專利名稱：電子照相光敏元件和使用它設(shè)備和設(shè)備單元的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及電子照相光敏元件，包括這種光敏元件的電子照相設(shè)備和包括這種光敏元件的電子照相設(shè)備單元。
迄今為止，使用硒、硫化鎘和硫化鋅之類的無機(jī)光導(dǎo)材料作為電子照相光敏元件的光導(dǎo)體。另一方面，近來開始使用利用具有廉價、高產(chǎn)率和無(環(huán)境)污染性等優(yōu)點(diǎn)的有機(jī)光敏元件的電子照相光敏元件。
具體地說，近年來廣泛普及利用電子照相術(shù)的非擊打型打印機(jī)作為終端打印機(jī)替代傳統(tǒng)的擊打型打印機(jī)。這些打印機(jī)一般是利用激光作為光源的激光束打印機(jī)。就光源而言，從成本、設(shè)備尺寸等等考慮，一般使用半導(dǎo)體激光。目前一般使用的半導(dǎo)體激光具有較長波長(即，發(fā)射波長780±20nm)，從而研究和開發(fā)了對顯示這種較長波長的激光具有足夠的光敏性的電子照相光敏元件。
已研究和提出了多種對長波長光具有高敏感度的電荷產(chǎn)生材料，其中有酞菁化合物，如非金屬酞菁，酞菁銅和酞菁氧鈦(以下簡寫為“TiOPc)。
具體地說，酞菁氧鈦(TiOPc)顯示了非常高的光敏性，并具有與其它酞菁化合物類似的不同的結(jié)晶形式。此外，TiOPc的電子照相性依結(jié)晶形式的不同而變化，因此，已研究和提出了具有不同結(jié)晶形式的多種TiOPc。
其代表例有日本公開未決專利申請(JP—A)61—239248(相當(dāng)于美國專利4,728,592)中公開的α—型TiOPc，JP—A62—67094(美國專利4,664,977)中公開的β—型TiOPc，JP—A5128973中公開的I—型TiOPc和JP—A3—200790中公開的Y—型TiOPc。
不過，當(dāng)在包括例如充電、曝光、顯影和轉(zhuǎn)印等步驟的所謂Carl-son法中采用利用TiOPc的傳統(tǒng)的電子照相光敏元件時，光敏元件很可能因表面電壓下降和光敏性改變而造成圖像質(zhì)量劣化或下降。
原因尚不清楚，許多因素都考慮過。
一般來說，在復(fù)印機(jī)中使用電子照相光敏元件的情況下，光敏元件總會受到電暈放電的氣氛的影響。隨著復(fù)印張數(shù)的加大，光敏元件受到因電暈放電產(chǎn)生的氣體的影響，從而加速光敏元件的劣化。
為了防止這種光敏元件的劣化，已提出一種往電荷輸送層中加抗氧劑(抗氧化劑)如三烷基酚衍生物或硫二丙酸二月桂基酯的方法(日本專利公告(JP—B)50—33857和51—34736，JP—A56—130759，Jp—A57—122444等等)。
為了進(jìn)一步改進(jìn)抗氧劑抑制光敏元件劣化的作用，還提出在JP—A62—105151，62—39863，63—18356，63—50851，63—73254和4—51248中介紹的多種方法。
但是，上述方法都不能提供足夠的電子照相性。
JP—A60—256150還介紹了包覆電荷遷移材料和/或抗氧劑的TiOPc。不過，所得光敏元件雖然在某種程度上防止了劣化，但仍有以下缺陷。具體地說，按照J(rèn)P—A60—256150說明，當(dāng)TiOPc與抗氧劑一起溶解或分散在例如四氫呋喃溶劑中，然后進(jìn)行高溫干燥時，很可能改變TiOPc的結(jié)晶性，所以不能得到所需的光敏性。
