專利名稱：正性光介電組合物的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及影印法的微型器件制作。特別地，本發(fā)明涉及一種用作電路中的持久電介質(zhì)的感光組合物。
已有技術的描述對本領域的技術人員來說，生產(chǎn)如美國專利號3，666，473、4，115，128和4，173，470所公開的正性光刻膠組合物是公知的。這些組合物包括不溶于水的堿溶水狀樹脂和感光材料。其經(jīng)涂覆的底層部分一受到光化輻射成影像曝光，感光劑就還原成堿溶解的感光劑，涂層的曝光區(qū)域因此就比未曝光的區(qū)域更易溶解。在把底層浸入堿性顯影液中時，溶解速率的不同使光刻膠涂層的曝光區(qū)域溶解，而未曝光的區(qū)域基本上未受影響，因此就在底層上產(chǎn)生了一個正性凸出圖案。已曝光和顯影的底層通常還要進行一個蝕刻處理。光刻膠涂層可以保護底層的涂層區(qū)域不與蝕刻劑接觸，這樣蝕刻劑僅能夠蝕刻底層的未涂層區(qū)域，未涂層區(qū)域?qū)诮邮展饣椛涞钠毓鈪^(qū)域。因此，在底層上就產(chǎn)生一個蝕刻圖案，該圖案對應在顯影前的經(jīng)涂覆的底層上用來創(chuàng)作選擇的曝光圖案的蒙片(mask)的圖案。由這種方法在底層上產(chǎn)生的光刻膠凸出圖案具有廣泛的應用價值，包括小型化集成電路的制做。
由于引線連接集成電路的性能受到技術發(fā)展的限制，所以利用接線板區(qū)域提高芯片的密度來滿足日益增加的需要。這滿足了高密度組件在多層板外表面上進行大量互連的需要以及增加了盲微孔的使用。涂銅樹脂(resin coated copper)已被用來制做高密度組合多層印刷電路板。目前這種電路板中的微孔有兩種制造方法，包括等離子體蝕刻法和激光鉆孔法。因此，僅僅制作者應用等離子體或激光來通孔才能生產(chǎn)出這些先進的盲孔板。等離子體設備和激光設備的高成本阻礙了涂銅樹脂技術的廣泛應用。另外，與等離子體蝕刻和激光鉆孔技術有關的技術缺陷也限制了用于高密度多層電路板的涂銅樹脂的大規(guī)模商業(yè)化發(fā)展，比如由于等離子體的均質(zhì)蝕刻產(chǎn)生的底切以及由于激光的順序鉆孔使生產(chǎn)量降低?？梢酝ㄟ^影印法大量制作微孔的光限定的(photodefinable)涂銅樹脂已得以發(fā)展，從而解決了與等離子體和激光微孔技術相關的問題。本發(fā)明提供了一種水狀可顯影的正性光介電組合物，利用涂銅光樹脂技術，該光介電組合物可以用于大量制作微孔。這種組合物還可用于制作阻面罩(solder mask)。
涂銅光樹脂可以通過影印法用來大量制作微孔。電路板制作者必須具備影印能力，這樣才能容易地采用新技術。而且，具有光限定的微孔分別解決了利用等離子體和激光方法帶來的底切問題和低產(chǎn)出量問題。本發(fā)明提供了一種水狀可顯影的正性光限定樹脂，其使涂銅光樹脂技術得以應用。
用于影印法的成像光刻膠在本領域是眾所周知的，比如在US4968581和US5081001中已經(jīng)得以公開。然而，大部分商用正性光刻膠沒有設計成持久電介質(zhì)，而且在微型器件制作過程中被去除。商用光刻膠組合物的熱和光穩(wěn)定性差、濕度吸收高并且電介質(zhì)性能不足，因此不適于持久使用。本發(fā)明提供了一種用于持久光刻膠的光介電組合物，該持久光刻膠在電路中用作持久電介質(zhì)。這種光介電組合物是基于環(huán)氧樹脂，且與目前在電子工業(yè)中使用的一般環(huán)氧樹脂電介質(zhì)相似，這種光介電組合物具有很好的熱和光穩(wěn)定性和優(yōu)良的電介質(zhì)性能。
所述組合物是以下物質(zhì)的混合物，它們是環(huán)氧樹脂、酐聚合物[比如苯乙烯-馬來酸酐共聚物(SMA)]、一種胺催化劑、一種光致產(chǎn)酸劑(photoacid)和含有聚合物(比如酚醛樹脂)的任意的酚。該胺催化劑催化SMA與環(huán)氧樹脂之間的固化反應和／或苯酚與環(huán)氧樹脂之間的固化反應。照片一曝光，光致產(chǎn)酸劑就產(chǎn)生一種酸。該酸中和胺催化劑，降低催化劑的催化活性。因此，在熱烘干期間曝光的樹脂就比未曝光樹脂固化得慢。曝光樹脂和未曝光樹脂之間的固化速度的差異導致了它們在顯影液中溶解度的差異。如果樹脂膠片通過光掩膜曝光，蒙片的特征可以在顯影之后在膠片上再現(xiàn)。由于曝光阻止了熱固化并且使曝光部分比未曝光部分更易溶解，因而得到了正像。
所述光介電組合物可被涂在各種各樣的底層上。利用影印技術可以獲得預期的結構。由于光介電組合物的熱和光穩(wěn)定性和良好的電介質(zhì)特性以及優(yōu)良的光分辨率，這種光介電組合物可在需要精細特征部件(如微孔)的印刷引線板和高密度組件互連底層中用作持久電介質(zhì)。
發(fā)明的概述本發(fā)明提供了一種正性可光成像的組合物，它包括至少一個在進行光化輻射曝光時能產(chǎn)生酸的光致產(chǎn)酸劑，至少一種有機酸酐單體或聚合物，至少一種環(huán)氧樹脂，至少一種含氮固化催化劑，和任意一種含有芳族羥基的單體、聚合物或其混合物。
本發(fā)明還提供了一種感光單元，它包括一個底層和底層上的干燥的正性可光成像組合物，該組合物包括至少一個在進行光化輻射曝光時能產(chǎn)生酸的光致產(chǎn)酸劑，至少一種有機酸酐單體或聚合物，至少一種環(huán)氧樹脂，至少一種含氮固化催化劑，和任意一種含有芳族羥基的單體、聚合物或其混合物。
