個相鄰谷界定的一個或多個第二頻率峰來說，任何此類第二頻率 峰可具有小于〇. 8的第二峰比率，該第二峰比率等于第二頻率峰與第二基線之間的面積除 以第二頻率峰以下的面積。光擴散膜的第一結構化主表面可包括密集堆積結構，所述密集 堆積結構被布置成使得在相鄰結構之間形成脊，這些密集堆積結構沿兩個正交平面內(nèi)方向 的尺寸受到限制，并且第一結構化主表面可通過平面圖中小于200mm/mm2的每單位面積的 脊總長度來表征。第一結構化主表面可包括密集堆積結構，并且該結構化主表面可提供在 10%至40%范圍內(nèi)的光學透明度。第一結構化主表面可面向顯示系統(tǒng)的前面。第一結構化 主表面可為顯示系統(tǒng)的最前表面。
[0030] 本發(fā)明還論述了相關方法、系統(tǒng)和制品。例如，還公開了結合本發(fā)明所公開的膜的 背光源和顯示器。
[0031] 從下面的【具體實施方式】中，本申請的這些方面以及其他方面將顯而易見。然而，在 任何情況下都不應當將上述
【發(fā)明內(nèi)容】
理解為是對要求保護的主題的限制，該主題僅受所附 權利要求書的限定，并且在審查期間可以進行修改。
【附圖說明】
[0032] 圖1為CCS擴散片（光學霧度=72%，光學透明度=9.9% )的含珠表面的一部 分的SEM圖像，并且圖IA為這種表面的橫截面的SEM圖像；
[0033] 圖2為DPB擴散片（光學霧度=97. 5%，光學透明度=5%)的含珠表面的一部 分的SEM圖像；
[0034] 圖3為SDB擴散片（光學霧度=67%，光學透明度=30%)的含珠表面的一部分 的SEM圖像；
[0035] 圖4為I型微復制型擴散膜（光學霧度=91.3%，光學透明度=1.9%)的結構 化表面的一部分的SEM圖像；
[0036] 圖5為II型微復制型擴散膜（光學霧度=100%，光學透明度=1. 3% )的結構 化表面的一部分的SEM圖像；
[0037] 圖6為光學透明度與光學霧度的關系的曲線圖，描繪了I型和II型微復制型擴散 膜的近似設計空間；
[0038] 圖7為具有結構化表面的光學擴散膜的示意性側視圖或剖視圖；
[0039] 圖8為含有各種光學膜的液晶顯示系統(tǒng)的示意性分解圖；
[0040] 圖9為示意性流程圖，描繪了用于制備結構化表面制品（包括結構化表面工具和 結構化表面光學膜）的步驟；
[0041] 圖10為呈圓柱體或筒形式的結構化表面工具的示意性透視圖；
[0042] 圖IlA為圖10的工具的一部分的示意性側視圖或剖視圖；
[0043] 圖IlB為圖IlA的工具部分在微復制工序期間的示意性側視圖或剖視圖，在該微 復制工序中，所述工具部分用于形成光學擴散膜的結構化表面；
[0044]圖IlC為通過圖IlB中描繪的微復制工序制備的光學擴散膜的一部分的示意性側 視圖或剖視圖；
[0045]圖12為光學擴散膜的示意性透視圖，所述光學擴散膜還包括在線性棱柱的相對 主表面上以用于增強亮度；
[0046]圖13為光學透明度與光學霧度的關系的曲線圖，該曲線圖上的每個點描繪了使 用根據(jù)圖9的工藝制備的不同光學擴散膜樣品；
[0047] 圖14為稱為"502-1"的光學擴散膜樣品的結構化表面的代表性部分的SEM圖像， 并且圖14A為502-1樣品的橫截面的SEM圖像；
[0048] 圖15為稱為"594-1"的光學擴散膜樣品的結構化表面的代表性部分的SEM圖像；
[0049] 圖16為稱為"599-1"的光學擴散膜樣品的結構化表面的代表性部分的SEM圖像；
[0050] 圖17為稱為"502-2"的光學擴散膜樣品的結構化表面的代表性部分的SEM圖像；
[0051] 圖18為稱為"RA22a"的光學擴散膜樣品的結構化表面的代表性部分的SEM圖像；
[0052] 圖19為稱為"RA13a"的光學擴散膜樣品的結構化表面的代表性部分的SEM圖像；