JP—A62—39863和JP—A63—18356介紹了往電荷產(chǎn)生層中加入抗氧劑(如受阻酚)。這種加入在某種程度上有效地防止了氧化，但不一定足以改進(jìn)包括抑制緊下介紹的光記憶現(xiàn)象的電子照相性。
JP—A 3—37656介紹了在光敏元件中TiOPc的使用，尤其是雙偶氮顏料的使用。不過改進(jìn)包括光記憶性在內(nèi)的電子照相性仍有余地。
當(dāng)在例如處理卡紙的過程中電子照相光敏元件暴露到可見光線下時，在曝光部位自然產(chǎn)生載流子。如果在上述載流子處于曝光部位時起動電子照相工藝，則具有載流子的曝光部位處的電(電荷)勢部分地被抵消。結(jié)果，降低了電勢的絕對值，由此導(dǎo)致圖像缺陷。這種現(xiàn)象稱之為“光記憶(PM)”。
近年來，隨著高質(zhì)量圖像的需求，要求電子照相光敏元件不但具有高光敏性和高耐久性，而且還有優(yōu)良的抗光記憶性。
本發(fā)明的一個目的是提供一種在重復(fù)使用中具有優(yōu)良的電勢穩(wěn)定性和基本上沒有光記憶性的電子照相光敏元件。
本發(fā)明的另一目的是提供一種包括光敏元件的電子照相設(shè)備和提供一種包括該光敏元件的電子照相設(shè)備單元。
按照本發(fā)明，提供一種電子照相光敏元件，它包括支撐體，設(shè)置在該支撐體上的電荷產(chǎn)生層和設(shè)置在電荷產(chǎn)生層上的電荷遷移層，其中電荷產(chǎn)生層包括酞菁氧鈦、一種偶氮顏料和一種受阻酚。
本發(fā)明提供一種電子照相設(shè)備，它包括上述電子照相光敏元件，給電子照相光敏元件充電的充電裝置，給電子照相光敏元件進(jìn)行圖像曝光以形成靜電潛像的曝光裝置，以及用調(diào)色劑顯影靜電潛像的顯影裝置。
本發(fā)明還提供了電子照相設(shè)備單元，它包括上述電子照相光敏元件以及與該光敏元件接觸并使其充電的直接充電元件。
在結(jié)合附圖思考了本發(fā)明優(yōu)選實(shí)施方案的說明后，本發(fā)明的這些和其它目的、特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn)將會更清楚。


圖1—3是結(jié)構(gòu)示意圖，分別說明了利用本發(fā)明光敏元件的電子照相設(shè)備的實(shí)施方案。
圖4是用于本發(fā)明的刷狀充電元件實(shí)施方案的示意圖。
本發(fā)明的電子照相光敏元件的特征在于電荷產(chǎn)生層至少包括TiOPc、一種偶氮顏料和一種受阻酚。
在本發(fā)明中，偶氮顏料和受阻酚與TiOPc一起摻入電荷產(chǎn)生層，從而所得光敏元件在重復(fù)使用中顯示了穩(wěn)定的電勢和防止了光記憶現(xiàn)象的出現(xiàn)。尚不清楚為什么本發(fā)明光敏元件能有效地防止光記憶現(xiàn)象的原因。這可能歸因于以下假想情況。
當(dāng)短波長光激發(fā)酞菁氧鈦(TiOPc)時，存在受激電子的軌道和原始軌道(即，激發(fā)前電子存在的軌道)之間的能級差別變得太大。結(jié)果，很難重組受激電子(即，很難使受激電子回到原始軌道)。不過，假定TiOPc的受激電子可通過偶氮顏料和受阻酚的空軌道平穩(wěn)地重組，因?yàn)榕嫉伭虾褪茏璺拥目哲壍滥芗壉徽J(rèn)為是一般介于激發(fā)前后TiOPc軌道的能級之間。所以，在本發(fā)明光敏元件的電荷產(chǎn)生層中所含的TiOPc、顏料和受阻酚的組合能有效地抑制光記憶現(xiàn)象。
