本申請(qǐng)涉及一種光刻機(jī)，特別是涉及一種實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)，可以應(yīng)用于微流控芯片模具制作。

背景技術(shù)：

光刻工藝(photoetching)是微流控芯片模具制作的重要過(guò)程，一般的光刻工藝要經(jīng)歷硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻膠、軟烘、對(duì)準(zhǔn)曝光、后烘、顯影、硬烘、刻蝕等工序，其中對(duì)準(zhǔn)曝光工序需要用光刻機(jī)，光刻機(jī)/紫外曝光機(jī)(Mask Aligner)又名掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等。

光刻機(jī)使用過(guò)程中紫外光源的強(qiáng)度會(huì)逐漸輻射衰減，會(huì)對(duì)曝光成功率有較大的影響，現(xiàn)在的光刻機(jī)一般通過(guò)外置的設(shè)備進(jìn)行測(cè)試，且設(shè)備價(jià)格昂貴，且不能及時(shí)更換光源。

光刻機(jī)操作過(guò)程包括開(kāi)機(jī)準(zhǔn)備、點(diǎn)亮汞燈、開(kāi)啟控制電源、上掩膜、對(duì)準(zhǔn)曝光、關(guān)機(jī)，在曝光時(shí)，紫外線會(huì)對(duì)人體產(chǎn)生較大的傷害，因此設(shè)置防護(hù)措施是必要的。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型的目的在于提供一種實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)，以實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光的強(qiáng)度，提高曝光成功率，并設(shè)置保護(hù)系統(tǒng)，避免紫外光對(duì)人體和環(huán)境造成傷害。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案：

本申請(qǐng)實(shí)施例公開(kāi)了一種實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)，包括紫外光遮罩體，該紫外光遮罩體具有一光刻腔體，所述光刻腔體內(nèi)上下依次設(shè)置有照明系統(tǒng)、掩膜臺(tái)系統(tǒng)和自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)，所述照明系統(tǒng)包括紫外光源和紫外輻射照計(jì)模塊，所述紫外光遮罩體上設(shè)置有操作面板，所述紫外輻射照計(jì)模塊連接于所述照明系統(tǒng)，該操作面板包括紫外線強(qiáng)度顯示窗口，所述紫外光遮罩體開(kāi)設(shè)有樣品取置窗口，該取置窗口遮蓋有紫外光隔離門(mén)。

優(yōu)選的，在上述的實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)中，所述紫外光隔離門(mén)的一端轉(zhuǎn)動(dòng)連接于所述紫外光遮罩體。

優(yōu)選的，在上述的實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)中，所述紫外輻射照計(jì)模塊通過(guò)掛鉤裝置設(shè)置于紫外光源下方。

優(yōu)選的，在上述的實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)中，所述紫外輻射照計(jì)模塊的探頭傳感器窗口指向所述紫外光源。

優(yōu)選的，在上述的實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)中，所述紫外輻射照計(jì)模塊測(cè)量光譜響應(yīng)滿足：中心點(diǎn)254nm，帶寬230nm～280nm，量程0～8000uW/cm²，測(cè)量精度：±10％。

優(yōu)選的，在上述的實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)中，所述操作面板輸入方式采用按鍵或觸摸屏。

優(yōu)選的，在上述的實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)中，所述操作面板至少包括曝光、上升、曝光時(shí)間的參數(shù)設(shè)置模塊。

優(yōu)選的，在上述的實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)中，所述紫外光遮罩體設(shè)置于一減震工作臺(tái)上，該減震工作臺(tái)的底部設(shè)置有多個(gè)彈性腳墊。

優(yōu)選的，在上述的實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)中，所述減震工作臺(tái)上設(shè)置有總電源開(kāi)關(guān)和汞燈光源開(kāi)關(guān)。

優(yōu)選的，在上述的實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)中，所述掩膜臺(tái)系統(tǒng)連接真空泵。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)在于：本新型在光源附近設(shè)置紫外輻射照計(jì)模塊，用于實(shí)時(shí)測(cè)量和查看紫外線的強(qiáng)度，比現(xiàn)有的光刻機(jī)增加了光強(qiáng)參數(shù)，具有及時(shí)更換紫外燈，增加了曝光的成功率的優(yōu)勢(shì)，另外，本新型的光刻機(jī)設(shè)置了保護(hù)系統(tǒng)，避免了曝光過(guò)程中紫外光對(duì)人體及環(huán)境產(chǎn)生傷害，具有人性化、綠色的優(yōu)點(diǎn)。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本申請(qǐng)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本申請(qǐng)中記載的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1所示為本實(shí)用新型具體實(shí)施例中光刻機(jī)的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2所示為本實(shí)用新型具體實(shí)施例中操作界面示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行詳細(xì)的描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。

結(jié)合圖1和圖2所示，實(shí)時(shí)測(cè)量紫外光強(qiáng)度的硅片光刻機(jī)，包括紫外光遮罩體1，該紫外光遮罩體1具有一光刻腔體2，光刻腔體2內(nèi)上下依次設(shè)置有照明系統(tǒng)、掩膜臺(tái)系統(tǒng)3和自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)4，照明系統(tǒng)包括紫外光源5和紫外輻射照計(jì)模塊6，紫外光遮罩體1上設(shè)置有操作面板7，紫外輻射照計(jì)模塊6連接于照明系統(tǒng)，該操作面板7包括紫外線強(qiáng)度顯示窗口，紫外光遮罩體1開(kāi)設(shè)有樣品取置窗口，該取置窗口遮蓋有紫外光隔離門(mén)8。

