本發(fā)明涉及顯示器制備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種彩膜基板及其制備方法、顯示面板。

背景技術(shù)：

目前為了提高顯示面板的透過率，在傳統(tǒng)的紅、綠、藍(lán)子像素組成的像素單元的基礎(chǔ)上，增加了黃色的子像素，形成紅、綠、藍(lán)、黃四色組成的像素單元，這樣的設(shè)計(jì)無須多耗費(fèi)電力，就能使得顯示面板實(shí)現(xiàn)更廣闊的色域，和傳統(tǒng)紅、綠、藍(lán)子像素組成的像素單元相比，紅、綠、藍(lán)、黃四色子像素組成的像素單元的密度會(huì)提升30％左右，畫面像素更高，感受更細(xì)膩，可以拉伸藍(lán)色的表現(xiàn)色域，提升藍(lán)色的表現(xiàn)力，增加了黃色，可以提升黃色的表現(xiàn)力，從而提高色域。

但是，紅、綠、藍(lán)、黃四色子像素組成的像素單元帶來以上優(yōu)點(diǎn)的同時(shí)，也增加了彩膜基板的制備時(shí)間，目前的彩膜基板在制備時(shí)，需要依次制備黑色矩陣層、黃色子像素單元、紅色子像素單元、綠色子像單元以及藍(lán)色子像素單元，各個(gè)工藝之間需要進(jìn)行光刻膠輸送管路的清洗以及不同顏色的光刻膠的更換，時(shí)間較長，生產(chǎn)效率較低。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供了一種彩膜基板及其制備方法和顯示面板，用以提高彩膜基板的制備效率，進(jìn)而提高顯示面板的制備效率。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供以下技術(shù)方案：

本發(fā)明提供了一種彩膜基板的制備方法，包括：

提供一襯底基板；

在所述襯底基板上形成黑色矩陣層和多個(gè)第一子像素單元，其中所述黑色矩陣層和多個(gè)所述第一子像素單元采用相同材料的光刻膠制備而成，所述光刻膠的材料包括不可逆溫變顏料，所述光刻膠受熱后變成黑色，所述光刻膠未變色前的顏色與所述第一子像素單元的顏色相同。

本發(fā)明提供了一種彩膜基板的制備方法，通過將黑色矩陣層和一子像素單元采用相同材料的光刻膠形成，可以節(jié)省一次清洗輸送管路和切換光刻膠的步驟，通過對光刻膠加熱可以使得光刻膠改變顏色，即可以作為子像素單元，又可以作為黑色矩陣層。

故，本發(fā)明提供的彩膜基板的制備方法，具有較高的制備效率。

在一些可選的實(shí)施方式中，所述在所述襯底基板上形成黑色矩陣層和多個(gè)所述第一子像素單元，具體包括：

在所述襯底基板上設(shè)置所述光刻膠以形成光刻膠層；

采用第一掩模板對所述光刻膠層進(jìn)行曝光、顯影形成圖案層，所述圖案層包含多個(gè)陣列分布的開口區(qū)域以及用于形成多個(gè)所述第一子像素單元的條狀保留區(qū)域；

對所述圖案層除設(shè)定區(qū)域以外的區(qū)域進(jìn)行加熱，形成黑色矩陣層以及多個(gè)間隔分布的所述第一子像素單元，所述設(shè)定區(qū)域位于所述條狀保留區(qū)域內(nèi)且與形成的多個(gè)所述第一子像素單元所在區(qū)域重合。此步驟可以將黑色矩陣層和第一子像素單元同步完成。

在一些可選的實(shí)施方式中，所述第一掩模板包括：遮光區(qū)域和用于形成多個(gè)所述開口區(qū)域的透光區(qū)域。采用該掩模板形成的圖案層包括多個(gè)陣列分布的開口區(qū)域，還包括條狀保留區(qū)域。

在一些可選的實(shí)施方式中，所述對所述圖案層除設(shè)定區(qū)域以外的區(qū)域進(jìn)行加熱具體包括：

采用加熱層對所述圖案層進(jìn)行加熱，所述加熱層與所述設(shè)定區(qū)域?qū)?yīng)的部分為絕熱區(qū)。該絕熱區(qū)可以為缺口，也可以設(shè)置有隔熱層，這樣不被加熱層加熱的部分任然保持原來的顏色，被加熱層加熱的部分變?yōu)楹谏梢孕纬珊谏仃噷印?/p>