用于本發(fā)明的TiOPc(酞菁氧鈦)一般具有下式表示的結(jié)構(gòu) 其中Y1，Y2，Y3和Y4分別代表Cl或Br；且n，m，k和p分別是整數(shù)0—4。
用于本發(fā)明的TiOPc可具有任何晶型。在本發(fā)明中，TiOPc最好是α—型TiOPc，β—型TiOPc，I—型TiOPc或Y型TiOPc，特別是I—型TiOPc。
I—型TiOPc具有的晶型特征在于基于CuKa特征X—射線的X—射線衍射圖案中至少四個主峰規(guī)定為9.0°，14.2°，23.9°和27.1°的Bragg角(2θ＋0.2度)。
α—型TiOPc的晶型特征在于在基于CuKa特征X—射線的X—射線衍射圖案中至少兩個主峰規(guī)定為7.6°和28.6°Bragg角(2θ±0.2度)。
β—型TiOPc的晶型特征在于在基于CuKa特征X—射線的X—射線衍射圖案中至少兩個主峰規(guī)定為9.3°和26.3°Bragg角(2θ±0.2度)。
Y—型TiOPc的晶型特征在于在基于CuKa特征X—射線的X—射線衍射圖案中至少兩個主峰規(guī)定為9.5°和27.3°Bragg角(2θ±0.2度)。
用于本發(fā)明的TiOPc(包括I—型，α—型，β—型和Y—型在內(nèi))可按美國專利5,132,197,JP—A 61—239248，62—67094，3—128973，3—200790，3—37656等介紹的方法制備。
這里，用CuKα特征X—射線的X—射線衍射分析的條件如下測量機(jī)X—射線衍射設(shè)備(RAD—A系統(tǒng)；Rigaku Denki K.K.產(chǎn))X—射線管(靶)Cu管電壓50KV管電流40mA掃描方法2θ/θ掃描掃描速度2°/分鐘取樣寬度0.020°起始角(2θ)3°中止角(2θ)40°發(fā)散狹縫0.5°散射狹縫0.5°接收狹縫0.3mm弧形單色儀使用用于本發(fā)明的偶氮顏料最好包括下式(1)—(3)表示的化合物 在以上化合物中，Ar1—Ar6獨(dú)立地代表偶合殘基，優(yōu)選以下基團(tuán)(i)—(iv)。
在以上基團(tuán)(i)—(iv)中，X1—X4各為鹵原子，最好是氟、氯或溴。
在上式(1)—(3)中，R1—R23每個優(yōu)選是取代或未取代的烷基、取代或未取代的芳基、氫原子或鹵原子。R1—R20，R22和R23更好是氫原子且R21更好是甲基。
用于本發(fā)明的偶氮顏料的特別優(yōu)選的例子可包括下式(4)表示的化合物。 上述用于本發(fā)明的偶氮顏料可通過例如美國專利5,272,028介紹的已知方法合成。
這里，“受阻酚”意指具有至少一個鄰取代基(相對于酚羥基鄰位的取代基)的酚化合物。鄰取代基的例子可包括具有連接苯環(huán)的仲或叔碳原子的基團(tuán)。其優(yōu)選的例子是α—甲基芐基(或styralyl)和叔丁基。
用于本發(fā)明的受阻酚的優(yōu)選例子可包括下式(I—1)—(I—24)表示的化合物。 (man integer of 1-5) 本文所用的受阻酚的更優(yōu)選的例子是合硫受阻酚，其中特別優(yōu)選下式(I—25)和(I—26)表示的化合物。
用于本發(fā)明的受阻酚可通過在例如“JACS”，81(1959),3608中介紹的已知方法合成。
