異空間異尺寸基材對位方法
【技術領域】
[0001]本發(fā)明是關于一種基材對位方法,尤其是一種異空間異尺寸基材對位方法,其適用于在不同等待空間下的具有特定標記或特定外形的不同尺寸的二基板的對位。
【背景技術】
[0002]典型的雙層板對位的技術應用為玻璃光罩精密對位,除此之外,應用雙層板對位技術的范圍甚為廣泛,如半導體業(yè)、平面顯示器業(yè)、印刷電路板業(yè)等領域皆為其應用領域。而光罩精密對位為上述電子產(chǎn)業(yè)的各類曝光機的關鍵技術,若能掌握其關鍵技術以降低制造成本,則對提高國際競爭力將有莫大的助益。
[0003]美國專利公告US7946669號揭示一種插入式的對位裝置,主要是將兩個電荷耦合元件(Charge Coupled Device ;CCD)同時插入雙層板之中,分別擷取上下對位標記的影像,然后進行對位。兩個電荷耦合元件必須先校正于單一坐標空間,因此該對位裝置屬于單一坐標空間取像的空間對位。
[0004]臺灣專利公告TWI288365號揭示一種達成高精密對位需求的雙層板的對位裝置,主要是將兩個電荷耦合元件皆放置于雙層板上方,同時擷取兩組無重疊的上下對位標記的復合影像,然后經(jīng)由空間運算后進行精密對位。兩個電荷耦合元件亦須先校正于單一坐標空間,因此該對位裝置亦屬于單一坐標空間取像的空間對位。
[0005]先前技術都是將對位標記合成重疊標記影像進行單一坐標空間計算對位,且僅能于同一尺寸的基材進行。
[0006]然而,在某些高科技產(chǎn)業(yè)在工藝中,常因材料的特殊性,在利用影像視覺輔助進行貼合、結合或組合時常會遭遇到異尺寸的對位物件無法于同一影像擷取單元中進行影像對位的困擾。例如,在觸控面板產(chǎn)業(yè)中,由于觸控面板具有多樣且異尺寸的多層貼合工藝,因此有時無法使用重疊式的對位標記設計。
[0007]因此,便有需要提供一種異空間異尺寸基材對位方法,以解決前述的問題。
【發(fā)明內(nèi)容】
[0008]本發(fā)明的目的在于提供一種對位方法可適用于在不同等待空間下的具有特定標記或特定外形的不同尺寸的二基板的對位。
[0009]為達成上述目的,本發(fā)明提供一種異空間異尺寸基材對位方法,包括下列步驟:利用在第一等待空間中的校正后的二影像擷取單元及在第二等待空間中的校正后的二影像擷取單元,分別擷取在該第一及第二等待空間中的不同尺寸的二基板的至少二實際局部圖像;分別比對該二基板的標準局部特征區(qū)域內(nèi)的特定標記或特定外形,并取得該二基板的至少二實際局部特征區(qū)域內(nèi)的特定標記或特定外形;分別建立該二基板的實際坐標系統(tǒng),以合成一對位組裝坐標系統(tǒng);比對該二實際坐標系統(tǒng)中的二基板的特定標記或特定外形的坐標值以取得第一組偏移量,并比對該二基板的尺寸以取得尺寸差量;利用該第一組偏移量及該尺寸差量,修正該二基板的其中一基板的特定標記或特定外形的坐標值;比對該二實際坐標系統(tǒng)中的二基板的其中該基板修正后的特定標記或特定外形的坐標值與該二基板的其中另一基板的特定標記或特定外形的坐標值,以取得第二組偏移量;將二基板的其中該基板移動至該第二組偏移量所補償?shù)奈恢茫焕靡坏谝活A定移動量,使二基板的其中該基板由該第一等待空間移動到一對位組裝空間中;以及利用一第二預定移動量,使二基板的其中另一基板由該第二等待空間移動到該對位組裝空間中。
[0010]上述的異空間異尺寸基材對位方法,還包含下列步驟:
[0011 ] 預校正在一第一等待空間中的二影像擷取單元及在一第二等待空間中的二影像擷取單元的空間位置。
[0012]上述的異空間異尺寸基材對位方法,還包含下列步驟:
[0013]利用在該第一等待空間中的校正后的二影像擷取單元及在該第二等待空間中的校正后的二影像擷取單元,預定義不同尺寸的二基板的標準局部特征區(qū)域內(nèi)的特定標記或特定外形。
[0014]上述的異空間異尺寸基材對位方法,還包含下列步驟:
[0015]確認該第二組偏移量是否小于欲達到的目標值。
[0016]上述的異空間異尺寸基材對位方法,還包含下列步驟:
[0017]使該二基板在對位組裝空間中完成堆疊對位組裝。
[0018]上述的異空間異尺寸基材對位方法,其中預校正在一第一等待空間中的二影像擷取單元及在一第二等待空間中的二影像擷取單元的空間位置的步驟包含下列步驟:
