結(jié)構(gòu)的形狀有很多種，優(yōu)選地，凹點結(jié)構(gòu)呈碗型。同時，且凹點結(jié)構(gòu)的半徑可以根據(jù)實際工藝需求進行設(shè)定。優(yōu)選地，凹點結(jié)構(gòu)的半徑為10?30 μπι。當(dāng)然，凹點結(jié)構(gòu)的形狀和半徑并不僅限于上述優(yōu)選實施例。
[0038]為了進一步提高光學(xué)薄膜的聚光增亮效果，本發(fā)明提供的光學(xué)薄膜還可以包括設(shè)置于凹點層20的表面上的保護層40。其中，凹點層20和保護層40的材料可以為紫外光固化膠等。而基體膜層10的材料可以為聚酯薄膜。需要注意的是，凹點層20、保護層40和基體膜層10的材料并不僅限于上述優(yōu)選實施例。
[0039]同時，本發(fā)明還提供了一種光學(xué)薄膜的制作方法。如圖3所示，該制作方法包括以下步驟:在基體膜層上形成具有多個凹點結(jié)構(gòu)的凹點層；在凹點結(jié)構(gòu)中填充石墨烯。
[0040]上述制作方法僅通過在基體膜層上的一側(cè)表面上形成凹點層，然后填充石墨烯即可形成光學(xué)薄膜，因此該制作工藝簡單，成本低廉。同時，所形成光學(xué)薄膜中的石墨烯點陣能夠使得入射進入光學(xué)薄膜的光發(fā)生多次反射后匯聚在一起，進而提高了出射光的亮度，即實現(xiàn)了聚光增亮的效果。該光學(xué)薄膜能夠根據(jù)顯示設(shè)備的要求裁切成各種形狀，并能夠通過簡單的貼合工藝實現(xiàn)與顯示設(shè)備的結(jié)合，因此具備很高的實用性。進一步地
[0041]下面將更詳細地描述根據(jù)本發(fā)明提供的光學(xué)薄膜的示例性實施方式。然而，這些示例性實施方式可以由多種不同的形式來實施，并且不應(yīng)當(dāng)被解釋為只限于這里所闡述的實施方式。應(yīng)當(dāng)理解的是，提供這些實施方式是為了使得本申請的公開徹底且完整，并且將這些示例性實施方式的構(gòu)思充分傳達給本領(lǐng)域普通技術(shù)人員。
[0042]圖4至圖9示出了本發(fā)明提供的光學(xué)薄膜的制作方法中，經(jīng)過各個步驟后得到的基體的剖面結(jié)構(gòu)示意圖。下面將結(jié)合圖4至圖9，進一步說明本申請所提供的光學(xué)薄膜的制作方法。
[0043]首先，在基體膜層10上形成具有多個凹點結(jié)構(gòu)的凹點層20。在一種優(yōu)選的實施方式中，該步驟包括:首先，形成表面上形成有與凹點結(jié)構(gòu)對應(yīng)設(shè)置的凸點結(jié)構(gòu)的滾軸模具50，其結(jié)構(gòu)如圖4所示；然后，將涂布有紫外光固化膠的基體膜層10通過滾軸模具50，并對紫外光固化膠進行紫外照射以形成具有多個凹點結(jié)構(gòu)的凹點層20，其結(jié)構(gòu)如圖5所示。優(yōu)選的，多個凹點結(jié)構(gòu)分散的均勻排列，如形成矩形陣列、三角陣列，但不限于上述陣列形式。
[0044]形成上述滾軸模具50的工藝可以為CNC工藝(數(shù)控機床)等。本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以根據(jù)設(shè)計需要，通過調(diào)控CNC工藝的參數(shù)使得滾軸模具50表面形成由凸點結(jié)構(gòu)組成的凸點點陣，并且根據(jù)設(shè)計需要控制形成凸點結(jié)構(gòu)的尺寸。優(yōu)選地，凸點結(jié)構(gòu)的半徑為10?30 μm，所有凸點結(jié)構(gòu)的總面積占凹點層20的表面積的20%?40%。
[0045]將上述基體膜層10通過滾軸模具50的步驟中，優(yōu)選地，將涂布有紫外光固化膠的基體膜層10以I?3m/min的速率通過滾軸模具50，并采用照射功率為400?600mJ的紫外光對紫外光固化膠進行紫外照射以形成具有多個凹點結(jié)構(gòu)的凹點層20。當(dāng)然，基體膜層10的前進速率和紫外光的照射功率并不僅限于上述實施方式。