在本發(fā)明中，電荷產(chǎn)生層設(shè)置在支撐體上，電荷遷移層設(shè)置在電荷產(chǎn)生層上。電荷產(chǎn)生層和電荷遷移層構(gòu)成了整體光敏層。
電荷產(chǎn)生層一般可通過在合適的溶劑中混合TiOPc、偶氮顏料和受阻酚連同粘合劑樹脂并通過普通涂覆法涂覆所得混合物，然后將所得混合物干燥而制備。電荷輸送層可以電荷產(chǎn)生層同樣方式制備，只是混合電荷遷移材料來替代TiOPc、偶氮顏料和受阻酚。
用于本發(fā)明的電荷遷移材料的例子可包括三芳胺化合物、腙化合物、芪化合物、吡唑啉化合物、噁唑化合物、噻唑化合物和三芳基甲烷化合物。
用于構(gòu)成光敏層各層的粘合劑樹脂的例子可包括聚酯，丙烯酸系樹脂、聚乙烯基咔唑、苯氧基樹脂、聚碳酸酯、聚乙烯醇縮丁醛、聚苯乙烯、醋酸乙烯酯樹脂，聚砜，聚丙烯酸酯和偏氯乙烯—丙烯腈共聚物。
用于形成各層的涂覆方法可包括浸涂，噴涂，旋涂，輥涂，絲棒涂和刀涂。
在本發(fā)明中，TiOPc和偶氮顏料在電荷產(chǎn)生層中總含量優(yōu)選為20—80wt.％，特別是30—70wt.％。在此情況下，TiOPc/偶氮顏料的混合比優(yōu)選為20/1—3/7，更優(yōu)選為15/1—4/6，特別是高于1/1。受阻酚在電荷產(chǎn)生層中與TiOPc和偶氮顏料的比例(即，受阻酚/(TiOPc＋偶氮顏料)優(yōu)選為1/100—1/1，特別是5/100—60/100。電荷遷移材料在電荷遷移層中的含量為20—70wt.％，特別是30—65wt.％。
電荷產(chǎn)生層的厚度優(yōu)選為0.05—1.0μm，特別是0.1—0.5μm；電荷遷移層的厚度優(yōu)選為5—50μm，特別是8—20μm。
在本發(fā)明中，光敏層中所含的電荷產(chǎn)生材料至少包括TiOPc和一種上述偶氮顏料，而且可以任意選含一種或兩種或多種其它有機(jī)顏料。
本發(fā)明光敏元件的一個特別優(yōu)選的實(shí)施方案是至少包括電荷產(chǎn)生層和電荷遷移層且在支撐體上功能性分離的光敏元件，其中電荷產(chǎn)生層含有上述I—型TiOPc，上式(4)的偶氮顏料和上式(I—25)的受阻酚。
用于本發(fā)明的支撐體最好由一種導(dǎo)電材料如鋁、鋁合金或不銹鋼構(gòu)成或由上面形成了導(dǎo)電表層的塑料、紙或金屬等材料構(gòu)成。導(dǎo)電表層最好通過真空淀積鋁、鋁合金或氧化銦—氧化錫合金或混合導(dǎo)電顆粒如炭黑或氧化錫顆粒與粘合劑混合，然后涂覆混合物而形成。導(dǎo)電表層最好具有1—30μm的厚度。用于本發(fā)明的支撐體最好制成圓筒型或薄膜(或片材)型。
在本發(fā)明中，根據(jù)需要，可以在支撐體(或?qū)щ姳韺?和光敏層之間設(shè)置一層具有隔離官能和粘合官能的內(nèi)涂層(或底漆)。內(nèi)涂層可包括酪蛋白，聚乙烯醇，硝基纖維素，乙烯—丙烯酸(或丙烯酸酯)共聚物，聚酰胺，改性聚酰胺，聚氨酯，明膠，氧化鋁。內(nèi)涂層厚優(yōu)選至多5μm，特別是0.5—3μm。內(nèi)涂層的電阻率最好是至少107ohm·cm。
在支撐體(或?qū)щ姳韺?和內(nèi)涂層之間，根據(jù)需要宜形成一層導(dǎo)電層，以覆蓋住支撐體上的缺陷和/或防止在激光用于輸入圖像數(shù)據(jù)的情況下因激光散射造成的干涉條紋。通過在粘合劑樹脂中分散導(dǎo)電粉如炭黑、金屬顆粒或金屬氧化物顆粒，然后涂覆該分散體可形成導(dǎo)電層。導(dǎo)電層的厚度優(yōu)選5—40μm，特別是10—30μm。