本發(fā)明還提供了一種制作正像的方法，該方法包括a)提供一種感光單元，它包括一個底層和在底層上的干燥的正性可光成像組合物，該組合物包括至少一個在進行光化輻射曝光時能產(chǎn)生酸的光致產(chǎn)酸劑，至少一種有機酸酐單體或聚合物，至少一種環(huán)氧樹脂，至少一種含氮固化催化劑，和任意一種含有芳香羥基的單體、聚合物或其混合物；b)使該組合物進行足夠的光化輻射成影像曝光，從而產(chǎn)生該組合物成為影像的曝光部分和影像的未曝光部分；c)用液體顯影劑去除該組合物的影像曝光部分。
優(yōu)選實施例的詳細描述在實施本發(fā)明時，正性可光成像組合物是把在進行光化輻射曝光時能產(chǎn)生酸的光致產(chǎn)酸劑、一種有機酸酐單體或聚合物、一種環(huán)氧樹脂，一種含氮固化催化劑，和任意一種含有酚的單體或聚合物進行混合而制成的。
這里使用的光致產(chǎn)酸劑是一種在進行光化輻射(比如紫外線輻射)曝光時能產(chǎn)生酸的產(chǎn)酸劑。在光成像技術領域中，光致產(chǎn)酸劑是公知的，其非限制性包括以下鎓類化合物(比如锍鹽、碘鹽和重氮鹽的芳基衍生物)和帶有對光不穩(wěn)定的鹵原子的有機化合物。
優(yōu)選的光致產(chǎn)酸劑包括帶有六氟磷酸鹽、六氟銻酸鹽、六氟砷酸鹽和四氟硼酸鹽陰離子的三芳基锍和二芳基碘鹽。非限制性普遍適用的碘鹽是雙苯基碘鹽、雙萘基碘鹽、雙(4-氯苯基)碘鹽、甲苯基(十二烷基苯基)碘鹽、萘基苯基碘鹽、4-(三氟甲基苯基)苯基碘鹽、4-乙基苯基-苯基碘鹽、雙(4-乙酰苯基)碘鹽、甲苯基苯基碘鹽、(4-丁氧基苯基)苯基碘鹽(4-butoxyphenylphenyliodonium)、雙(4-苯基苯基)碘鹽(di-(4-phenylphenyl)iodonium)等等。優(yōu)選的是雙苯基碘鹽。非限制性普遍適用的锍鹽是三苯基锍鹽、二甲基苯基锍鹽、三甲苯基锍鹽、雙(甲氧基萘基)甲基锍鹽、二甲基萘基锍鹽、4-丁氧基苯基二苯基锍鹽和4-乙酸基-苯基二苯基锍鹽。優(yōu)選的是三苯基锍鹽。帶有對光不穩(wěn)定的鹵原子的有機化合物包括α-鹵-p-硝基甲苯、α-鹵甲基-s-三嗪、四溴化碳等等。這此光致產(chǎn)酸劑可以單獨使用或其中兩種或多種組合使用。
所述光致產(chǎn)酸劑成分占組合物的不溶部分的總重量的重量百分數(shù)優(yōu)選為約0．05％到約20％，更優(yōu)選為約0．5％到約5％。
所述組合物還含有有機酸酐單體或聚合物成分。適用的酸酐是數(shù)均分子量大約從500-50000，優(yōu)選的是大約從1000-10000的酸酐官能團高聚物。非限制性普遍適用的酸酐包括苯乙烯-馬來酸酐、苯乙烯-甲基丙烯酸烷基酯-衣康酸酐、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸丁酯-衣康酸酐、丙烯酸丁酯-苯乙烯-馬來酸酐等等。優(yōu)選的是苯乙烯與馬來酸酐以約1∶1到約3∶1的摩爾比進行聚合所得的苯乙烯-馬來酸酐聚合物。適用的酸酐還有十二碳烯基琥珀酸酐、偏苯三酸酐、chloroendic酸酐(chloroendicanhydride)、鄰苯二甲酸酐、甲基六氫化鄰苯二甲酸酐、1-甲基四氫化鄰苯二甲酸酐、六氫化鄰苯二甲酸酐、methylnadic酸酐(methylnadicanhydride)、甲基丁烯基四氫化鄰苯二甲酸酐、苯并苯基酮四羧酸二酐(benzophenone tetracarboxylic dianhydride)，甲基環(huán)己烯二羧酸酐。這些酸酐可以單獨使用或其中兩種或多種組合使用。
這種酸酐成分占組合物的不溶部分的重量的重量百分數(shù)優(yōu)選從約10％到約90％，更優(yōu)選從約20％到約80％，最優(yōu)選從約35％到約65％。
所述組合物中還含有環(huán)氧樹脂成分。環(huán)氧樹脂的骨架和取代基的結構可以改變，其分子量和環(huán)氧樹脂重量當量(EEW)以及每一個分子中的環(huán)氧基團的數(shù)目可以改變。適用的環(huán)氧樹脂的平均分子量約為100-20000，優(yōu)選的平均分子量約為200-5000；適用的環(huán)氧樹脂當量EEW約為50-10000，優(yōu)選約為100-2500；每一個環(huán)氧樹脂分子中的平均環(huán)氧基團的數(shù)目約為1-40，優(yōu)選約為2-10。
尤其適用的環(huán)氧樹脂包括，例如，以下物質(zhì)的二環(huán)氧甘油醚，它們是間苯二酚、鄰苯二酚、對苯二酚、聯(lián)酚(biphenol)、雙酚A、雙酚F、雙酚K、四溴雙酚A、苯酚-甲醛酚醛清漆樹脂、烷基取代的苯酚-甲醛酚醛清漆樹脂、苯酚-羥基苯甲醛樹脂、甲酚-羥基苯甲醛樹脂、二環(huán)戊二烯-苯酚樹脂、二環(huán)戊二烯取代的苯酚樹脂、四甲基聯(lián)酚、四甲基-四溴聯(lián)酚(tetramethyl-tetrabromobiphenol)或其任意的組合物等等。另外適用的環(huán)氧樹脂是其每個分子有一個以上的芳族羥基的亞烷基烯化氧加合物，比如二羥基苯酚、聯(lián)酚、雙酚、鹵代雙酚、烷基化雙酚、三苯酚、酚醛清漆樹脂、鹵代酚醛清漆樹脂、烷基化的酚醛清漆樹脂、苯酚-羥基苯甲醛樹脂、甲酚-羥基苯甲醛樹脂或其任意的組合物等的環(huán)氧乙烷、環(huán)氧丙烷、或環(huán)氧丁烷的加合物。另外適用的環(huán)氧樹脂是其每一個分子中平均含有一個以上脂肪族羥基的縮水甘油醚，比如脂肪族多元醇和聚醚多元醇。不受限制的例子還包括以下物質(zhì)的聚縮水甘油醚，它們是聚乙二醇、聚丙二醇、甘油、聚甘油、三羥甲基丙烷、丁二醇、山梨醇、季戊四醇或其組合物。