在一些可選的實(shí)施方式中，所述在所述襯底基板上形成黑色矩陣層和多個(gè)所述第一子像素單元，具體包括：

在所述襯底基板設(shè)置所述光刻膠以形成第一光刻膠層；

采用第二掩膜板對所述第一光刻膠層進(jìn)行曝光、顯影形成與黑色矩陣層形狀相同的圖案層；

對所述圖案層進(jìn)行加熱形成黑色矩陣層；

在所述黑色矩陣層上設(shè)置所述光刻膠以形成第二光刻膠層，采用第三掩模板對所述第二光刻膠層進(jìn)行曝光、顯影形成多個(gè)所述第一子像素單元。此步驟可以將黑色矩陣層和第一子像素單元分步完成，但不需要更換膠和清洗管路。

在一些可選的實(shí)施方式中，所述第一子像素單元的顏色為黃色，所述彩膜基板的制備方法還包括：形成多個(gè)第二子像素單元、多個(gè)第三子像素單元以及多個(gè)第四子像素單元。

在一些可選的實(shí)施方式中，所述光刻膠的材料包括：

20～50質(zhì)量份的樹脂；

10～30質(zhì)量份的活性稀釋劑；

20～40質(zhì)量份的溶劑；

10～25質(zhì)量份的不可逆溫變顏料，其中：所述不可逆溫變顏料為：

(nh4)3po4·12moo3；

1～5質(zhì)量份的光引發(fā)劑；

2～8質(zhì)量份的助劑。此種材料形成的光刻膠可以加熱后由黃色變?yōu)楹谏?/p>

在一些可選的實(shí)施方式中，所述光刻膠的透過率為20.1％～40.2％。

本發(fā)明還提供了一種彩膜基板，包括：襯底基板、位于所述襯底基板上的黑色矩陣層以及填充于所述黑色矩陣層的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層，所述彩色濾光層包括多種顏色的子像素單元；所述黑色矩陣層和任意一種顏色的子像素單元的形成材料相同，所述形成材料包括不可逆溫變顏料，所述形成材料受熱后變成黑色。

本發(fā)明還提供了一種顯示面板，包括上述所述的彩膜基板。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的第一種制備方法流程圖；

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的第二種制備方法流程圖；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的采用第一掩模板對光刻膠層進(jìn)行曝光、顯影形成的圖案層；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的第一子像素單元和黑色矩陣層形成后的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的第一掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供的加熱層的第一種結(jié)構(gòu)示意圖；

圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的第三種制備方法流程圖；

圖8為本發(fā)明實(shí)施例提供的采用第二掩模板對光刻膠層進(jìn)行曝光、顯影形成的圖案層；

圖9為圖8所示的圖案層加熱后的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖10為本發(fā)明實(shí)施例提供的加熱層的第二種結(jié)構(gòu)示意圖；

圖11為本發(fā)明實(shí)施例提供的第三掩模板的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)記：

1-開口區(qū)域2-條狀保留區(qū)域

3-第一子像素單元4-黑色矩陣層

51-遮光區(qū)域52-透光區(qū)域

6-絕熱區(qū)

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明專利保護(hù)的范圍。

如圖1所示，本發(fā)明提供了一種彩膜基板的制備方法，包括：

步驟s101：提供一襯底基板；

步驟s102：在襯底基板上形成黑色矩陣層4和多個(gè)第一子像素單元3，其中黑色矩陣層4和多個(gè)第一子像素單元3采用相同材料的光刻膠制備而成，光刻膠的材料包括不可逆溫變顏料，光刻膠受熱后變成黑色，光刻膠未變色前的顏色與第一子像素單元3的顏色相同。

本發(fā)明提供了一種彩膜基板的制備方法，通過將黑色矩陣層4和一子像素單元采用相同材料的光刻膠形成，可以節(jié)省一次清洗輸送管路和切換光刻膠的步驟，通過對光刻膠加熱可以使得光刻膠改變顏色，即可以作為子像素單元，又可以作為黑色矩陣層4。