在光敏層上(實(shí)際上是電荷遷移層上)，可以根據(jù)需要設(shè)置一層保護(hù)層，保護(hù)層可包括樹脂，如聚乙烯醇縮丁醛、聚酯、聚碳酸酯(如聚碳酸酯Z或改性聚碳酸酯)、尼龍、聚酰亞胺、聚芳烯、聚氨酯、苯乙烯—丁二烯共聚物、苯乙烯—丙烯酸(或丙烯酸酯)共聚物、苯乙烯—丙烯腈共聚物。通過在合適的有機(jī)溶劑中溶解這種樹脂并在光敏層上涂覆溶液，然后干燥，可形成保護(hù)層。保護(hù)層厚度優(yōu)選0.05—20μm。保護(hù)層可進(jìn)一步含有導(dǎo)電顆粒，如金屬氧化物顆粒(如氧化錫顆粒)或紫外光吸收劑。
在本發(fā)明中，光敏層或保護(hù)層可另外含有其它添加劑，包括潤滑劑如無機(jī)填料、聚乙烯、聚氟乙烯或二氧化硅；分散劑；硅氧烷油；流平劑；金屬皂；和硅烷偶合劑。
圖1示出了使用本發(fā)明電子照相光敏元件的普通轉(zhuǎn)印型電子照相設(shè)備。參考圖1。光敏鼓(即，光敏元件)1以光敏鼓1內(nèi)所示的箭頭方向以規(guī)定周速相對于軸1a旋轉(zhuǎn)。光敏鼓表面借助于充電器(充電裝置)2均勻充電以獲得規(guī)定的正或負(fù)電勢。光敏鼓1利用成像曝光裝置(未示出)在光像L下成像曝光(采用狹縫曝光或激光束掃描曝光)，從而在光敏鼓1的表面上依次形成相應(yīng)于曝光圖像的靜電潛像。靜電潛像通過顯影裝置4用調(diào)色劑顯影成調(diào)色劑像。利用轉(zhuǎn)印電暈充電器，與光敏鼓1的轉(zhuǎn)速同步，將調(diào)色劑像依次轉(zhuǎn)印到記錄材料9上，后者是由供料部分(未示出)供應(yīng)到光敏鼓1和轉(zhuǎn)印電暈充電器(轉(zhuǎn)印裝置)5之間的位置。上面有調(diào)色劑像的記錄材料9由光敏鼓1分離，輸送到固像裝置(成像裝置)8，然后固像，在電子照相設(shè)備的外部作為復(fù)制品打印記錄材料9。轉(zhuǎn)印后，光敏鼓1的表面上殘存的調(diào)色劑顆粒利用清潔器(清潔裝置)6除掉，提供了清潔的表面，且光敏鼓1表面上的殘余電荷利用預(yù)曝光裝置7清除掉，準(zhǔn)備下一次循環(huán)。作為將光敏鼓1均勻充電的充電器，一般廣泛使用電暈放電器。
在圖2和3中，作為充電裝置的直接充電裝置用于給光敏鼓(元件)1直接充電。具體地說，使帶有電壓的直接充電裝置10與光敏元件1直接接觸，進(jìn)行光敏元件1的直接充電。在圖2和圖3所示設(shè)備中，光敏元件1上形成的調(diào)色劑像利用直接充電元件23轉(zhuǎn)印到記錄元件9上。具體地說，使加了電壓的的直接充電元件23直接與記錄元件9接觸，由此將光敏元件1上形成的調(diào)色劑像轉(zhuǎn)印到記錄材料9上。直接充電元件10最好是導(dǎo)電橡膠輥或刷形充電元件(如圖4所示)。在圖2和3中，各參考號意指與以上介紹(圖1)相同的元件。
在圖2所示的電子照相設(shè)備中，包括光敏元件1、直接充電元件10和顯影裝置4的至少三個元件被整體支撐，形成單個單元(電子照相設(shè)備單元)，如容器或成像工藝盒總成20，它利用設(shè)備主體內(nèi)的導(dǎo)軌裝置(如軌道)從設(shè)備主體內(nèi)可卸裝。在這種情況下，在容器20內(nèi)可設(shè)置清潔裝置6。