所述環(huán)氧樹脂成分占組合物的不溶部分的重量的重量百分數(shù)優(yōu)選為約10％到約90％，更優(yōu)選的重量百分數(shù)為約20％到約80％，最優(yōu)選的重量百分數(shù)為約35％到約65％。
環(huán)氧樹脂與酸酐的優(yōu)選摩爾比為0．1-10，更優(yōu)選的摩爾比為0．2-5，最優(yōu)選的摩爾比為0．5-2。
所述組合物還含有一種含氮催化劑，它催化環(huán)氧樹脂、酐和任意一種苯酚之間的固化反應。優(yōu)選的催化劑是仲胺、叔胺以及膦、胂和膦胂混合物。優(yōu)選的胺催化劑是咪唑類，例如，咪唑、苯并咪唑、2-甲基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、1，2-二甲基咪唑、2-己基咪唑、2-環(huán)己基咪唑、2-苯基咪唑、2-苯基-4-甲基咪唑、1-苯甲基咪唑、1-乙基-2-甲基苯并咪唑、2-甲基-5，6-苯并咪唑、1-乙烯基咪唑、1-烯丙基-2-甲基咪唑、2-氰基咪唑、2-氯咪唑、2-溴咪唑、1-(2-羥丙基)-2-甲基咪唑、2-苯基-4，5-二羥甲基咪唑、2-苯基-4-甲基-5-羥甲基咪唑、2-氯甲基苯并咪唑、2-羥基苯并咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-環(huán)己基-4-甲基咪唑、2-丁氧基-4-烯丙基咪唑、2-碳化乙氧基丁基-4-甲基咪唑(2-carboethyoxybutyl，4-methyl-imidazoles)、2-甲基-4-巰基乙基咪唑和2-苯基咪唑。優(yōu)選的是1-甲基咪唑、2-乙基咪唑、2-乙基-4-甲基咪唑、2-苯基咪唑、2-甲基-4-硝基咪唑、4-甲基咪唑。關于咪唑和苯并咪唑的化學性質(zhì)包括特性及其結構式的詳細說明參見克勞斯 霍夫曼(KlausHofmann)編寫由紐約Interscience Publishers，Inc．(1953)出版的“咪唑及其衍生物”一書。
在這里還可以采用優(yōu)選的雜環(huán)仲胺和叔胺或含氮化合物，例如，咪唑烷類、咪唑啉類、噁唑類、吡咯類、噻唑類、吡啶類、吡嗪類、嗎啉類、噠嗪類、嘧啶類、吡咯烷類、吡唑類、喹喔類、喹唑類、酚嗪喹啉類(phihalozines quinolines)、嘌呤類、吲唑類、吲哚類、吲哚嗪類(indolazines)、吩嗪類、吩砒嗪類、吩噻嗪類、吡咯類、二氫吲哚類、哌啶類、哌嗪類及其它們的組合物。
適用的催化劑還有其它的脂肪族環(huán)胺，比如1，5-二氮二雜環(huán)〖4．3．0〗壬-5-烯、1，4-二氮二雜環(huán)〖2．2．2〗辛烷、1，8-二氮二雜環(huán)〖5．4．0〗十一碳-7-烯。
另外優(yōu)選的還有非環(huán)狀仲胺和叔胺，比如，辛基二甲胺、三-二甲基氨基甲基苯酚、芐基二甲胺、N，N-二甲胺、三乙胺、三甲胺、N，N，N’，N’-四甲基丁烷-二胺、N，N，N’，N’-四甲基己烷-二胺、三異辛胺、N，N-二甲基苯胺、三苯基胺等等。
適用的膦包括例如，三苯基膦、三甲基膦、三丙基膦、三丁基膦、三戊基膦、三庚基膦、三辛基膦、三壬基膦、三癸基膦、三-十二烷基膦、雙(二苯基膦基)-甲烷、1，2-雙(二苯基膦基)-乙烷、1，3-雙(二苯基膦基)-丙烷、1，2-雙(二甲基膦基)-乙烷、1，3-雙(二甲基膦基)-丙烷及其組合物。適用的胂包括例如，三苯基胂、三丁基胂及其組合物。
所述催化劑占組合物的不溶部分的重量的重量百分數(shù)優(yōu)選為約0．01％到約10％，更優(yōu)選的重量百分數(shù)為約0．02％到約5％，最優(yōu)選的重量百分數(shù)為約0．05％到約2％。
另外，所述組合物中包括有其中含有任何含有芳族羥基的化合物，比如酚單體或聚合物或其混合物。其中在這里能夠應用的含有芳族羥基的化合物包括有例如每一個化合物分子中平均有一個以上酚羥基的化合物。適用的化合物包括二羥基苯酚類、聯(lián)酚類、雙酚類、鹵代雙酚類、烷基化的雙酚類、三苯酚、酚醛樹脂、鹵代酚醛清漆樹脂、烷基化的酚醛清漆樹脂、苯酚-羥基苯甲醛樹脂、烷基化的苯酚-羥基苯甲醛樹脂，以及二羥基苯酚類、聯(lián)酚類、雙酚類、鹵代雙酚類、烷基化的雙酚類、三苯酚、酚醛清漆樹脂、鹵代酚醛清漆樹脂、烷基化的酚醛清漆樹脂、甲酚-(乙)醛酚醛清漆樹脂、苯酚-羥基苯甲醛樹脂、甲酚-羥基苯甲醛樹脂、乙烯基苯酚聚合物及其任何的組合物等的環(huán)氧乙烷、環(huán)氧丙烷或環(huán)氧丁烷的加合物。
含酚化合物或聚合物占組合物的不溶部分的重量的重量百分數(shù)優(yōu)選為約1％到約50％，更優(yōu)選的重量百分數(shù)為約5％到約40％，最優(yōu)選的重量百分數(shù)為約10％到約30％。
在使用含酚化合物或聚合物時，催化劑占組合物的不溶部分的重量的重量百分數(shù)優(yōu)選為約0．01％到約10％，更優(yōu)選的重量百分數(shù)為約0．02％到約5％，最優(yōu)選的重量百分數(shù)為約0．05％到約2％。