進(jìn)一步地，紫外光隔離門(mén)8的一端轉(zhuǎn)動(dòng)連接于紫外光遮罩體1。

該技術(shù)方案中，在紫外光源5(UV)附近設(shè)置紫外輻射照計(jì)模塊6，用于實(shí)時(shí)測(cè)量和查看紫外線的強(qiáng)度并通過(guò)控制面板顯示，比現(xiàn)有的光刻機(jī)增加了光強(qiáng)參數(shù)，具有及時(shí)更換紫外燈，增加了曝光的成功率的優(yōu)勢(shì)，另外，光刻機(jī)設(shè)置了紫外光遮罩體1進(jìn)行保護(hù)，避免了曝光過(guò)程中紫外光對(duì)人體及環(huán)境產(chǎn)生傷害，具有人性化、綠色的優(yōu)點(diǎn)。

在一些實(shí)施例中，保護(hù)系統(tǒng)的隔離門(mén)采用不透明材料，厚度大于1cm。

進(jìn)一步地，紫外輻射照計(jì)模塊6通過(guò)掛鉤裝置設(shè)置于紫外光源5下方。

該技術(shù)方案中，掛鉤裝置可以包括掛鉤底座、螺釘，紫外輻射照計(jì)模塊6通過(guò)掛鉤裝置連接于紫外光源5上。

進(jìn)一步地，紫外輻射照計(jì)模塊6的探頭傳感器窗口指向紫外光源5。

進(jìn)一步地，紫外輻射照計(jì)模塊6測(cè)量光譜響應(yīng)滿足：中心點(diǎn)254nm，帶寬230nm～280nm，量程0～8000uW/cm²，測(cè)量精度：±10％。

該技術(shù)方案中，紫外輻射照計(jì)模塊6用于測(cè)量單位面積的紫外線輻射能功率，即紫外線強(qiáng)度；紫外輻射照計(jì)模塊6帶補(bǔ)正濾光鏡的專用UV探頭，消除UVA和UVB的影響。

在一些實(shí)施例中，紫外輻射模塊可實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)值的數(shù)據(jù)記憶和查看。

優(yōu)選的，操作面板7輸入方式采用按鍵或觸摸屏。

進(jìn)一步地，操作面板7至少包括曝光、上升、曝光時(shí)間的參數(shù)設(shè)置模塊。

進(jìn)一步地，紫外光遮罩體1設(shè)置于一減震工作臺(tái)9上，該減震工作臺(tái)的底部設(shè)置有多個(gè)彈性腳墊，優(yōu)選的，減震工作臺(tái)的四個(gè)支腳分別設(shè)置有一個(gè)腳墊。

該技術(shù)方案中，通過(guò)減震工作臺(tái)避免操作過(guò)程中真空泵震動(dòng)對(duì)硅片曝光的影響。

進(jìn)一步地，減震工作臺(tái)9上設(shè)置有總電源開(kāi)關(guān)10和汞燈光源開(kāi)關(guān)11，汞燈發(fā)射全波長(zhǎng)的光，是整個(gè)系統(tǒng)的光源。

進(jìn)一步地，掩膜臺(tái)系統(tǒng)3連接真空泵。用于硅片與掩膜的貼合。

光刻機(jī)操作包括以下過(guò)程：

(1)、打開(kāi)光刻機(jī)儀器總電源開(kāi)關(guān)10，照明系統(tǒng)開(kāi)始工作，在硅片曝光前，打開(kāi)紫外輻射照計(jì)模塊6，測(cè)試紫外光的強(qiáng)度，示數(shù)顯示在操作面板上，若強(qiáng)度不滿足需求，需進(jìn)行更換，若符合要求，關(guān)閉紫外燈，進(jìn)行后續(xù)操作；

(2)、將掩膜、硅片放置在掩膜臺(tái)系統(tǒng)中，經(jīng)過(guò)自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)掩膜與硅片的對(duì)準(zhǔn)；

(3)、關(guān)閉紫外光隔離門(mén)8，設(shè)置操作界面參數(shù)，包括曝光時(shí)間、上升等參數(shù)，設(shè)置完成后，點(diǎn)擊曝光，完成光刻過(guò)程；

(4)、小心取出硅片與掩膜，關(guān)閉光刻機(jī)電源。

需要說(shuō)明的是，在本文中，諸如第一和第二等之類的關(guān)系術(shù)語(yǔ)僅僅用來(lái)將一個(gè)實(shí)體或者操作與另一個(gè)實(shí)體或操作區(qū)分開(kāi)來(lái)，而不一定要求或者暗示這些實(shí)體或操作之間存在任何這種實(shí)際的關(guān)系或者順序。而且，術(shù)語(yǔ)“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備不僅包括那些要素，而且還包括沒(méi)有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備所固有的要素。在沒(méi)有更多限制的情況下，由語(yǔ)句“包括一個(gè)……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的過(guò)程、方法、物品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。

以上所述僅是本申請(qǐng)的具體實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對(duì)于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō)，在不脫離本申請(qǐng)?jiān)淼那疤嵯拢€可以做出若干改進(jìn)和潤(rùn)飾，這些改進(jìn)和潤(rùn)飾也應(yīng)視為本申請(qǐng)的保護(hù)范圍。