在圖3所示的電子照相設(shè)備中，至少包括裝在容器21內(nèi)的光敏元件1和直接充電元件10的兩個元件的第一電子照相設(shè)備單元和至少包括裝在容器22內(nèi)的顯影裝置4的第二電子照相設(shè)備單元可從設(shè)備主體卸下或安上。在這種情況下，在容器21內(nèi)可設(shè)置清潔裝置6。
在電子照相設(shè)備用作復(fù)印機(jī)或打印機(jī)的情況下，通過使用來自原件的反射光或透射光或讀取原件的數(shù)據(jù)，將數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)化成信號，然后進(jìn)行激光束掃描、LED陣列驅(qū)動或液晶光柵陣列驅(qū)動，可以得到曝光圖像L。
本發(fā)明的電子照相光敏元件不僅可以應(yīng)用到普通電子照相復(fù)印機(jī)，而且可應(yīng)用到傳真機(jī)、激光束打印機(jī)、發(fā)光二極管(LED)打印機(jī)、陰極射線管(CRT)打印機(jī)、液晶打印機(jī)和應(yīng)用電子照相術(shù)的其它領(lǐng)域，包括例如激光板制造在內(nèi)。
以下參考實(shí)施例進(jìn)一步說明本發(fā)明。在以下實(shí)施例中，“份數(shù)”和“％”均以重量計。
實(shí)施例1在鋁圓筒(外徑＝30mm，長＝254mm)的圓周面上，浸涂5份6—66—610—12四元聚酰胺共聚物(“Amilan CM8000，Toray K.K.產(chǎn))的70份醇和25份甲丁醇的混合溶劑的溶液，然后干燥，形成0.65μm厚的內(nèi)涂層。
然后，將10.5份顯示具有規(guī)定為9.0°、14.2°、23.9°和27.1°Bragg角(2θ±0.2°)的主峰的X—射線衍射圖案的酞菁氧鈦(TiOPc)晶體和1.5份式(4)的氧化偶氮顏料加到10份聚乙烯醇縮丁醛(“S—LEC EX—1”，Sekisui Kagaku Kogyo K.K.)的250份環(huán)己酮溶液中，并通過使用1mmφ玻璃珠分散在砂磨機(jī)中。往該分散液中加2份式(I—25)受阻酚，所得混合物用乙酸乙酯稀釋，由此制備用于電荷產(chǎn)生層的涂料液。將該涂料液涂覆到內(nèi)涂層上，并于80℃干燥10分鐘，形成0.25μm厚的電荷產(chǎn)生層。
將10份雙酚Z—型聚碳酸酯樹脂(粘均分子量＝20,000)和10份下式電荷遷移材料 溶于80份二氯甲烷，制備用于電荷遷移層的涂料液。通過浸涂的方法，往上述電荷產(chǎn)生層上涂覆涂料液，并于110℃干燥1小時，形成24μm厚的電荷遷移層，由此制備出本發(fā)明的電子照相光敏元件。
實(shí)施例2以實(shí)施例1相同方式制備電子照相光敏元件，只是受阻酚加入量改為5.5份。
實(shí)施例3以實(shí)施例1相同方式制備電子照相光敏元件，只是受阻酚加入量改為0.65份。
實(shí)施例4以實(shí)施例1相同方式制備電子照相光敏元件，只是受阻酚改為式(I—26)的受阻酚。
對比例1以實(shí)施例1相同方式制備電子照相光敏元件，只是不使用受阻酚。
對比例2以實(shí)施例1相同方式制備電子照相光敏元件，只是在電荷遷移層中而不是在電荷產(chǎn)生層中使用2份等同于實(shí)施例1的式(I—25)受阻酚。
對比例3以實(shí)施例1相同方式制備電子照相光敏元件，只是不使用氧化偶氮顏料。
對比例4以實(shí)施例1相同方式制備電子照相光敏元件，只是不使用氧化偶氮顏料和受阻酚，TiOPc(酞菁氧鈦)晶體的加入量改為12份。
