硅烷反應而 合成的硅氧烷化合物作為粘結劑的涂敷液的情況下，可體現(xiàn)高透射率以及低反射率，并且 通過與上述低折射層及高折射層之間的光學設計，可提供提高光特性的防反射膜。
[0039] 以上述化學式1表示的硅烷化合物，在x為0的情況下，可表現(xiàn)為具有四個烷氧基 的四官能團型烷氧基硅烷，在x為1的情況下，可表現(xiàn)為具有三個烷氧基的三官能團型烷氧 基硅烷，在x為2的情況下，可表現(xiàn)為具有兩個烷氧基的>官能團型烷氧基硅烷。在x為3 的情況下，僅有一個作為官能團的烷氧基，因而難以與以上述化學式2表示的有機硅烷化 合物發(fā)生縮合反應。
[0040] 在上述化學式1中，碳數(shù)6~10的芳基可包含苯基或甲苯基等，碳數(shù)3~10的稀 基可包含烯丙基、1-丙烯基、1- 丁烯基、2- 丁烯基或3- 丁烯基等。
[0041] 作為上述硅烷化合物，可使用選自由四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅 燒、四異丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四仲丁氧基硅烷、四叔丁氧基硅烷、二甲氧基硅烷、 三乙氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基 硅烷、丙基三甲氧基硅烷、丙基三乙氧基硅烷、異丁基三乙氧基硅烷、環(huán)己基三甲氧基硅烷、 苯基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、烯丙 基二甲氧基硅烷、條丙基二乙氧基硅烷、^甲基^甲氧基硅烷、^甲基^乙氧基硅烷、^苯 基二甲氧基硅烷、二苯基二乙氧基硅烷以及它們的組合組成的組中的一種以上的化合物， 但并不限定于此。
[0042] 并且，以上述化學式2表示的有機硅烷化合物可使用選自由三氟甲基三甲氧基 硅烷、三氟甲基三乙氧基硅烷、三氟丙基三甲氧基硅烷、三氟丙基三乙氧基硅烷、九氟丁基 乙基三甲氧基硅烷、九氟丁基乙基三乙氧基硅烷、九氟己基三甲氧基硅烷、九氟己基三乙氧 基硅烷、十三氟辛基三甲氧基硅烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷、十七氟癸基三甲氧基硅烷、 十七氟癸基三乙氧基硅烷以及它們的組合組成的組中的一種以上的化合物，但并不限定于 此，更為具體地，R 3使用碳數(shù)為3~5的氟烷基，這有利于防止相分離。
[0043] 以上述化學式1表示的硅烷化合物與以上述化學式2表示的有機硅烷化合物在水 解后脫水縮合聚合來形成硅氧烷化合物。另一方面，上述水解及脫水縮合反應中可使用酸 催化劑，更為具體地，可使用硝酸、鹽酸、硫酸或醋酸等。
[0044] 另一方面，相對于100重量份的以上述化學式1表示的硅烷化合物，可使用約0. 1 重量份至約50重量份的以上述化學式2表示的有機硅烷化合物，具體地，可使用約1重量 份至約30重量