在使用的含酚化合物或聚合物時，光致產(chǎn)酸劑占所有組合物的不溶部分的重量的重量百分數(shù)優(yōu)選為約0．05％到約20％，更優(yōu)選的重量百分數(shù)為約0．2％到約10％，最優(yōu)選的重量百分數(shù)為約0．5％到約5％。
在使用含酚化合物或聚合物時，環(huán)氧樹脂成分占所有組合物的不溶部分重量的重量百分數(shù)優(yōu)選為約10％到約90％，更優(yōu)選的重量百分數(shù)為約20％到約70％，最優(yōu)選的重量百分數(shù)為約30％到約60％。
在使用含酚化合物或聚合物時，酐成分占所有組合物的不溶部分的重量的重量百分數(shù)優(yōu)選為約10％到約90％，更優(yōu)選的重量百分數(shù)為約20％到約70％，最優(yōu)選的重量百分數(shù)為約30％到約60％。
在使用含酚化合物或聚合物時，環(huán)氧樹脂與混合的酐、酚的優(yōu)選摩爾比為約0．1到約10，更優(yōu)選的摩爾比為約0．2到約5，最優(yōu)選的摩爾比為約0．5到約2。酸酐與酚的摩爾比為約20到約0．5，優(yōu)選的摩爾比為約10到約1．0。
本發(fā)明的組合物中所包括的其它任意添加劑是填料、顏料(如染料和色料)，表面活性劑、阻燃劑、增塑劑、抗氧化劑等等。本發(fā)明中能夠使用的常用顏料如下永久黃G(C．I．21095)、永久黃GR(C．I．21100)、永久黃DHG(C．I．21090)、永久玉紅L6B(C．I．158501)、永久粉紅F3B(C．I．12433)、霍斯塔佩美(Hostaperm)粉紅E(73915)、霍斯塔佩美(Hostaperm)紫紅ER(C．I．46500)、永久洋紅FBB(12485)、霍斯塔佩美(Hostaperm)藍B2G(C．I．74160)、霍斯塔佩美(Hostaperm)藍A2R(C．I．74160)和普瑞斯特(Printex)25。可用的表面活性劑包括例如，壬基苯氧基-聚(乙烯氧代)乙醇、辛基苯氧基乙醇，表面活性劑占組合物重量的重量百分數(shù)高達10％?？捎玫脑鏊軇┌ɡ纾姿崛?(β-氯乙基)酯、硬脂酸、二樟腦(dicamphor)、聚丙烯、(乙)縮醛樹脂、苯氧基樹脂和烷基樹脂，增塑劑占組合物重量的重量百分數(shù)高達10％。增塑劑添加劑可改進材料的涂層特性，從而使光滑且相對于底層具有等同厚度的膠片得以應用。
通過把各組分和與組分相溶的溶劑混合，從而制備出該組合物。有用的溶劑包括醇類、醚類、酯類、酮類和醋酸鹽類。優(yōu)選的溶劑包括四氫呋喃、異丁基異丁酸鹽、乙二醇醚類(例如1，2-亞丙基乙二醇單甲基醚和甲基溶纖劑)、醇類(例如乙醇，n-丙醇)、酮類(例如丙酮、甲基乙基酮(MEK))、丁基乙酸鹽、二甲苯、1，2-亞乙基乙二醇單乙基醚乙酸鹽和1，2-亞丙基乙二醇單甲基醚乙酸鹽等等。組合物中涂層溶劑占整個組合物總重量的百分比可以高達95％。當然在把溶液涂到底層上并且干燥后溶劑基本上得以去除。一般來說，一旦溶劑涂到適當?shù)牡讓由纤蛷耐繉咏M合物中蒸發(fā)掉。然而，一些微量溶劑可能留下殘渣。
然后利用公知技術(但不限于旋轉(zhuǎn)涂敷、窄縫口模頭涂敷、擠出、邁葉爾(Meyer)棒材拉撥、刮刀拉撥、屏幕涂敷、屏蔽涂敷、浸漬涂敷或噴涂)把制備的溶劑溶液組合物涂在底層上?？捎玫牡讓影ㄓ薪饘?比如鋁、鋁合金和其它金屬)和金屬合金(比如鋼、不銹鋼、鋅、銅和鉻)、聚合物(聚酯薄膜、聚酰亞胺薄膜和環(huán)氧樹脂)、硅、砷化鎵、玻璃等等。在高溫下通過烘烤涂層使涂層干燥或固化。烘烤條件是在樹脂還沒有完全固化時形成不脫落的干燥膜的情況下進行選擇的。烘烤條件明顯隨著組成而變化。典型的烘烤溫度為約50℃到約150℃，優(yōu)選溫度為約80℃到約120℃，烘烤時間為約0．5分鐘到約60分鐘，優(yōu)選為約1分鐘到約20分鐘。涂料一旦涂到底層上，溶劑蒸發(fā)，并產(chǎn)生重量為約0．7g／cm2到約2g／m2的干燥涂層，優(yōu)選為約1．0g／cm2到約1．8g／m2，更優(yōu)選的為約1．2g／cm2到約1．5g／m2。
一旦感光組合物在底層上形成一層薄膜或厚膜，為了刻劃出光透射區(qū)域，光化輻射直接射到膠片上。這時必須選擇輻射圖案，從而使感光組合物成像為所希望的圖案且膠片的其它區(qū)域不參與反應。本發(fā)明的感光樹脂通常是通過把組合物以需要的波長和強度進行光化輻射曝光所需要的時間來成像的。這里使用的“光化輻射”定義為光譜的紫外或紅外區(qū)域的可見光輻射，以及電子束、離子或中子束或X-射線輻射。光化輻射可以以不相干光或相干光的形式輻射，例如激光。光化光源和曝光過程、時間、波長和強度都可以根據(jù)所希望的光-反應程度和本領域技術人員公知的其它因素來進行廣泛的改變。這種常用的光-反應過程及其操作參數(shù)在本領域是公知的。光化輻射光源及其波長可以廣泛改變，可以使用任何常用的波長和光源。汞蒸汽放電燈優(yōu)于鹵化金屬燈。其它的輻射光源(比如碳弧、脈沖氙和激光)也可以使用。光吸咐過濾器可以用于減少材料中的光散射。優(yōu)選利用相對短波長(或高能)輻射進行光化學激發(fā)，從而使通常在沖印(processing)(例如房間燈)還沒有過早地反應之前能進行輻射曝光。二者擇一地，沖印可以利用高強度光化輻射光源(比如激光)激發(fā)的多光子。因此，300-400nm波長的紫外光曝光比較方便。另外，190-300nm波長的紫外光的深度曝光是比較有用的。常用的光源是高壓氙或裝有適當?shù)臑V光器來選擇希望的波長的汞-氙弧燈。