實(shí)施例5以實(shí)施例1相同方式制備電子照相光敏元件，只是TiOPc晶體改為顯示具有規(guī)定為9.3°、10.6°、13.2°、15.1°、20.8°、23.3°、26.3°和27.1° Bragg角(2θ±0.2°)的主峰的X—射線衍射圖案的TiOPc晶體，且氧化偶氮顏料改為下式偶氮顏料 實(shí)施例6以實(shí)施例1相同方式制備電子照相光敏元件，只是TiOPc晶體改為顯示具有規(guī)定為9.5°、9.7°、11.7°、15.0°、23.5°、24.1°和和27.3°Bragg角(2θ±0.2°)的主峰的X—射線衍射圖案的TiOPc晶體，且氧化偶氮顏料改為下式偶氮顏料
實(shí)施例7以實(shí)施例1相同方式制備電子照相光敏元件，只是以下述方式在電荷遷移層上進(jìn)一步形成6μm厚保護(hù)層。
用于保護(hù)層的涂料液的制法如下在球摩機(jī)中，將30份聚四氟乙烯顆粒(“Daikin Polyflon TFE低聚合物L(fēng)—5”，Daikin KogyoK.K.產(chǎn))和1.2份含氟梳狀接枝聚合物(“ARON GF—300”，ToaGosei Kagaku Kogyo K.K.產(chǎn))分散在30份雙酚Z—型聚碳酸酯樹脂(粘均分子量＝80000)和30份等同于實(shí)施例1所用的電荷遷移材料于500份一氯苯的溶液中。
然后，該涂料液噴涂到電荷遷移層上形成6μm厚保護(hù)層。
實(shí)施例1—7和對比例1—4制得的各電子照相光敏元件分別裝在激光束打印機(jī)(“LBP—LX”，Canon K.K.產(chǎn))并在10℃和20％RH(L/L條件)環(huán)境條件下進(jìn)行連續(xù)復(fù)制(或記錄)1000張記錄紙?jiān)囼?yàn)，以通過測定初始階段亮部電勢(V1)和1000張復(fù)制試驗(yàn)后亮部電勢來評估亮部電勢的波動(稱作“L/L電勢變化)。在這種情況下，將各光敏元件充電以使暗部電勢(Vd)為—600V，然后暴露到激光(發(fā)射波長780nm)下以使亮部電勢(V1)為—170V。結(jié)果示于下表1中。
然后，將按照實(shí)施例1—7和對比例1—4新制得的各電子照相光敏元件暴露到白熒光燈〔光量(照度)150lux)〕下5分鐘。1分鐘后，將各光敏元件裝在上述激光束打印機(jī)(LBP—LX)中進(jìn)行充電和曝光工藝，然后在23℃和50％RH環(huán)境中測定亮部電勢(V1)由相應(yīng)于固定值的所需值的偏移(稱作“P.M.ΔV1)，由此評價光記憶性。結(jié)果也示于表1。
單獨(dú)地將按照實(shí)施例1—7和對比例1—4新制得的電子照相光敏元件裝在上述激光束打印機(jī)(LBP—LX)并在23℃和50％RH環(huán)境下進(jìn)行復(fù)制(或記錄)試驗(yàn)，以進(jìn)行以下成像評價。
首先，對A4大小的記錄紙連續(xù)復(fù)制2000張，其中在該記錄紙上的整個圖像區(qū)域中以縱向和橫向形成間距1cm的平行線。緊接著，在上述A4大小的記錄紙上形成半色調(diào)(灰色)圖像(圖像A)。然后，將激光束打印機(jī)(LBP—LX)靜置24小時不進(jìn)行成像(或記錄)，然后再進(jìn)行半色調(diào)圖像(圖像B)成像。
然后，以下述評價標(biāo)準(zhǔn)為基準(zhǔn)進(jìn)行圖像評價。
