本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種垂直取向(Vertical Alignment，VA)模式顯示面板及顯示裝置。

背景技術(shù)：

彩膜基板或陣列基板上具有隔墊物，該隔墊物包括第一隔墊物和第二隔墊物?，F(xiàn)有技術(shù)中，第一隔墊物用于維持彩膜基板和陣列基板之間的間隙；第二隔墊物與第一隔墊物之間具有段差，用于在基板受到擠壓時(shí)支撐兩個(gè)基板以加快基板的恢復(fù)。在制備這樣的不同高度的第一隔墊物和第二隔墊物時(shí)，目前有兩種方案：一種是，在形成隔墊物的過(guò)程中，使用半色調(diào)或灰色調(diào)掩膜版進(jìn)行曝光，通過(guò)嚴(yán)格控制形成不同隔墊物曝光時(shí)所需的光強(qiáng)，在顯影后實(shí)現(xiàn)高度差設(shè)計(jì)，并且掩膜版較昂貴；二是，使用普通的掩膜版進(jìn)行曝光，需要將兩種不同高度的隔墊物設(shè)計(jì)成不同的尺寸(底部橫截面的大小以及高度)，第二隔墊物的尺寸較小，需要嚴(yán)格控制；可見，基于目前的第一隔墊物和第二隔墊物的結(jié)構(gòu)，制作工藝均較為復(fù)雜。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本實(shí)用新型實(shí)施例的目的是提供一種工藝結(jié)構(gòu)較為簡(jiǎn)便且可實(shí)現(xiàn)不同功能的隔墊物的VA模式顯示面板及顯示裝置。

本實(shí)用新型實(shí)施例的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的：

一種VA模式顯示面板，包括相對(duì)設(shè)置的陣列基板和對(duì)向基板，設(shè)置在所述陣列基板和對(duì)向基板之間非像素區(qū)域的多個(gè)第一隔墊物和多個(gè)第二隔墊物；其中：

所述第一隔墊物與所述第二隔墊物的高度相同；

所述陣列基板和對(duì)向基板至少其中一個(gè)基板上設(shè)置有第一凹陷區(qū)域，所述第一凹陷區(qū)域位于所述第二隔墊物在該基板的正投影區(qū)域。

較佳地，所述VA模式顯示面板還包括設(shè)置于所述陣列基板上的第一膜層，和設(shè)置于所述對(duì)向基板上的第二膜層；

所述第一凹陷區(qū)域設(shè)置于所述第一膜層和/或第二膜層上。

較佳地，所述VA模式顯示面板還包括填充于所述陣列基板和所述對(duì)向基板之間的光電介質(zhì)層；

其中，所述第一膜層和所述第二膜層分別在像素區(qū)域設(shè)置有使得光電介質(zhì)層形成預(yù)傾角的第二凹陷區(qū)域。

較佳地，所述第一膜層為公共電極層或者樹脂層。

較佳地，所述第二膜層為像素電極層或者絕緣層。

較佳地，所述第一凹陷區(qū)域和第二凹陷區(qū)域?yàn)殓U空區(qū)域。

較佳地，所述第一凹陷區(qū)域設(shè)置于所述第二隔墊物的頂端一側(cè)的基板上；所述第一凹陷區(qū)域在所設(shè)置的基板上的正投影區(qū)域的形狀與所述第二隔墊物的頂端在該基板的正投影區(qū)域的形狀一致，所述第一凹陷區(qū)域在所設(shè)置的基板上的正投影區(qū)域的面積不大于所述第二隔墊物的頂端在該基板的正投影區(qū)域的面積。

較佳地，各所述第一凹陷區(qū)域在所述VA模式顯示面板的顯示區(qū)域均勻分布。

較佳地，所述陣列基板還包括位于公共電極引線；至少部分所述第一隔墊物與第二隔墊物設(shè)置于所述公共電極引線對(duì)應(yīng)的區(qū)域內(nèi)。

一種顯示裝置，包括如以上任一項(xiàng)所述的VA模式顯示面板。

本實(shí)用新型實(shí)施例的有益效果如下：

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的VA模式顯示面板及顯示裝置中，在非像素區(qū)域設(shè)置高度相同的第一隔墊物和第二隔墊物，其中，第一隔墊物起到支撐兩個(gè)基板間隙的作用，在陣列基板和對(duì)向基板至少其中一個(gè)基板上設(shè)置有凹陷區(qū)域，該凹陷區(qū)域位于第二隔墊物在基板的正投影區(qū)域，這樣，該凹陷可以使得第二隔墊物懸空，可以在兩個(gè)基板受到擠壓時(shí)支撐兩個(gè)基板以加快基板的恢復(fù)。該結(jié)構(gòu)中，由于第一隔墊物和第二隔墊物高度相同，因而可以使得制備工藝簡(jiǎn)單。