控制光化輻射的空間外形，也就是在光化輻射照射在感光材料層上的地方可通過常用的方法來實現(xiàn)空間外形。例如，用一種常用的方法，把具有預期的光透射圖案的蒙片放在光化輻射光源和感光組合物薄膜之間。蒙片有只允許輻射透射到膜表面的預期區(qū)域上的透明區(qū)域和不透明區(qū)域。薄型薄膜的帶蒙片曝光是公知技術，可以采用接觸、接近和投影技術把光透射圖案印制到膜上。在感光組合物曝過光于底層表面形成預定的感光聚合物圖案后，然后再后烘烤圖案。后烘烤條件的選擇要使未曝光區(qū)域比已曝光區(qū)域固化的快，這說明在顯影劑溶液中未曝光區(qū)域的溶解度比已曝光區(qū)域的溶解度低。適當?shù)暮蠛婵緱l件明顯隨著組成和曝光而變化。典型的后烘烤溫度是從約90℃到約200℃，優(yōu)選的是從約110℃到約170℃，時間從約0．5分鐘到約60分鐘，優(yōu)選的是從約1分鐘到約20分鐘。
對底層上后烘烤的膜進行顯影，去除曝光區(qū)域，留下預定的圖案。任一常用的顯影方法都可以采用，例如，噴霧顯影和浸漬顯影。優(yōu)選的是噴霧顯影。本發(fā)明的組合物可以使用各種各樣的顯影劑進行顯影，包括普通的有機溶劑(比如二氯甲烷、甲基乙基酮、g-丁內(nèi)酯、丙酮等等)和例如碳酸鹽、氫氧化物、胺等的水溶液。水狀顯影劑是優(yōu)選的。適用的水狀顯影劑的例子非限制性包括磷酸鹽、硅酸鹽、偏硅酸鹽(metasilicate)、氫氧化物或偏亞硫酸氫鹽(metabisulfite)的水溶液。水狀顯影劑還包括有一元、二元、和三元堿金屬磷酸鹽、堿金屬硅酸鹽(比如硅酸鈉)、堿金屬偏硅酸鹽和堿金屬偏亞硫酸氫鹽；和堿金屬氫氧化物(比如氫氧化鈉、氫氧化鉀和氫氧化銨溶液)、單乙醇胺、氫氧化四甲基銨等的水溶液。典型的顯影劑組合物呈堿性，PH范圍為約8到約14，優(yōu)選為約10到約14。顯影劑還可以含有藝術賞識的表面活性劑、緩沖改性劑和其它成分。表面活性劑或其它的有機改性劑(比如2-丁氧基乙醇)可任意選擇添加到顯影劑溶液中。優(yōu)選的水狀顯影劑的濃度為約0．5％到約20％，更好的濃度為約1％到約10％。顯影劑溫度范圍為約從室溫到約65℃，優(yōu)選溫度為約35℃到約50℃。顯影時間優(yōu)選為約10秒到約20分鐘，更優(yōu)選的顯影時間為約0．5分鐘到約10分鐘。在顯影以后，用去離子水漂洗底層、干燥底層，且隨意地再烘烤以使其進一步固化。因此而產(chǎn)生的那層可以用作微電子設備中的電介質(zhì)或阻面罩。
下面的非限制性例子用以說明本發(fā)明。
實施例1感光樹脂是在室溫和黃光下，把兩種環(huán)氧樹脂單體[8wt％的由殼牌化學公司(Shell Chemical Company)生產(chǎn)的EPON 1001F、16wt％的由NagaseChemical生產(chǎn)的Denacol EX-512]、苯乙烯馬來酸酐低聚體(24％重量的由Elf Autochem Inc．生產(chǎn)的SMA1000)、一種光致產(chǎn)酸劑(2．5wt％的由Sartomer Company生產(chǎn)的CD1011)、0．3wt％的2-乙基-4-甲基咪唑(EMI)和49．2wt％的甲基乙基酮(MEK)溶劑相混合而制得。把這種單體混合物涂敷在玻璃底層上，厚度為50-100微米。然后將其在90℃的爐中進行烘烤5分鐘，形成一層不脫落的干膜。結果發(fā)現(xiàn)，用10mW／cm2強度的汞-氙弧燈光源通過石英蒙片曝光60秒，光致產(chǎn)酸劑在曝光區(qū)域足以產(chǎn)生預期的光解度。蒙片被設計成能夠產(chǎn)生25-200微米直徑的微孔洞。曝光后在150℃爐中烘烤涂層2分鐘，然后浸漬在2％氫氧化鈉水溶液中顯影，直徑為50-200微米的微孔洞就制作成了。
實施例2感光樹脂是在室溫和黃光下，把兩種環(huán)氧樹脂單體(8wt％的由殼牌化學公司生產(chǎn)的EPON 1001F，16wt％的由Nagase Chemical生產(chǎn)的Denacol EX-614B)、苯乙烯馬來酸酐低聚體(24wt％的由Elf Autochem Inc．生產(chǎn)的SMA1000)、一種光致產(chǎn)酸劑(2wt％的由Sartomer Company生產(chǎn)的CD1011)、0．1wt％的2-乙基-4-甲基咪唑(EMI)和49．9wt％的甲基乙基酮(MEK)溶劑相混合而制得。把這種單體混合物涂敷在玻璃底層上，厚度為50-100微米。然后將其在90℃的爐中進行烘烤5分鐘，形成一層不脫落的干膜。結果發(fā)現(xiàn)，用10mW／cm2強度的汞-氙弧燈光源通過石英蒙片曝光60秒，光致產(chǎn)酸劑在曝光區(qū)域足以產(chǎn)生預期的光解度。蒙片被設計成能夠產(chǎn)生25-200微米直徑的微孔洞。曝光后在150℃爐中烘烤涂層5分鐘，然后浸漬在2％氫氧化鈉水溶液中顯影，直徑為50-200微米的微孔洞就制作成了。