1.在圖像A及圖像B中無交叉的平行線。
2.在圖像A中輕微出現(xiàn)交叉的平行線，但圖像B中不出現(xiàn)。
3.在圖像A和圖像B中均出現(xiàn)交叉的平行線。
結(jié)果也示于下表1。
表1
如前所述，通過在電荷產(chǎn)生層中使用偶氮顏料和受阻酚以及TiOPc，可提供具有穩(wěn)定的電勢和良好的成像性的電子照相光敏元件，即使在重復(fù)使用之后亦如此，而且這種光敏元件具有改進(jìn)的光記憶性。
權(quán)利要求
1.一種電子照相的光敏元件，包括支撐體，設(shè)置在該支撐體上的電荷產(chǎn)生層和設(shè)置在該電荷產(chǎn)生層上的電荷遷移層，其中所述電荷產(chǎn)生層包括酞菁氧鈦，一種偶氮顏料和一種受阻酚。
2.按照權(quán)利要求1的元件，其中所述TiOPc具有的晶型特征在于基于CuKa特征X—射線的X—射線衍射圖案中至少四個主峰規(guī)定為9.0°，14.2°，23.9°和27.1° Bragg角(2θ＋0.2度)。
3.按照權(quán)利要求1的元件，其中所述TiOPc的晶型特征在于在基于CuKa特征X—射線的X—射線衍射圖案中至少兩個主峰規(guī)定為7.6°和28.6°Bragg角(2θ±0.2度)。
4.按照權(quán)利要求1的元件，其中所述TiOPc的晶型特征在于在基于CuKa特征X—射線的X—射線衍射圖案中至少兩個主峰規(guī)定為9.3°和26.3° Bragg角(2θ±0.2度)。
5.按照權(quán)利要求1的元件，其中所述TiOPc的晶型特征在于在基于CuKa特征X—射線的X—射線衍射圖案中至少兩個主峰規(guī)定為9.5°和27.3°Bragg角(2θ±0.2度)。
6.按照權(quán)利要求1的元件，其中所述偶氮顏料由下式(1)—(3)之一表示 其中Ar1—Ar6代表偶合殘基，R1—R23各代表烷基、芳基、氫原子或鹵原子。
7.按照權(quán)利要求1的元件，其中所述受阻酚含硫原子。
8.一種電子照相設(shè)備，它包括按照權(quán)利要求1的電子照相光敏元件，給電子照相光敏元件充電的充電裝置，給電子照相光敏元件進(jìn)行圖像曝光以形成靜電潛像的曝光裝置，以及用調(diào)色劑顯影靜電潛像的顯影裝置。
9.按照權(quán)利要求8的設(shè)備，其中所述充電裝置包括直接充電元件。
10.一種電子照相設(shè)備單元，包括按照權(quán)利要求1的電子照相光敏元件和一種接觸電子照相光敏元件并給它充電的直接充電元件。
11.按照權(quán)利要求10的單元，它還包括一種用于將電子照相光敏元件上形成的靜電潛像顯影的顯影裝置。
全文摘要
在支撐體上依次設(shè)置電荷產(chǎn)生層和電荷遷移層構(gòu)成的電子照相光敏元件。電荷產(chǎn)生層含有酞菁氧鈦、一種偶氮顏料和一種受阻酚。包括這種電荷產(chǎn)生層的電子照相光敏元件可用于提供設(shè)備單元和電子照相設(shè)備。它們顯示了優(yōu)良的電子照相性，如低光記憶性、重復(fù)使用中良好的電勢穩(wěn)定性以及良好的成像性。
文檔編號G03G5/047GK1117149SQ9510739
公開日1996年2月21日 申請日期1995年6月9日 優(yōu)先權(quán)日1994年6月10日
發(fā)明者前田達(dá)夫, 穴山秀樹, 川守田陽一, 大森弘之, 木村真由美 申請人:佳能株式會社