附圖說(shuō)明

圖1a為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的VA模式顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖之一；

圖1b為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的VA模式顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖之二；

圖1c為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的VA模式顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖之三；

圖1d為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的VA模式顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖之四；

圖1e為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的VA模式顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖之五；

圖1f為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的VA模式顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖之六；

圖1g為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的VA模式顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖之七；

圖1h為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的VA模式顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖之八；

圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的VA模式顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖之九；

圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的VA模式顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖之十。

具體實(shí)施方式

為了解決以上技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型實(shí)施例提供一種VA模式顯示面板及顯示裝置。該VA模式顯示面板，包括相對(duì)設(shè)置的陣列基板和對(duì)向基板，設(shè)置在陣列基板和對(duì)向基板之間非像素區(qū)域的多個(gè)第一隔墊物和多個(gè)第二隔墊物；其中：

第一隔墊物與第二隔墊物的高度相同；

陣列基板和對(duì)向基板至少其中一個(gè)基板上設(shè)置有第一凹陷區(qū)域，第一凹陷區(qū)域位于第二隔墊物在該基板的正投影區(qū)域。

需要說(shuō)明的是，本實(shí)用新型實(shí)施例中，VA模式顯示面板包括多條交叉設(shè)置的遮光條，由該多條交叉設(shè)置的遮光條限定出多個(gè)像素區(qū)域，相應(yīng)的，遮光條區(qū)域?yàn)榉窍袼貐^(qū)域。其中，遮光條可以包括陣列基板的金屬線和/或?qū)ο蚧宓暮诰仃?，等等?/p>

其中，第一隔墊物和第二隔墊物的高度是指，隔墊物的頂端到底端之間的高度。

本實(shí)用新型實(shí)施例中，在非像素區(qū)域設(shè)置高度相同的第一隔墊物和第二隔墊物，其中，第一隔墊物起到支撐兩個(gè)基板間隙的作用，在陣列基板和對(duì)向基板至少其中一個(gè)基板上設(shè)置有凹陷區(qū)域，該凹陷區(qū)域位于第二隔墊物在基板的正投影區(qū)域，這樣，該凹陷可以使得第二隔墊物懸空，可以在兩個(gè)基板受到擠壓時(shí)支撐兩個(gè)基板以加快基板的恢復(fù)。該結(jié)構(gòu)中，由于第一隔墊物和第二隔墊物高度相同，因而可以使得制備工藝簡(jiǎn)單。

具體實(shí)施時(shí)，較佳地，VA模式顯示面板還包括設(shè)置于陣列基板上的第一膜層，和設(shè)置于對(duì)向基板上的第二膜層；

第一凹陷區(qū)域設(shè)置于第一膜層和/或第二膜層上。

需要說(shuō)明的是，第一膜層和第二膜層既可以是為了設(shè)置第一凹陷區(qū)域而單獨(dú)設(shè)置的膜層，也可以是VA模式顯示面板中原有的膜層，這樣，就無(wú)需額外增加膜層，也就不會(huì)增加VA模式顯示面板的厚度。

下面以一種具體的VA模式顯示面板為例，結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型提供的方案進(jìn)行更加詳細(xì)的說(shuō)明。除非另有說(shuō)明，附圖中各膜層的形狀和厚度不反映真實(shí)比例。

如圖1a～圖1h所示，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種VA模式顯示面板中，包括相對(duì)設(shè)置的陣列基板001和對(duì)向基板002，設(shè)置在陣列基板001和對(duì)向基板002之間非像素區(qū)域003的多個(gè)第一隔墊物004和多個(gè)第二隔墊物005；其中：第一隔墊物004與第二隔墊物005的高度相同；第一隔墊物004分別與陣列基板001和對(duì)向基板002接觸；

圖1a中，第二隔墊物005與陣列基板001接觸，對(duì)向基板002上設(shè)置有第一凹陷區(qū)域006，該第一凹陷區(qū)域006位于第二隔墊物005在該對(duì)向基板002的正投影區(qū)域；

圖1b中，第二隔墊物005與陣列基板001接觸，陣列基板001上設(shè)置有第一凹陷區(qū)域006，該第一凹陷區(qū)域006位于第二隔墊物005在該陣列基板001的正投影區(qū)域；

圖1c中，第二隔墊物005與對(duì)向基板002接觸，陣列基板001上設(shè)置有第一凹陷區(qū)域006，該第一凹陷區(qū)域006位于第二隔墊物005在該陣列基板001的正投影區(qū)域；

圖1d中，第二隔墊物005與對(duì)向基板002接觸，對(duì)向基板002上設(shè)置有第一凹陷區(qū)域006，該第一凹陷區(qū)域006位于第二隔墊物005在該對(duì)向基板002的正投影區(qū)域；