[0019]將兩個校正片疊合,使該些校正片的特定標記重疊;
[0020]將疊合后的該些校正片設置于在該第一等待空間中的第一及第二影像擷取單元上方,移動該第一及第二影像擷取單元以擷取在該第一等待空間中的疊合后的該些校正片的虛線環(huán)繞區(qū)域的第一對角線的兩端的特定標記,如此以校正該第一及第二影像擷取單元在該第一等待空間的位置;
[0021]將疊合后的該些校正片設置于在該第二等待空間中的第三及第四影像擷取單元下方,移動第三及第四影像擷取單元以擷取在該第二等待空間中的疊合后的該些校正片的虛線環(huán)繞區(qū)域的第二對角線的兩端的特定標記,如此以校正該第三及第四影像擷取單元在該第二等待空間的位置;以及
[0022]校正后的該第一至第四影像擷取單元將被固定不動。
[0023]上述的異空間異尺寸基材對位方法,其中該二基板的其中該基板的特定標記為十字形標記,且該二基板的其中另一基板的特定標記為十字管形標記。
[0024]上述的異空間異尺寸基材對位方法,其中該二基板的其中該基板的特定外形為直角角隅,且該二基板的其中另一基板的特定外形為直角角隅。
[0025]上述的異空間異尺寸基材對位方法,其中該第二組偏移量用以補償在該第一及第二等待空間中的該些影像擷取單元的視覺差異所需的X、Y軸方向位移及旋轉角度。
[0026]本發(fā)明的對位方法可適用于在不同等待空間下的具有特定標記或特定外形的不同尺寸的二基板的對位。該二基板位于不同等待空間時,利用該二基板的實際局部特征區(qū)域內(nèi)的特定標記(或特定外形),以進行計算后續(xù)該二基板的特定標記的坐標(或特定外形)的坐標值。修正該二基板的其中一基板的特定標記(或特定外形)的坐標值,使該不同尺寸的二基板模擬成相同尺寸的二基板。然后,進行異空間下的異尺寸基材對位偏差修正補償,并續(xù)進行后工藝(例如:貼合或組裝),不需建立影像坐標系統(tǒng)與對位坐標系統(tǒng)的復雜轉換關系,因此可有效減少大量的數(shù)學計算與減少設備調(diào)機時間,并增加對位貼合工藝的彈性。
[0027]為了讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能更明顯,下文將配合所附附圖,作詳細說明如下。
【附圖說明】
[0028]圖1a及Ib為本發(fā)明的一實施例的用于異空間異尺寸基材的對位方法的流程圖;
[0029]圖2a為本發(fā)明的一實施例的兩個校正片的平面示意圖;
[0030]圖2b為本發(fā)明的一實施例的兩個校正片及四個影像擷取單元的立體示意圖;
[0031]圖3為本發(fā)明的一實施例的用于異空間異尺寸基材的對位裝置的立體示意圖,其顯示不同尺寸的二基板的標準局部特征區(qū)域內(nèi)的特定標記(或特定外形);
[0032]圖4a為本發(fā)明的一實施例的第一標準局部圖像的平面示意圖;
[0033]圖4b為本發(fā)明的一實施例的第二標準局部圖像的平面示意圖;
[0034]圖5為本發(fā)明的一實施例的用于異空間異尺寸基材的對位裝置的立體示意圖,其顯示不同等待空間的二基板的至少二實際局部圖像;
[0035]圖6a為本發(fā)明的一實施例的第一實際局部圖像的平面示意圖;
[0036]圖6b為本發(fā)明的一實施例的第二實際局部圖像的平面示意圖;
[0037]圖7a為本發(fā)明的一實施例的對位組裝坐標系統(tǒng)的平面示意圖,其顯示特定標記坐標值(XI,Yl)、(X2, Y2)及特定標記坐標值(X3, Y3)、(X4, Y4);
[0038]圖7b為本發(fā)明的一實施例的對位組裝坐標系統(tǒng)的平面示意圖,其顯示特定外形坐標值(XI,Yl)、(X2, Y2)及特定外形坐標值(X3, Y3)、(X4, Y4);
[0039]圖8a為本發(fā)明的一實施例的對位組裝坐標系統(tǒng)的平面示意圖,其顯示特定標記坐標值修正為(ΧΓ,ΥΓ )、(Χ2,,Υ2’ )及特定標記坐標值(X3,Y3)、(Χ4, Υ4);
[0040]圖Sb為本發(fā)明的一實施例的對位組裝坐標系統(tǒng)的平面示意圖,其顯示特定外形坐標值修正為(XI,,Υ1,)、(Χ2,,Υ2,)及特定外形坐標值(Χ3,Υ3)、(Χ4, Υ4);
[0041]圖9為本發(fā)明的一實施例的用于異空間異