[0046]完成在基體膜層10上形成具有多個凹點結(jié)構(gòu)的凹點層20的步驟之后，在凹點結(jié)構(gòu)中填充石墨烯30。在一種優(yōu)選的實施方式中，該步驟包括:在凹點層20上涂布石墨烯漿料30'，進而形成如圖6所示的基體結(jié)構(gòu)；刮掉位于凹點層20的表面上的石墨烯漿料30'，進入形成如圖7所示的基體結(jié)構(gòu)；進行烘烤以使剩余的保留在所述凹點結(jié)構(gòu)內(nèi)的石墨烯漿料30'固化形成石墨烯30，進而形成如圖8所示的基體結(jié)構(gòu)。
[0047]在凹點層20上涂布石墨烯漿料30'的步驟中，優(yōu)選地，使得形成有凹點層20的基體膜層10以I?3m/min的速率通過滾軸，并使凹點層20中的凹點結(jié)構(gòu)保持朝上。同時，將石墨烯漿料30'勻速滴涂到凹點層20的表面，以使石墨烯漿料30'填充凹點結(jié)構(gòu)并在凹點層20的表面上形成較薄的一層石墨烯漿料30'。其中，石墨烯漿料30'可以采用現(xiàn)有技術(shù)中常見的由石墨烯組成的漿料。
[0048]形成上述石墨烯漿料30'之后，即可利用刮刀將位于凹點層20的表面上的石墨烯漿料30'刮掉，再將保留填充于凹點結(jié)構(gòu)中的石墨烯漿料30'置于50?80°C下進行烘烤固化，最終形成所需的石墨烯30。
[0049]在凹點結(jié)構(gòu)中形成上述石墨烯30之后，本發(fā)明提供的制作方法還可以在凹點層20的表面上形成保護層40的步驟，進而形成如圖9所示的基體結(jié)構(gòu)。在一種可選的實施方式中，該步驟包括:使形成有凹點層20和石墨稀30的基體膜層101?3m/min的速率通過滾軸，并保持填充有石墨烯30的一面向上，從而在凹點層20上固化一層UV膠作為保護層40。該保護層40能夠進一步提高所形成光學(xué)薄膜的聚光增亮效果。
[0050]從以上實施例可以看出，本發(fā)明上述的實例實現(xiàn)了如下技術(shù)效果:
[0051](I)本發(fā)明通過在基體膜層上設(shè)置具有多個凹點結(jié)構(gòu)的凹點層，并在各凹點結(jié)構(gòu)中填充設(shè)置石墨烯，以在基體膜層上形成石墨烯點陣，并利用石墨烯點陣對光的反射作用，使得入射進入光學(xué)薄膜的光發(fā)生多次反射后匯聚在一起，進而提高了出射光的亮度，即實現(xiàn)了聚光增亮的效果。
[0052](2)該光學(xué)薄膜能夠根據(jù)顯示設(shè)備的要求裁切成各種形狀，并能夠通過簡單的貼合工藝實現(xiàn)與顯示設(shè)備的結(jié)合，因此具備很高的實用性。同時，該光學(xué)薄膜僅通過在基體膜層上的一側(cè)表面上形成凹點層，然后填充石墨烯即可形成，其制作工藝簡單，成本低廉。
[0053]以上僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對于本領(lǐng)域的技術(shù)人員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種光學(xué)薄膜，其特征在于，所述光學(xué)薄膜包括: 基體膜層(10); 凹點層(20)，設(shè)置于所述基體膜層(10)上，所述凹點層(20)中設(shè)置有多個凹點結(jié)構(gòu)，各所述凹點結(jié)構(gòu)中填充有石墨烯(30)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)薄膜，其特征在于，所述凹點結(jié)構(gòu)均勻分散于所述凹點層(20)中。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)薄膜，其特征在于，所述凹點結(jié)構(gòu)呈碗型，且所述凹點結(jié)構(gòu)的半徑為10?30 μπι。