[0053] 圖20為稱為"N3"的光學擴散膜樣品的結構化表面的代表性部分的SEM圖像；
[0054] 圖21為稱為"593-2"的光學擴散膜樣品的結構化表面的代表性部分的SEM圖像；
[0055] 圖22為稱為"597-2"的光學擴散膜樣品的結構化表面的代表性部分的SEM圖像；
[0056]圖23為功率譜密度與空間頻率的關系的曲線圖，所述曲線圖包括假想曲線，所述 假想曲線用于展示可如何通過與所述平面內(nèi)方向相關聯(lián)的傅立葉功率譜來表征結構化表 面沿給定平面內(nèi)方向的不規(guī)則性或隨機性的程度；
[0057] 圖24A為I型微復制型擴散膜（光學霧度=91. 3%，光學透明度=1.9%)的樣 品在順維方向上的功率譜密度與空間頻率的關系的曲線圖，并且圖24B為同一樣品但在垂 直（橫維）平面內(nèi)方向上的類似曲線圖；
[0058]圖25A為光學擴散膜樣品502-1在順維方向上的功率譜密度與空間頻率的關系的 曲線圖，并且圖25B為同一樣品但在橫維方向上的類似曲線圖；
[0059] 圖26為具有可分辨結構的假想結構化表面的一部分的示意性平面圖，展示了等 效圓直徑（E⑶）的概念；
[0060] 圖27為通過共焦顯微鏡獲得的CCS擴散片的圖片的合成圖像，在該合成圖像上疊 加表示結構化表面的單獨結構的外邊界或邊緣的深色形狀；
[0061] 圖28為通過共焦顯微鏡獲得的I型微復制型擴散膜樣品（光學霧度=91. 3%，光 學透明度=1.9% )的圖片的合成圖像，在該合成圖像上疊加表示結構化表面的單獨結構 的外邊界或邊緣的深色形狀；
[0062] 圖29為與圖27和圖28類似但用于光學擴散膜樣品594-1的合成圖像；
[0063] 圖30為與圖27至圖29類似但用于光學擴散膜樣品502-1的合成圖像；
[0064]圖31為光學擴散膜樣品502-1的代表性采樣區(qū)域的歸一化計數(shù)與等效圓直徑的 關系的曲線圖；
[0065]圖32為具有可分辨結構的假想結構化表面的一部分的示意性側視圖或剖面圖， 展示了最大高度或深度的概念；
[0066] 圖33為結構化表面上的假想單獨結構的示意性平面圖，展示了用于確定結構化 表面上的脊的存在的判據(jù)；
[0067]圖34A為通過共焦顯微鏡獲得的光學擴散膜樣品594-1的圖片的合成圖像，在該 合成圖像上疊加表示在結構化表面上檢測到的脊的深色線段；
[0068] 圖34B為以背面印刷（暗/亮反轉）僅示出圖34a的深色線段（即，僅檢測到的 脊）的圖像；以及
[0069] 圖35A和圖35B分別與圖34A和圖34B相似，但對于DPB擴散片而言。
[0070] 在這些圖中，類似的附圖標號標明類似的元件。
【具體實施方式】
[0071] 圖7示出了可利用本發(fā)明所公開的工藝制備的代表性擴散光學膜720的一部分的 示意性側視圖或剖視圖。膜720示出為具有第一主表面720a和第二主表面720b。入射光 730示出為照射在膜720上第二表面720b處。光730穿過該膜，并且因為折射（以及在某 種程度上衍射）而在主表面720a的粗糙化或結構化形貌處散射或擴散，從而產(chǎn)散射光或擴 散光732。因此可將主表面720a另選地稱為結構化表面720a。當然，可改變膜720相對于 入射光730的取向，使得光730初始照射在結構化表面720a上，在這種情況下，結構化表面 處的折射同樣產(chǎn)生散射光或擴散光。