圖1e中，第二隔墊物005與陣列基板001和對(duì)向基板002接觸，對(duì)向基板002上設(shè)置有第一凹陷區(qū)域006，該第一凹陷區(qū)域006位于第二隔墊物005在該對(duì)向基板002的正投影區(qū)域；

圖1f中，第二隔墊物005與陣列基板001和對(duì)向基板002接觸，陣列基板001上設(shè)置有第一凹陷區(qū)域006，該第一凹陷區(qū)域006位于第二隔墊物005在該對(duì)向基板002的正投影區(qū)域。

圖1g中，第二隔墊物005與對(duì)向基板002接觸，陣列基板001和對(duì)向基板002上均設(shè)置有第一凹陷區(qū)域006，該第一凹陷區(qū)域006位于第二隔墊物005在陣列基板001的正投影區(qū)域，或者位于第二隔墊物005在對(duì)向基板002的正投影區(qū)域。

圖1h中，第二隔墊物005與陣列基板001接觸，陣列基板001和對(duì)向基板002上均設(shè)置有第一凹陷區(qū)域006，該第一凹陷區(qū)域006位于第二隔墊物005在陣列基板001的正投影區(qū)域，或者位于第二隔墊物005在對(duì)向基板002的正投影區(qū)域。

以上僅是舉例說(shuō)明了幾種可能的VA模式顯示面板的結(jié)構(gòu)，對(duì)于其它可能的結(jié)構(gòu)，此處不再一一列舉。

具體實(shí)施時(shí)，較佳地，第一凹陷區(qū)域設(shè)置于第二隔墊物的頂端一側(cè)的基板上；這樣，設(shè)置的凹陷區(qū)域同時(shí)可以起到限位卡合的作用，可以參見圖1a和圖1c所示的VA模式顯示面板的結(jié)構(gòu)。

具體實(shí)施時(shí)，較佳地，第一凹陷區(qū)域設(shè)置于第二隔墊物的頂端一側(cè)的基板上；第一凹陷區(qū)域在所設(shè)置的基板上的正投影區(qū)域的形狀與第二隔墊物的頂端在該基板的正投影區(qū)域的形狀一致，第一凹陷區(qū)域在所設(shè)置的基板上的正投影區(qū)域的面積不大于第二隔墊物的頂端在該基板的正投影區(qū)域的面積。這樣，當(dāng)兩個(gè)基板受到擠壓時(shí)，第二隔墊物的頂端部分會(huì)被擠壓進(jìn)入第一凹陷區(qū)域，當(dāng)從擠壓狀態(tài)恢復(fù)時(shí)，便于借助凹陷周邊的壓力恢復(fù)。具體可以參見圖1e和圖1f所示的VA模式顯示面板的結(jié)構(gòu)。其中，第二隔墊物的頂端截面的尺寸小于底端截面的尺寸。

具體實(shí)施時(shí)，較佳地，VA模式顯示面板還包括填充于陣列基板和對(duì)向基板之間的光電介質(zhì)層。其中，光電介質(zhì)層可以但不限于為垂直取向的液晶層。一般，為了使得光電介質(zhì)層的分子有一個(gè)預(yù)傾角，可以在對(duì)向基板和陣列基板上的膜層中的像素區(qū)域設(shè)置凹陷區(qū)域，由于光電介質(zhì)層的分子會(huì)垂直于凹陷區(qū)域的傾斜表面，因而，會(huì)形成一個(gè)預(yù)傾角。實(shí)施中，設(shè)置的用于形成預(yù)傾角的凹陷區(qū)域的膜層，可以是單獨(dú)設(shè)置的膜層，也可以是顯示面板中原有的膜層。為了簡(jiǎn)化膜層結(jié)構(gòu)，本實(shí)用新型實(shí)施例中的第一凹陷區(qū)域，可以設(shè)置于用于形成預(yù)傾角的凹陷區(qū)域的膜層中，這樣，第一凹陷區(qū)域和第二凹陷區(qū)域可以一起制備，簡(jiǎn)化了工藝。因此，較佳地，上述第一膜層和第二膜層分別在像素區(qū)域設(shè)置有使得光電介質(zhì)層形成預(yù)傾角的第二凹陷區(qū)域。較佳地，第一膜層上設(shè)置的第二凹陷區(qū)域與第二膜層上設(shè)置的第二凹陷區(qū)域的形貌和位置不完全相同。

需要說(shuō)明的是，本實(shí)用新型實(shí)施例中，在第一凹陷區(qū)域和第二凹陷區(qū)域以外的區(qū)域，相對(duì)的為凸起區(qū)域。