實施例3感光樹脂是在室溫和黃光下，把一種環(huán)氧樹脂單體(24wt％的由Nagase Chemical生產(chǎn)的Denacol EX-512)、苯乙烯馬來酸酐低聚體(24wt％的由Elf Autochem Inc．生產(chǎn)的SMA1000)、一種光致產(chǎn)酸劑(2wt％的由Sartomer Company生產(chǎn)的CD1011)、0．2wt％的2-乙基-4-甲基咪唑(EMI)和49．8wt％的甲基乙基酮(MEK)溶劑相混合而制得。把這種單體混合物涂敷在玻璃底層上，厚度為50-100微米。然后將其在90℃的爐中進行烘烤5分鐘，形成一層不脫落的干膜。結果發(fā)現(xiàn)，用10mW／cm2強度的汞-氙弧燈光源通過石英蒙片曝光100秒，光致產(chǎn)酸劑在曝光區(qū)域足以產(chǎn)生預期的光解度。蒙片被設計成能夠產(chǎn)生25-200微米直徑的微孔洞。曝光后在140℃爐中烘烤涂層5分鐘，然后浸漬在2％氫氧化鈉水溶液中顯影，直徑為50-200微米的微孔洞就制作成了。
實施例4感光樹脂是在室溫和黃光下，把兩種環(huán)氧樹脂單體(8wt％的由殼牌化學公司生產(chǎn)的EPON 1001F、16wt％的由Nagase Chemical生產(chǎn)的Denacol EX-512)、苯乙烯馬來酸酐低聚體(24wt％的由Elf Autochem Inc．生產(chǎn)的SMA2000)、一種光致產(chǎn)酸劑(2wt％的由Sartomer Company生產(chǎn)的CD1011)、0．2wt％的2-乙基-4-甲基咪唑(EMI)和49．8 wt％的甲基乙基酮(MEK)溶劑相混合而制得。把這種單體混合物涂敷在玻璃底層上，厚度為50-100微米。然后將其在90℃的爐中進行烘烤5分鐘，形成一層不脫落的干膜。結果發(fā)現(xiàn)，用10mW／cm2強度的汞-氙弧燈光源通過石英蒙片曝光100秒，光致產(chǎn)酸劑在曝光區(qū)域足以產(chǎn)生預期的光解度。蒙片被設計成能夠產(chǎn)生25-200微米直徑的微孔洞。曝光后在140℃爐中烘烤涂層5分鐘，然后浸漬在2％氫氧化鈉水溶液中顯影，直徑為50-200微米的微孔洞就制作成了。
實施例5感光樹脂是在室溫和黃光下，把兩種環(huán)氧樹脂單體(12wt％的由殼牌化學公司生產(chǎn)的EPON828，12wt％的由Nagase Chemical生產(chǎn)的DenacolEX-614B)、苯乙烯馬來酸酐低聚體(24wt％的由Elf Autochem Inc．生產(chǎn)的SMA1000)、一種光致產(chǎn)酸劑(2wt％的由Sartomer Company生產(chǎn)的CD1011)、0．2wt％的2-乙基-4-甲基咪唑(EMI)和49．8wt％的甲基乙基酮(MEK)溶劑相混合而制得。把這種單體混合物涂敷在玻璃底層上，厚度為50-100微米。然后將其在90℃的爐中進行烘烤達5分鐘，形成一層不脫落的干膜。結果發(fā)現(xiàn)，用10mW／cm2強度的汞-氙弧燈光源通過石英蒙片曝光80秒，光致產(chǎn)酸劑在曝光區(qū)域足以產(chǎn)生預期的光解度。蒙片被設計成能夠產(chǎn)生25-200微米直徑的微孔洞。曝光后在150℃爐中烘烤涂層5分鐘，然后浸漬在10％單乙醇胺水溶液中顯影，直徑為50-200微米的微孔洞就制作成了。
實施例6感光樹脂是在室溫和黃光下，把一種環(huán)氧樹脂單體(24wt％的由殼牌化學公司生產(chǎn)的EPON 1163)、苯乙烯馬來酸酐低聚體(24wt％的由ElfAutochem Inc．生產(chǎn)的SMA2000)、一種光致產(chǎn)酸劑(2．5wt％的由SartomerCompany生產(chǎn)的CD1011)、0．3wt％的2-乙基-4-甲基咪唑(EMI)和49．2wt％的甲基乙基酮(MEK)溶劑相混合而制得。把這種單體混合物涂敷在玻璃底層上，厚度為50-100微米。然后將其在90℃的爐中進行烘烤5分鐘，形成一層不脫落的干膜。結果發(fā)現(xiàn)，用10mW／cm2強度的汞-氙弧燈光源通過石英蒙片曝光80秒，光致產(chǎn)酸劑在曝光區(qū)域足以產(chǎn)生預期的光解度。蒙片設計成能夠產(chǎn)生25-200微米直徑的微孔洞。曝光后在140℃爐中烘烤涂層10分鐘，然后浸漬在2％氫氧化鈉水溶液中顯影，直徑為50-200微米的微孔洞就制作成了。
實施例7感光樹脂是在室溫和黃光下，把兩種環(huán)氧樹脂單體(20wt％的由殼牌化學公司生產(chǎn)的EPON 828、5wt％的由Nagase Chemical生產(chǎn)的DenacolEX-614B)、苯乙烯馬來酸酐低聚體(24wt％的由Elf Autochem Inc．生產(chǎn)的SMA2000)、一種光致產(chǎn)酸劑(2wt％的由Sartomer Company生產(chǎn)的CDl011)、0．2wt％的2-乙基-4-甲基咪唑(EMI)和48．8wt％的甲基乙基酮(MEK)溶劑相混合而制得。把這種單體混合物涂敷在玻璃底層上，厚度為50-100微米。然后將其在90℃的爐中進行烘烤達5分鐘，形成一層不脫落的干膜。結果發(fā)現(xiàn)，用10mW／cm2強度的汞-氙弧燈光源通過石英蒙片曝光60秒，光致產(chǎn)酸劑在曝光區(qū)域足以產(chǎn)生預期的光解度。蒙片被設計成能夠產(chǎn)生25-200微米直徑的微孔洞。曝光后在140℃爐中烘烤涂層6分鐘，然后浸漬在10％單乙醇胺水溶液中顯影，直徑為50-200微米的微孔洞就制作成了。