故，本發(fā)明提供的彩膜基板的制備方法，具有較高的制備效率。

上述第一子像素單元3和黑色矩陣層4的具體制備過程有多種：

一種可選的實(shí)施方式中，如圖2所示，本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的制備方法包括：步驟s201：提供一襯底基板，與圖1所示步驟相比，步驟s102中：在襯底基板上形成黑色矩陣層4和多個(gè)第一子像素單元3，具體包括：

步驟s202：在襯底基板上設(shè)置光刻膠形成光刻膠層；

步驟s203：采用第一掩模板對光刻膠層進(jìn)行曝光、顯影形成圖案層，圖案層包含多個(gè)陣列分布的開口區(qū)域1以及用于形成多個(gè)第一子像素單元3的條狀保留區(qū)2域；形成的圖案層的具體形狀如圖3所示。

步驟s204：對圖案層除設(shè)定區(qū)域21以外的區(qū)域進(jìn)行加熱，形成黑色矩陣層4以及多個(gè)間隔分布的第一子像素單元3，設(shè)定區(qū)域21位于條狀保留區(qū)2域內(nèi)且與形成的多個(gè)第一子像素單元3所在區(qū)域重合。此步驟完成后形成的結(jié)構(gòu)如圖4所示。

通常在提供一襯底基板后，一般會(huì)在襯底基板上形成電極層，然后再依次完成步驟s202、步驟s203、步驟s204，步驟s204完成后，可以在其它開口區(qū)域1內(nèi)形成其它顏色的子像素單元，然后在制備配向?qū)印⒏魤|物等。

為了形成如圖3所示的圖案層，如圖5所示，第一掩模板包括：遮光區(qū)域51和用于形成多個(gè)開口區(qū)域1的透光區(qū)域52。采用該掩模板形成的圖案層包括多個(gè)陣列分布的開口區(qū)域1，還包括條狀保留區(qū)域。

上述對圖案層進(jìn)行加熱可以采用多種方式，例如：電阻絲加熱、液體加熱等，本發(fā)明提供的一可選的實(shí)施方式中：上述步驟s204中：對圖案層除設(shè)定區(qū)域21以外的區(qū)域進(jìn)行加熱具體包括：

采用加熱層對圖案層進(jìn)行加熱，如圖6所示，加熱層與設(shè)定區(qū)域21對應(yīng)的部分為絕熱區(qū)6。該絕熱區(qū)6可以為缺口，也可以設(shè)置有隔熱層，這樣不被加熱層加熱的部分任然保持原來的顏色，被加熱層加熱的部分變?yōu)楹谏?，可以形成黑色矩陣?。

另一種可選的實(shí)施方式中，如圖7所示，本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的制備方法包括：步驟s701：提供一襯底基板，與圖1所示步驟相比，步驟s102：在襯底基板上形成黑色矩陣層4和多個(gè)第一子像素單元3，具體包括：

步驟s702：在襯底基板上設(shè)置光刻膠以形成第一光刻膠層；

步驟s703：采用第二掩膜板對第一光刻膠層進(jìn)行曝光、顯影形成與黑色矩陣層4形狀相同的圖案層；形成的圖案層的形狀如圖8所示。

步驟s704：對圖案層進(jìn)行加熱形成黑色矩陣層4；形成的結(jié)構(gòu)如圖9所示。

步驟s705：在黑色矩陣層4上設(shè)置光刻膠形成第二光刻膠層，采用第三掩模板對第二光刻膠層進(jìn)行曝光、顯影形成多個(gè)第一子像素單元3。此步驟可以將黑色矩陣層4和第一子像素單元3分步完成，但不需要更換膠和清洗管路。

通常在提供一襯底基板后，一般會(huì)在襯底基板上形成電極層，然后再依次完成步驟s702、步驟s703、步驟s704、步驟s705，步驟s705完成后，可以在其它開口區(qū)域1內(nèi)形成其它顏色的子像素單元，然后在制備配向?qū)?、隔墊物等。

上述對加熱層進(jìn)行加熱可以采用多種方式，例如：電阻絲加熱、液體加熱等，本發(fā)明提供的一可選的實(shí)施方式中：上述步驟s704中：對圖案層進(jìn)行加熱形成黑色矩陣層4具體包括：