較佳地，陣列基板還包括位于非像素區(qū)域的金屬線；至少部分第一隔墊物與第二隔墊物設(shè)置于陣列基板上金屬線對(duì)應(yīng)的區(qū)域內(nèi)。本實(shí)施例中，將第一隔墊物和第二隔墊物設(shè)置于平坦的金屬線的位置，更有利于隔墊物的穩(wěn)定。其中，金屬線可以為公共電機(jī)引線，這樣，至少部分第一隔墊物和第二隔墊物設(shè)置于公共電極引線對(duì)應(yīng)的區(qū)域內(nèi)，不僅比設(shè)置在薄膜晶體管區(qū)域穩(wěn)定，并且由于公共電極引線設(shè)置可以比較寬，更有利于隔墊物和凹陷區(qū)域設(shè)置。

以一種VA模式的液晶顯示面板為例，對(duì)以上方案進(jìn)行舉例說(shuō)明：

如圖2所示的液晶顯示面板，包括相對(duì)而置的陣列基板001和對(duì)向基板002，填充于陣列基板001和對(duì)向基板002之間的液晶層(圖中未示出)，設(shè)置于陣列基板001上的第一膜層007，設(shè)置于對(duì)向基板002上的第二膜層008，設(shè)置于對(duì)向基板002與第二膜層008之間像素區(qū)域的色阻層009和非像素區(qū)域的黑矩陣0010，以及設(shè)置于對(duì)向基板002上非像素區(qū)域003的多個(gè)第一隔墊物004和多個(gè)第二隔墊物005；其中：第一隔墊物004與第二隔墊物005的高度相同；

其中，第一隔墊物004分別與陣列基板001和對(duì)向基板002接觸；

第二隔墊物005僅與對(duì)向基板002接觸，陣列基板001上設(shè)置有第一凹陷區(qū)域006，該第一凹陷區(qū)域006位于第二隔墊物005在該基板的正投影區(qū)域，具體的，該第一凹陷區(qū)域006設(shè)置于第一膜層007中，該第一膜層007中還在像素區(qū)域設(shè)置有使得液晶層的分子形成預(yù)傾角的第二凹陷區(qū)域0011。同樣的，在第二膜層008中也設(shè)置有使得液晶層的分子形成預(yù)傾角的第二凹陷區(qū)域0011。

其中，對(duì)向基板002為彩膜基板。

基于圖2所示的VA模式的液晶顯示面板，如果將第一隔墊物004和第二隔墊物005設(shè)置于陣列基板007上，如圖3所示，對(duì)向基板002上設(shè)置有第一凹陷區(qū)域006，該第一凹陷區(qū)域006位于第二隔墊物005在該基板的正投影區(qū)域。

一般，為了形成液晶層的分子的預(yù)傾角，可以分別在對(duì)向基板上利用樹脂材料形成樹脂層，在樹脂層中形成第二凹陷區(qū)域，也可以利用原有的公共電極層，在公共電極層中形成第二凹陷區(qū)域。在陣列基板上，可以利用絕緣層，在絕緣層中形成第二凹陷區(qū)域，也可以用原有的像素電極層的圖形形成第二凹陷區(qū)域?；诖?，較佳地，第一膜層為公共電極層或者樹脂層。較佳地，第二膜層為像素電極層或者絕緣層。

其中，公共電極層和像素電極層的材料可以但不限于是氧化銦錫(Indium Tin Oxide，ITO)。

具體實(shí)施時(shí)，如圖2和圖3所示，較佳地，第一凹陷區(qū)域和第二凹陷區(qū)域?yàn)殓U空區(qū)域。

具體實(shí)施時(shí)，較佳地，各第一凹陷區(qū)域在VA模式顯示面板的顯示區(qū)域均勻分布。這樣，可以使得各第二隔墊物均勻分布，從而使得各個(gè)第二隔墊物受力均勻。

基于同樣的構(gòu)思，本實(shí)用新型實(shí)施例還提供一種顯示裝置，包括如以上任意實(shí)施例所述的VA模式顯示面板。

本實(shí)用新型實(shí)施例提供的VA模式顯示面板及顯示裝置中，在非像素區(qū)域設(shè)置高度相同的第一隔墊物和第二隔墊物，其中，第一隔墊物起到支撐兩個(gè)基板間隙的作用，在陣列基板和對(duì)向基板至少其中一個(gè)基板上設(shè)置有凹陷區(qū)域，該凹陷區(qū)域位于第二隔墊物在基板的正投影區(qū)域，這樣，該凹陷可以使得第二隔墊物懸空，可以在兩個(gè)基板受到擠壓時(shí)支撐兩個(gè)基板以加快基板的恢復(fù)。該結(jié)構(gòu)中，由于第一隔墊物和第二隔墊物高度相同，因而可以使得制備工藝簡(jiǎn)單。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本實(shí)用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實(shí)用新型的這些修改和變型屬于本實(shí)用新型權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實(shí)用新型也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。