液晶顯示裝置及其制造方法
【專利說明】液晶顯示裝置及其制造方法
[0001]本申請要求享有于2013年11月6日提交的韓國專利申請第10_2013_0134382號的權(quán)益，通過引用將該申請結(jié)合在此，如同在此完全闡述一樣。
技術(shù)領(lǐng)域
[0002]本發(fā)明的實(shí)施方式涉及一種液晶顯示(IXD)裝置，尤其涉及一種形成于IXD裝置的上基板或下基板上的偏光板。
【背景技術(shù)】
[0003]液晶顯示(LCD)裝置的優(yōu)點(diǎn)在于，它能夠?qū)崿F(xiàn)低功耗和便攜性。由于這些優(yōu)點(diǎn)，LCD裝置被廣泛應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域，例如筆記本電腦、監(jiān)控器、航天器、飛行器等。
[0004]IXD裝置可包括下基板、上基板以及在下基板與上基板之間的液晶層。液晶層的液晶分子根據(jù)施加至IXD裝置的電場而被排列以控制透光率，從而在IXD裝置上顯示圖像。
[0005]下文中，將參照附圖描述現(xiàn)有技術(shù)的IXD裝置。
[0006]圖1是圖解現(xiàn)有技術(shù)的IXD裝置的截面圖。
[0007]如圖1所示，現(xiàn)有技術(shù)的IXD裝置可包括上基板10、下基板20、液晶層30、抗靜電層(防靜電層)40、上偏光板50和下偏光板60。
[0008]盡管未示出，用于防止光泄漏的遮光層設(shè)置于上基板10的一個(gè)表面上，且更具體地，遮光層設(shè)置于上基板10的面對下基板20的下表面上。此外，用于實(shí)現(xiàn)色彩的濾色層設(shè)置于每個(gè)遮光層之間的區(qū)域中。
[0009]盡管未示出，作為開關(guān)裝置工作的薄膜晶體管形成于下基板20的一個(gè)表面上，且更具體地，薄膜晶體管形成于下基板20的面對上基板10的上表面上。此外，形成像素電極并且使其與薄膜晶體管連接，公共電極被布置成與像素電極平行，其中像素電極和公共電極兩者被設(shè)置以形成電場。
[0010]液晶層30形成于上基板10和下基板20之間，液晶層30的排列方向是由通過使用像素電極和公共電極而形成的電場控制的。
[0011]抗靜電層(防靜電層)40形成于上基板10的上表面上?？轨o電層40被設(shè)置以防止在制造工藝中產(chǎn)生的靜電。更詳細(xì)地，如上所述，遮光層和濾色層形成于上基板10的下表面上。對于形成諸如遮光層和濾色層這些層的工藝，由于與多個(gè)處理和傳送設(shè)備的接觸，會(huì)在上基板10上產(chǎn)生靜電。為了消除靜電，在上基板10的上表面上形成抗靜電層40，抗靜電層40由例如氧化銦錫(ITO)的導(dǎo)電材料形成。
[0012]上偏光板50形成于抗靜電層40的上表面上。上偏光板50可包括具有預(yù)定光軸的上偏光器51、形成于上偏光器51的一個(gè)表面上的第一上保護(hù)膜53、形成于上偏光器51的另一個(gè)表面上的第二上保護(hù)膜55、以及形成于第二上保護(hù)膜55的下表面上以使抗靜電層40與上偏光板50彼此貼合的上粘合劑57。上偏光器51是通過用碘染色PVA (聚乙烯醇)而制成的。由于PVA含水量(moisture)很低,第一上保護(hù)膜53和第二上保護(hù)膜55被分別貼合至上偏光器51的兩個(gè)表面。
[0013]下偏光板60形成于下基板20的下表面上。下偏光板60可包括具有預(yù)定光軸的下偏光器61、形成于下偏光器61的一個(gè)表面上的第一下保護(hù)膜63、形成于下偏光器61的另一個(gè)表面上的第二下保護(hù)膜65、以及形成于第二下保護(hù)膜65的上表面上以使下基板20與下偏光板60彼此貼合的下粘合劑67。按照與上偏光器51相同的方式,下偏光器61也是通過用碘染色PVA(聚乙烯醇)制成的。為了克服PVA含水量較低的問題，第一下保護(hù)膜63和第二下保護(hù)膜65被分別貼合至下偏光器61的兩個(gè)表面。
[0014]然而，現(xiàn)有技術(shù)的IXD裝置可能具有以下缺點(diǎn)。
[0015]在用碘染色PVA和拉伸之后，可通過補(bǔ)色(complementary-color)工藝而優(yōu)化上偏光器51和下偏光器61的每一個(gè)的透射波長。然而，很難控制該優(yōu)化透射波長的工藝。而且，上偏光器51和下偏光器61可能會(huì)由于恢復(fù)力(restoring force)而收縮。此外，由于第一上保護(hù)膜53和第二上保護(hù)膜55以及第一下保護(hù)膜63和第二下保護(hù)膜65，IXD裝置的纖薄受到限制。
[0016]此外，由ITO形成的抗靜電層40可能會(huì)由于上偏光器51中包含的碘而腐蝕。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0017]因此，本發(fā)明的實(shí)施方式涉及一種基本上消除由于現(xiàn)有技術(shù)的限制和缺點(diǎn)而產(chǎn)生的一個(gè)或多個(gè)問題的LCD裝置及其制造方法。
[0018]本發(fā)明的實(shí)施方式的一個(gè)方面涉及提供一種LCD裝置，其具有偏光板以便于控制制造工藝、防止與收縮相關(guān)的問題、實(shí)現(xiàn)LCD裝置的纖薄以及解決與抗靜電層的腐蝕相關(guān)的問題。