采用加熱層對圖案層進(jìn)行加熱，如圖10所示，加熱層與開口區(qū)域1對應(yīng)的部分為絕熱區(qū)6。該絕熱區(qū)6可以為缺口，也可以設(shè)置有隔熱層，這樣不被加熱層加熱的部分任然保持原來的顏色，被加熱層加熱的部分變?yōu)楹谏?，可以形成黑色矩陣?。

為了形成如圖8所示的圖案層，如圖11所示，第二掩模板包括：遮光區(qū)域51和用于形成多個(gè)開口區(qū)域1的透光區(qū)域52，此結(jié)構(gòu)與現(xiàn)有技術(shù)中制備黑色矩陣層4的掩模板相同；和/或，

第三掩模板包括：遮光區(qū)域51和用于形成多個(gè)第一子像素單元3的條狀透光區(qū)域52。

上述第一子像素單元3的顏色可以為紅色、綠色、藍(lán)色或者黃色，本發(fā)明提供的一可選的實(shí)施方式中，第一子像素單元3的顏色為黃色，彩膜基板的制備方法還包括：形成多個(gè)第二子像素單元、多個(gè)第三子像素單元以及多個(gè)第四子像素單元。

可選的，光刻膠的材料包括：

20～50質(zhì)量份的樹脂；

10～30質(zhì)量份的活性稀釋劑；

20～40質(zhì)量份的溶劑；

10～25質(zhì)量份的不可逆溫變顏料，其中：不可逆溫變顏料為：磷鉬酸銨

(nh4)3po4·12moo3；

1～5質(zhì)量份的光引發(fā)劑；

2～8質(zhì)量份的助劑。此種材料形成的光刻膠可以加熱后由黃色變?yōu)楹谏?/p>

活性稀釋劑主要是指含有環(huán)氧基團(tuán)的低分子量環(huán)氧化合物。它們可以參加環(huán)氧樹脂的固化反應(yīng)，成為環(huán)氧樹脂固化物的交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)的一部分。光引發(fā)劑(photoinitiator)又稱光敏劑(photosensitizer)或光固化劑(photocuringagent)，是一類能在紫外光區(qū)(250～420nm)或可見光區(qū)(400～800nm)吸收一定波長的能量，產(chǎn)生自由基、陽離子等，從而引發(fā)單體聚合交聯(lián)固化的化合物。

可選的，上述活性稀釋劑可以為三縮丙二醇二丙烯酸酯、苯基縮水甘油酯。上述助劑包括消泡劑、流平劑。消泡劑可以為聚氧乙烯聚氧丙醇胺醚，流平劑可以為丙烯酸酯共聚合物、有機(jī)硅改性丙烯酸物。

采用上述材料的光刻膠，光刻膠的透過率為20.1％～40.2％。例如：透過率可以為20.1％、20.5％、25％、28％、35％、40％、40.3％等，這里就不再一一贅述。

上述光刻膠中各組成成份具體可以有多種：例如：一種光刻膠可以包括：20質(zhì)量份的樹脂；30質(zhì)量份的活性稀釋劑；20質(zhì)量份的溶劑；20質(zhì)量份的不可逆溫變顏料；5質(zhì)量份的光引發(fā)劑；5質(zhì)量份的助劑。另一種光刻膠可以包括：30質(zhì)量份的樹脂；10質(zhì)量份的活性稀釋劑；40質(zhì)量份的溶劑；10質(zhì)量份的不可逆溫變顏料；5質(zhì)量份的光引發(fā)劑；5質(zhì)量份的助劑。再一種光刻膠可以包括：50質(zhì)量份的樹脂；10質(zhì)量份的活性稀釋劑；20質(zhì)量份的溶劑；10質(zhì)量份的不可逆溫變顏料；5質(zhì)量份的光引發(fā)劑；5質(zhì)量份的助劑。又一種光刻膠可以包括：20質(zhì)量份的樹脂；20質(zhì)量份的活性稀釋劑；41質(zhì)量份的溶劑；10質(zhì)量份的不可逆溫變顏料；1質(zhì)量份的光引發(fā)劑；8質(zhì)量份的助劑。又一種光刻膠可以包括：20質(zhì)量份的樹脂；10質(zhì)量份的活性稀釋劑；40質(zhì)量份的溶劑；25質(zhì)量份的不可逆溫變顏料；3質(zhì)量份的光引發(fā)劑；2質(zhì)量份的助劑。