實施例8感光樹脂是在室溫和黃光下，把兩種環(huán)氧樹脂單體(12wt％的由殼牌化學公司生產(chǎn)的EPON 828、12wt％的由Nagase Chemical生產(chǎn)的DenacolEX-512)、苯乙烯馬來酸酐低聚體(24wt％的由Elf Autochem Inc．生產(chǎn)的SMA1000)、一種光致產(chǎn)酸劑(2wt％的由Sartomer Company生產(chǎn)的CD1011)、0．2wt％的2-乙基-4-甲基咪唑(EMI)、10wt％重量的10-100nm的二氧化硅顆粒、39．8wt％的甲基乙基酮(MEK)溶劑相混合而制得。把這種單體混合物涂敷在玻璃底層上，形成一層50-100微米厚的清晰的膜。然后涂層在90℃的爐中進行烘烤5分鐘，形成一層不脫落的干膜。結果發(fā)現(xiàn)，用10mW／cm2強度的汞-氙弧燈光源通過石英蒙片曝光100秒，光致產(chǎn)酸劑在曝光區(qū)域足以產(chǎn)生預期的光解度。蒙片被設計成能夠產(chǎn)生25-200微米直徑的微孔洞。曝光后在150℃爐中烘烤涂層2分鐘，然后浸漬在2％氫氧化鈉水溶液中顯影，直徑為50-200微米的微孔洞就制作成了。
實施例9感光樹脂是在室溫和黃光下，把兩種環(huán)氧樹脂單體(12wt％的由殼牌化學公司生產(chǎn)的EPON 1001F、12wt％的由Nagase Chemical生產(chǎn)的Denacol EX-512)、一種苯乙烯馬來酸酐低聚體(16wt％的由Elf AutochemInc．生產(chǎn)的SMA1000)，8wt％的由Schenectady International Inc．生產(chǎn)的酚醛清漆樹脂HRJ1166、一種光致產(chǎn)酸劑(2．5wt％的由SartomerCompany生產(chǎn)的CD1011)、0．3wt％的2-乙基-4-甲基咪唑(EMI)和49．5wt％的甲基乙基酮(MEK)溶劑相混合而制得。把這種單體混合物涂敷在玻璃底層上，厚度為50-100微米。然后將其在90℃的爐中進行烘烤5分鐘，形成一層不脫落的干膜。結果發(fā)現(xiàn)，用10mW／cm2強度的汞-氙弧燈光源通過石英蒙片曝光100秒，光致產(chǎn)酸劑在曝光區(qū)域足以產(chǎn)生預期的光解度。蒙片被設計成能夠產(chǎn)生25-200微米直徑的微孔洞。曝光后在150℃爐中烘烤涂層5分鐘，然后浸漬在2％氫氧化鈉水溶液中顯影，直徑為50-200微米的微孔洞就制作成了。
實施例10利用窄縫口模頭涂料器把實施例2制得的感光樹脂涂覆在處理過的分離用聚酯薄膜上。濕膜在90℃下預烘烤5分鐘，形成50微米厚的干膜。然后利用滾筒溫度為約120℃的熱滾筒層壓機把聚酯支持的感光干膜層壓到環(huán)狀內(nèi)層板上。剝?nèi)シ蛛x用薄膜，留下層壓到環(huán)狀板上的光刻膠。然后整體冷卻，用10mW／cm2強度的汞-氙弧燈通過帶有預期特征的藝術作品對干膜光刻膠曝光100秒。曝過光的板在150℃下后烘烤5分鐘。冷卻下來以后，用2％的氫氧化四甲基銨水溶液在50℃下對板進行浸漬并噴射達5分鐘，從而顯影感光層的圖像。采用這種方法可以得到50-200微米的微孔洞。
實施例11把實施例3制得的感光樹脂直接屏蔽涂覆在環(huán)狀內(nèi)層板上。濕膜在90℃下預烘烤5分鐘，形成25微米厚的干膜。用紫外光通過帶有預期特征的藝術作品對感光干膜進行曝光。曝過光的板在140℃下后烘烤5分鐘。冷卻下來以后，用2％的氫氧化鈉水溶液對板在40℃下進行浸漬并噴射達5分鐘。采用這種方法可以得到50-200微米的微孔洞。
實施例12使用#80邁葉爾(Meyer)棒材將實施例7制得的感光樹脂應用到銅箔上。濕膜在90℃下預烘烤5分鐘，形成50微米厚的干膜。然后利用滾筒溫度約120℃的熱滾筒層壓機把銅箔支持的感光干膜層壓到環(huán)狀內(nèi)層板上。按照同樣的步驟，把另一層干膜光刻膠壓到銅箔的上部。然后整體冷卻，用紫外光通過帶有預期特征的藝術作品對感光干膜進行曝光。然后對干膜光刻膠進行顯影，露出其下面的銅箔。然后用氯化銅蝕刻劑在50℃下蝕刻銅箔，產(chǎn)生一個有圖案的金屬薄片。在清洗和干燥以后，用10mW／cm2強度的汞-氙弧燈對板泛光曝光100秒。曝過光的板在140℃下后烘烤6分鐘。冷卻下來以后，用10％的單乙醇胺水溶液對板在50℃下進行浸漬并噴射達5分鐘，以剝離干膜光刻膠和顯影感光層的圖像。采用這種方法可以得到50-200微米的微孔洞。
權利要求
1.一種正性可光成像的組合物，其包括有至少一種在進行光化輻射曝光時能產(chǎn)生酸的光致產(chǎn)酸劑，至少一種有機酸酐單體或聚合物，至少一種環(huán)氧樹脂，至少一種含氮固化催化劑，和任意一種含有芳族羥基的單體、聚合物，或其混合物。
2.根據(jù)權利要求1的組合物，其中所述光致產(chǎn)酸劑是鎓化合物。
3.根據(jù)權利要求1的組合物，其中所述光致產(chǎn)酸劑選自锍化合物、碘化合物、重氮化合物帶有對光不穩(wěn)定的鹵原子的有機化合物、及其混合物。
4.根據(jù)權利要求1的組合物，其中所述光致產(chǎn)酸劑成分占該組合物不溶部分重量的重量百分數(shù)為約0．05％到約20％。
5.根據(jù)權利要求1的組合物，其中所述酸酐聚合物的數(shù)均分子量為約500到約50000。