[0019]本發(fā)明的實(shí)施方式的另外的優(yōu)點(diǎn)和特征一部分將在如下的描述中進(jìn)行闡述，這些優(yōu)點(diǎn)和特征的另一部分對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說是在閱讀后續(xù)描述的基礎(chǔ)上變得顯而易見的，或可以通過對本發(fā)明的實(shí)施方式的實(shí)踐而獲悉。本發(fā)明的實(shí)施方式的目的和其它優(yōu)點(diǎn)可以通過說明書、權(quán)利要求書以及附圖中具體指出的結(jié)構(gòu)來實(shí)現(xiàn)和獲得。
[0020]為了實(shí)現(xiàn)這些和其他優(yōu)點(diǎn)，并且根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的目的，如這里具體和概括地描述的，提供一種LCD裝置，LCD裝置可包括:彼此面對的第一基板和第二基板，在第一基板與第二基板之間的液晶層，和在第一基板上的第一偏光層，其中第一偏光層包括在第一方向上排列的多個(gè)碳納米管。
[0021]在本發(fā)明的實(shí)施方式的另一個(gè)方面，提供一種制造液晶顯示裝置的方法，可包括:制備第一基板和第二基板，在第一基板上形成第一偏光層，以及在第一基板與第二基板之間形成液晶層的同時(shí)將第一基板和第二基板彼此粘合，其中形成第一偏光層的工序可包括:制備碳納米管分散體、將碳納米管分散體涂覆到第一基板上以及在第一方向上排列多個(gè)碳納米管。
[0022]應(yīng)當(dāng)理解，對本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行的前面的概括性描述和下面的詳細(xì)描述都是示例性的和解釋性的，意在提供對要求保護(hù)的本發(fā)明的進(jìn)一步說明。
【附圖說明】
[0023]被包括來提供對本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)一步理解且并入本申請以構(gòu)成本申請的一部分的附圖圖解了本發(fā)明的實(shí)施方式，附圖與說明書一起用于解釋本發(fā)明的實(shí)施方式的原理。在附圖中:
[0024]圖1是圖解現(xiàn)有技術(shù)的IXD裝置的截面圖；
[0025]圖2是圖解根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的LCD裝置的截面圖；
[0026]圖3是圖解根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的第一偏光層的平面圖；
[0027]圖4A和圖4B是圖解根據(jù)本發(fā)明的各個(gè)實(shí)施方式的用于使第一偏光層接地的方法的截面圖；
[0028]圖5是圖解根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方式的IXD裝置的截面圖；
[0029]圖6是圖解根據(jù)本發(fā)明的另一個(gè)實(shí)施方式的IXD裝置的截面圖；
[0030]圖7A至圖7D是圖解根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的制造IXD裝置的方法的截面圖；和
[0031]圖8A至圖SC圖解根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的形成第一偏光層的方法。
【具體實(shí)施方式】
[0032]現(xiàn)在將詳細(xì)描述本發(fā)明的示例性實(shí)施方式，這些實(shí)施方式的例子在附圖中示出。在整個(gè)附圖中，將盡可能地使用相同的參考數(shù)字來表示相同或者相似的部件。
[0033]對于本發(fā)明的實(shí)施方式的解釋，應(yīng)當(dāng)理解有關(guān)術(shù)語的下述詳細(xì)說明。
[0034]如果提到第一元件位于第二結(jié)構(gòu)“上或上方”，則應(yīng)當(dāng)理解第一元件與第二元件可彼此接觸、或者第三元件可插入到第一元件與第二元件之間。
[0035]此外，如果使用諸如“第一”或“第二”這樣的術(shù)語，并不意味著對應(yīng)元件的次序，也就是說，這些術(shù)語是用于將任何一個(gè)元件與其他元件區(qū)分開。
[0036]下文中，將參照附圖描述根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的IXD裝置。
[0037]圖2是圖解根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的LCD裝置的截面圖。
[0038]如圖2所示，根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)實(shí)施方式的IXD裝置可包括:彼此面對的第一基板100和第二基板200、形成于第一基板100和第二基板200之間的液晶層300、形成于第一基板100上的第一偏光層400和形成于第二基板200上的第二偏光層500。
[0039]盡管未示出，在第二基板200下方設(shè)置背光源(backlight)。從背光源發(fā)出的光穿過第二基板200、液晶層300和第一