本發(fā)明還提供了一種顯示面板的制備方法，包括：上述任一項(xiàng)所述的彩膜基板的制備方法。由于上述彩膜基板的制備方法，可以節(jié)省一次清洗輸送管路和切換光刻膠的步驟，具有較高的制備效率，故本發(fā)明提供的顯示面板的制備方法，也具有較高的制備效率。

本發(fā)明還提供了一種彩膜基板，包括：襯底基板、位于襯底基板上的黑色矩陣層以及填充于黑色矩陣層的開口區(qū)域內(nèi)的彩色濾光層，彩色濾光層包括多種顏色的子像素單元；黑色矩陣層和任意一種顏色的子像素單元的形成材料相同，形成材料包括不可逆溫變顏料，形成材料受熱后變成黑色。

光刻膠的材料包括：

20～50質(zhì)量份的樹脂；

10～30質(zhì)量份的活性稀釋劑；

20～40質(zhì)量份的溶劑；

10～25質(zhì)量份的不可逆溫變顏料，其中：不可逆溫變顏料為：

(nh4)3po4·12moo3；

1～5質(zhì)量份的光引發(fā)劑；

2～8質(zhì)量份的助劑。此種材料形成的光刻膠可以加熱后由黃色變?yōu)楹谏?/p>

活性稀釋劑主要是指含有環(huán)氧基團(tuán)的低分子量環(huán)氧化合物。它們可以參加環(huán)氧樹脂的固化反應(yīng)，成為環(huán)氧樹脂固化物的交聯(lián)網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)的一部分。光引發(fā)劑(photoinitiator)又稱光敏劑(photosensitizer)或光固化劑(photocuringagent)，是一類能在紫外光區(qū)(250～420nm)或可見光區(qū)(400～800nm)吸收一定波長的能量，產(chǎn)生自由基、陽離子等，從而引發(fā)單體聚合交聯(lián)固化的化合物。

可選的，上述活性稀釋劑可以為三縮丙二醇二丙烯酸酯、苯基縮水甘油酯。上述助劑包括消泡劑、流平劑。消泡劑可以為聚氧乙烯聚氧丙醇胺醚，流平劑可以為丙烯酸酯共聚合物、有機(jī)硅改性丙烯酸物。

采用上述材料的光刻膠，光刻膠透過率為20.1％～40.2％。

上述光刻膠中各組成成份具體可以有多種：例如：一種光刻膠可以包括：20質(zhì)量份的樹脂；30質(zhì)量份的活性稀釋劑；20質(zhì)量份的溶劑；20質(zhì)量份的不可逆溫變顏料；5質(zhì)量份的光引發(fā)劑；5質(zhì)量份的助劑。另一種光刻膠可以包括：30質(zhì)量份的樹脂；10質(zhì)量份的活性稀釋劑；40質(zhì)量份的溶劑；10質(zhì)量份的不可逆溫變顏料；5質(zhì)量份的光引發(fā)劑；5質(zhì)量份的助劑。再一種光刻膠可以包括：50質(zhì)量份的樹脂；10質(zhì)量份的活性稀釋劑；20質(zhì)量份的溶劑；10質(zhì)量份的不可逆溫變顏料；5質(zhì)量份的光引發(fā)劑；5質(zhì)量份的助劑。又一種光刻膠可以包括：20質(zhì)量份的樹脂；20質(zhì)量份的活性稀釋劑；41質(zhì)量份的溶劑；10質(zhì)量份的不可逆溫變顏料；1質(zhì)量份的光引發(fā)劑；8質(zhì)量份的助劑。又一種光刻膠可以包括：20質(zhì)量份的樹脂；10質(zhì)量份的活性稀釋劑；40質(zhì)量份的溶劑；25質(zhì)量份的不可逆溫變顏料；3質(zhì)量份的光引發(fā)劑；2質(zhì)量份的助劑。

本發(fā)明還提供了一種顯示面板，包括上述所述的彩膜基板。該顯示面板可以為手機(jī)、電腦等具有顯示的設(shè)備。

顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。