[0072] 結構化表面720a總體上沿正交平面內(nèi)方向延伸，這可用于限定局部笛卡爾x-y-z 坐標系。結構化表面720a的形貌隨后可相對于平行于結構化表面720a設置的基準平面 (x-y平面）以沿厚度方向（z軸）的偏離來表示。在許多情況下，結構化表面720a的形貌為 使得可以識別不同的單獨結構。此類結構可以呈現(xiàn)由結構化表面工具中的對應空腔形成的 突出或由結構化表面工具中的對應突出形成的空腔的形式。結構沿兩個正交平面內(nèi)方向的 尺寸通常受到限制，即，當以平面圖觀察結構化表面720a時，單獨結構通常不能以線性方 式沿任何平面內(nèi)方向無限延伸。無論是突出還是空腔，這些結構在一些情況下還可以密集 堆積，即被布置成使得許多或大多數(shù)相鄰結構的邊界的至少一部分基本上相交或重合。這 些結構通常還不規(guī)則地或不均勻地分散在結構化表面720a上。在一些情況下，這些結構中 的一些、大多數(shù)或基本上全部（例如，>90%、或>95%、或>99% )均可以為彎曲的或包括圓 形或以其他方式彎曲的基部表面。在一些情況下，至少一些這些結構可以為錐體形狀或由 基本上平坦的小平面限定的其他形狀。給定結構的尺寸可在平面圖中以等效圓直徑（ECD) 表示，并且結構化表面的結構可具有例如小于15微米、或小于10微米、或在4至10微米范 圍內(nèi)的平均等效圓直徑。結構化表面和結構還可以用如本文其他地方所論述的其他參數(shù)來 表征，例如，通過深度或高度與特征橫向尺寸（諸如等效圓直徑）的縱橫比、或平面圖中表 面上每單位面積的脊總長度來表征?？商峁┕鈱W擴散膜的光學霧度、光學透明度和其他特 征，而無需在結構化表面處或之上、或光學膜內(nèi)的其他地方使用任何珠。
[0073] 膜720示出為具有雙層構造：承載圖案化層724的基底722。優(yōu)選通過由結構化表 面工具微復制來將結構化表面720a賦予圖案化層724,如下文進一步解釋。例如，基底722 可為已在其上澆鑄并固化圖案化層724的載體膜?？衫米贤饩€（UV)輻射、利用熱量、或 以任何其他已知方式執(zhí)行用于形成層724的材料的固化。作為澆鑄固化的替代方法，可通 過利用足夠的熱和壓力壓印熱塑性材料來將結構化表面720a從工具賦予到圖案化層724。
[0074] 膜720不需要具有圖7的雙層構造，但相反可包括超過2個層，或該膜可為僅由單 層構成的一體構造。通常，構成光學擴散膜的一個或多個層為高度透光的，至少可透過大多 數(shù)可見光譜內(nèi)的光。所述一個或多個層因此通常對此類光具有較低的吸收。用作載體膜或 基底722的示例性材料包括透光性聚合物，諸如聚丙烯酸酯和聚甲基丙烯酸酯、聚碳酸酯、 聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚苯乙烯、環(huán)烯烴聚合物以及這些聚合物類的 共聚物或組合。用作圖案化層724的示例性材料包括透光性聚合物諸如丙烯酸酯和環(huán)氧樹 月旨。然而，還可以使用其他聚合物材料以及非聚合物材料。所述一個或多個層可具有例如在 1. 4至1. 8、或1. 5至1. 8、或1. 5至1. 7范圍內(nèi)的任何合適的折射率，但還可以使用在此范 圍外的值。該折射率可在550nm下、或在另一個合適的設計波長下指定，或該折射率可為可 見波長范圍內(nèi)的平均值。此外，如果需要，這些層中的一者或多者可包括一種或多種染料、 顏料和/或其他吸收劑以便為膜提供整體目標透射、色彩或色調(diào)。如果需要，還可以包括珠 (諸如玻璃微球或陶瓷微球）或其他散射劑，然而，本發(fā)明所公開的光學擴散膜可提供所需 量的霧度和透明度，而不使用任何顯著量的珠，例如沒有任何珠。
[0075] 如所提及的，光學擴散膜720可具有兩個或更多個層。例如，基底722可為或可包 括多層光學膜，其中數(shù)十、數(shù)百或數(shù)千個具有不同折射率的單獨微層被布置在光學重復單 元中（例如，交替的ABAB圖案）以便根據(jù)波長、入射角和偏振來選擇性地透射光和反射 光。例如，該多層光學膜可為反射偏振片。還可利用光學透明的粘合劑或其他合適的粘結 材料將基底722層壓至另一個光學膜或基底?；?22可為或可包括薄的柔性聚合物片， 例如，具有如低輪廓應用中所