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)薄膜，其特征在于，所述光學(xué)薄膜還包括設(shè)置于所述凹點層(20)的表面上的保護層(40)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)薄膜，其特征在于，所述凹點層(20)和所述保護層(40)的材料均為紫外光固化膠；所述基體膜層(10)的材料為聚酯薄膜。
6.一種光學(xué)薄膜的制作方法，其特征在于，所述制作方法包括以下步驟: 在基體膜層(10)上形成具有多個凹點結(jié)構(gòu)的凹點層(20); 在所述凹點結(jié)構(gòu)中填充石墨烯(30)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制作方法，其特征在于，形成具有多個所述凹點結(jié)構(gòu)的所述凹點層(20)的步驟包括: 形成表面上形成有與所述凹點結(jié)構(gòu)對應(yīng)設(shè)置的凸點結(jié)構(gòu)的滾軸模具(50); 將涂布有紫外光固化膠的所述基體膜層(10)通過滾軸模具(50); 對所述紫外光固化膠進行紫外照射以形成具有多個所述凹點結(jié)構(gòu)的所述凹點層(20)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述基體膜層(10)通過滾軸模具(50)的速率為I?3m/min。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述紫外照射的步驟中，照射功率為400 ?600mJo
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制作方法，其特征在于，在所述凹點結(jié)構(gòu)中填充所述石墨稀(30)的步驟包括: 在所述凹點層(20)上涂布石墨烯漿料(30'); 刮掉位于所述凹點層(20)的表面上的所述石墨烯漿料(30'); 進行烘烤以使剩余的保留在所述凹點結(jié)構(gòu)內(nèi)的所述石墨烯漿料(30')固化形成所述石墨烯(30)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的制作方法，其特征在于，所述烘烤的步驟中，烘烤溫度為5?80 °C，烘烤時間為I?3min。
12.根據(jù)權(quán)利要求6至11中任一項所述的制作方法，其特征在于，所述制作方法還包括在所述凹點層(20)的表面上形成保護層(40)的步驟。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種光學(xué)薄膜及光學(xué)薄膜的制作方法。該光學(xué)薄膜包括：基體膜層；凹點層，設(shè)置于基體膜層上，凹點層中設(shè)置有多個凹點結(jié)構(gòu)，各凹點結(jié)構(gòu)中填充有石墨烯。該光學(xué)薄膜石墨烯點陣使得入射進入光學(xué)薄膜的光發(fā)生多次反射后匯聚在一起，進而提高了出射光的亮度，即實現(xiàn)了聚光增亮的效果。該光學(xué)薄膜能夠根據(jù)顯示設(shè)備的要求裁切成各種形狀，并能夠通過簡單的貼合工藝實現(xiàn)與顯示設(shè)備的結(jié)合，因此具備很高的實用性。同時，該光學(xué)薄膜僅通過在基體膜層上的一側(cè)表面上形成凹點層，然后填充石墨烯即可形成，其制作工藝簡單，成本低廉。
【IPC分類】G02B5-00
【公開號】CN104536070
【申請?zhí)枴緾N201510020911
【發(fā)明人】于甄, 饒俊, 解金庫, 陳海力
【申請人】張家港康得新光電材料有限公司
【公開日】2015年4月22日
【申請日】2015年1月15日