6.根據(jù)權利要求1的組合物，其中所述酸酐聚合物選自苯乙烯-馬來酸酐、苯乙烯-甲基丙烯酸烷基酯-衣康酸酐、甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸丁酯-衣康酸酐、丙烯酸丁酯-苯乙烯-馬來酸酐、十二碳烯基琥珀酸酐、偏苯三酸酐、chloroendic酸酐(chloroendic anhydride)、鄰苯二甲酸酐、甲基六氫化鄰苯二甲酸酐、1-甲基四氫化鄰苯二甲酸酐、六氫化鄰苯二甲酸酐、methylnadic酸酐(methylnadic anhydride)、甲基丁烯基四氫化鄰苯二甲酸酐、苯并苯基酮四羧酸二酐(benzophenonetetracarboxylic dianhydride)、甲基環(huán)己烯二羧酸酐及其混合物。
7.根據(jù)權利要求1的組合物，其中所述酸酐聚合物成分占該組合物不溶部分重量的重量百分數(shù)為約10％到約90％。
8.根據(jù)權利要求1的組合物，其中所述環(huán)氧樹脂的數(shù)均分子量約為100-20000，環(huán)氧樹脂的環(huán)氧當量從約50到約10000，每一個環(huán)氧樹脂分子的平均環(huán)氧基團的數(shù)目為約1到約40。
9.根據(jù)權利要求1的組合物，其中所述環(huán)氧樹脂包括以下物質(zhì)的二環(huán)氧甘油醚，它們是間苯二酚、鄰苯二酚、對苯二酚、聯(lián)酚(biphenol)、雙酚A、雙酚F、雙酚K、四溴雙酚A、苯酚-甲醛酚醛清漆樹脂、烷基取代的苯酚-甲醛酚醛清漆樹脂、苯酚-羥基苯甲醛樹脂、甲酚-羥基苯甲醛樹脂、二環(huán)戊二烯-苯酚樹脂、二環(huán)戊二烯取代的苯酚樹脂、四甲基聯(lián)酚、四甲基-四溴聯(lián)酚或其混合物。
10.根據(jù)權利要求1的組合物、其中所述環(huán)氧樹脂成分占該組合物不溶部分重量的重量百分數(shù)為約10％到約90％。
11.根據(jù)權利要求1的組合物、其中所述含氮催化劑選自仲胺、叔胺以及膦、胂和膦胂混合物。
12.根據(jù)權利要求1的組合物、其中所述含氮催化劑選自咪唑類、咪唑烷類、咪唑啉類、噁唑類、吡咯類、噻唑類、吡啶類、吡嗪類、嗎啉類、噠嗪類、嘧啶類、吡咯烷類、吡唑類、喹喔類、喹唑類、酚嗪喹啉類phihalzines quinolines)、嘌呤類、吲唑類、吲哚類、吲哚嗪類、吩嗪類、吩砒嗪類、吩噻嗪類、吡咯類、二氫吲哚類、哌啶類、哌嗪類及其混合物。
13.根據(jù)權利要求1的組合物、其中所述含氮催化劑占組合物的不溶部分的重量的重量百分數(shù)為約0．01％到約10％。
14.根據(jù)權利要求1的組合物、其中所述芳族羥基化合物選自由以下物質(zhì)組成的組群二羥基苯酚類、聯(lián)酚類、雙酚類、鹵代雙酚類、烷基化的雙酚類、三苯酚、酚醛樹脂、鹵代酚醛清漆樹脂、烷基化的酚醛清漆樹脂、苯酚-羥基苯甲醛樹脂、烷基化的苯酚-羥基苯甲醛樹脂，以及二羥基苯酚類、聯(lián)酚類、雙酚類、鹵代雙酚類、烷基化的雙酚類、三苯酚、酚醛清漆樹脂、鹵代酚醛清漆樹脂、烷基化的酚醛清漆樹脂、甲酚-醛酚醛清漆樹脂、苯酚-羥基苯甲醛樹脂、甲酚-羥基苯甲醛樹脂、乙烯基苯酚聚合物及其混合物的環(huán)氧乙烷、環(huán)氧丙烷或環(huán)氧丁烷的加合物。
15.根據(jù)權利要求1的組合物、其中所述芳族羥基化合物占組合物的不溶部分的重量的重量百分數(shù)為約1％到約50％。
16.一種感光單元，其包括一個底層和在底層上的干燥正性可光成像組合物，該組合物包括至少一個在進行光化輻射曝光時能產(chǎn)生酸的光致產(chǎn)酸劑，至少一種有機酸酐單體或聚合物，至少一種環(huán)氧樹脂，至少一種含氮固化催化劑，和任意一種含有芳族羥基的單體、聚合物，或其混合物。
17.根據(jù)權利要求16的感光單元，其中所述底層包括選自鋁、鋼、不銹鋼、鋅、銅、鉻、聚酯、聚酰亞胺、環(huán)氧樹脂、硅、砷化鎵和玻璃的材料。
18.一種制作正像的方法、其包括a)提供一種感光單元、它包括一個底層和在底層上的干燥的正性可光成像組合物、該組合物包括至少一個在進行光化輻射曝光時能產(chǎn)生酸的光致產(chǎn)酸劑、至少一種有機酸酐單體或聚合物、至少一種環(huán)氧樹脂、至少一種含氮固化催化劑、和任意一種含有芳族羥基的單體、聚合物，或其混合物；b)使該組合物進行足夠的光化輻射成影像曝光，從而提供該組合物的影像曝光部分和影像未曝光部分；c)用液體顯影劑去除該組合物的影像曝光部分。
19.根據(jù)權利要求18的方法、其進一步包括在顯影前對影像曝光組合物進行后烘烤的步驟。
20.根據(jù)權利要求19的方法、其中所述后烘烤的溫度為約90℃到約200℃、時間為約0．5分鐘到約60分鐘。
21.根據(jù)權利要求18的方法、其中所述步驟(c)是用堿性水溶液進行的。
全文摘要
一種正性可光成像組合物,其包括在進行光化輻射曝光時能產(chǎn)生酸的光致產(chǎn)酸劑、一種有機酸酐聚合物、一種環(huán)氧樹脂、一種含氮固化催化劑、和任意一種含酚的單體或聚合物。一種感光單元在其底層上涂有這種組合物并干燥。利用光化輻射對該感光單元進行影像曝光,然后任意進行后烘烤和用液體顯影劑顯影就可制作一個正片圖象。
文檔編號G03F7/004GK1291301SQ99803044
公開日2001年4月11日 申請日期1999年2月17日 優(yōu)先權日1998年2月17日
發(fā)明者徐誠增, 黃明媚, 勞拉·M·萊雷爾 申請人:依索拉層壓系統(tǒng)公司