本發(fā)明涉及電潤(rùn)濕顯示器件技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種控制油墨移動(dòng)的電潤(rùn)濕顯示器及其制備方法。

背景技術(shù)：

所謂潤(rùn)濕是指固體表面的一種流體被另一種流體所取代的過(guò)程。液體在固體表面能鋪展，固液接觸面有擴(kuò)大的趨勢(shì)，即液體對(duì)固體表面的附著力大于其內(nèi)聚力，就是潤(rùn)濕。液體在固體表面不能鋪展，接觸面有收縮成球形的趨勢(shì)，就是不潤(rùn)濕，不潤(rùn)濕就是液體對(duì)固體表面的附著力小于其內(nèi)聚力。電潤(rùn)濕（electrowetting，ew）是指通過(guò)改變液滴與絕緣基板之間電壓，來(lái)改變液滴在基板上的潤(rùn)濕性，即改變接觸角，使液滴發(fā)生形變、位移的現(xiàn)象。

電潤(rùn)濕顯示器件的基本結(jié)構(gòu)如圖1所示，由上下兩個(gè)基板以及兩個(gè)基板對(duì)向形成的密封腔中填充的兩種不互溶的極性電解質(zhì)液體4和非極性液體5組成，其中上基板由上支撐板1、第一電極2和密封膠3組成，下基板由下支撐板7、第二電極8、疏水絕緣層9和像素墻6組成。從圖1結(jié)構(gòu)可以看出，非極性液體5均勻的填充在由像素墻6圍成的像素格內(nèi)，由于像素墻6材料具有親水性，因此相鄰的非極性溶液5被像素墻6隔斷。像素墻6和非極性溶液5上方被極性電解質(zhì)溶液4覆蓋，其中極性電解質(zhì)溶液4在電潤(rùn)濕器件中是連續(xù)相并沒(méi)有像非極性溶液5被分隔開(kāi)，同時(shí)極性電解質(zhì)溶液4與第一電極2相導(dǎo)通。當(dāng)施加一個(gè)電壓在第一電極2和第二電極8之間時(shí)，極性電解質(zhì)溶液4在疏水絕緣層9表面上的潤(rùn)濕性發(fā)生變化，由疏水狀態(tài)變?yōu)橛H水狀態(tài)極性電解質(zhì)溶液4潤(rùn)濕疏水絕緣層9表面，非極性溶液5被推擠到像素格內(nèi)一角，實(shí)現(xiàn)打開(kāi)狀態(tài)。當(dāng)撤掉電壓時(shí)候，極性電解質(zhì)溶液4恢復(fù)在疏水絕緣層9表面的疏水性，非極性溶液5重新鋪展，實(shí)現(xiàn)關(guān)閉過(guò)程。因像素格內(nèi)的四個(gè)角是一樣的，理論上油墨可以向任何一個(gè)角移動(dòng)，導(dǎo)致油墨最終聚集的位置不一樣，影響顯示的均勻性。因此，需要人為控制油墨的移動(dòng)方向，以形成均一的打開(kāi)形態(tài)，得到更為均勻的顯示效果。

cn105425385a公開(kāi)了一種控制油墨運(yùn)動(dòng)的電潤(rùn)濕顯示器及其制備方法，但是需要多次用到干法刻蝕，并準(zhǔn)備額外的干法刻蝕的儀器，并且其中一步是在光刻膠顯影前進(jìn)行的，需要在黃光區(qū)中干法刻蝕。cn105445927a公開(kāi)了一種油墨運(yùn)動(dòng)可控的電潤(rùn)濕顯示器及其制備方法，但是兩層絕緣層的對(duì)準(zhǔn)在實(shí)際中是比較困難的，或者需要更復(fù)雜的工藝步驟來(lái)實(shí)現(xiàn)，而且此方法親水性絕緣層上很難有油墨，降低了油墨填充后的實(shí)際寬度，必然降低顯示效果（主要是對(duì)比度）。

目前，為解決油墨移動(dòng)不可控的問(wèn)題，常用的方法是引進(jìn)notch結(jié)構(gòu)，即在像素格的一個(gè)角的位置設(shè)置notch，多為90度扇形的被刻蝕掉的ito區(qū)域。但是這樣的結(jié)構(gòu)存在以下問(wèn)題：1）notch為被刻蝕掉的扇形ito電極結(jié)構(gòu)，邊緣很難做平整，多為鋸齒狀，加壓時(shí)易在此處擊穿；2）影響疏水絕緣層在此處的涂布均勻性；3）notch尺寸不夠的時(shí)候，控制油墨移動(dòng)的效率不高，但notch尺寸比較大的時(shí)候，影響油墨打開(kāi)的程度，即損失開(kāi)口率。因此，需要尋找一種更穩(wěn)定的控制油墨的方法，同時(shí)希望可以提高開(kāi)口率。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的是提供一種使油墨移動(dòng)方向可控、提高像素格開(kāi)口率的電潤(rùn)濕顯示器。

本發(fā)明的另一目的是提供該電潤(rùn)濕顯示器的制備方法。

為達(dá)到上述目的之一，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

一種控制油墨移動(dòng)的電潤(rùn)濕顯示器，包括上基板和下基板，所述上基板包括上支撐板、第一電極、密封膠，所述下基板包括下支撐板、第二電極、疏水絕緣層和像素墻，所述像素墻上設(shè)有控油柱。

進(jìn)一步地，所述控油柱位于像素墻的交叉點(diǎn)。

進(jìn)一步地，所述控油柱位于每個(gè)像素墻交叉點(diǎn)或相鄰像素墻交叉點(diǎn)。

進(jìn)一步地，所述控油柱高1~100μm。

進(jìn)一步地，所述控油柱的水滴接觸角比像素墻的水滴接觸角大5~150度。

進(jìn)一步地，所述控油柱為圓柱狀或多邊形柱狀結(jié)構(gòu)。

進(jìn)一步地，所述電潤(rùn)濕顯示器還包括極性電解質(zhì)液體和非極性液體。

一種上述的電潤(rùn)濕顯示器的制備方法，包括以下步驟：

a1、在疏水絕緣層的表面涂布第一光刻膠材料，通過(guò)紫外光曝光固化，然后顯影，得到像素墻；

b1、在像素墻上涂布第二光刻膠材料，通過(guò)紫外光曝光固化，然后顯影，得到控油柱；

c1、恢復(fù)疏水絕緣層表面的疏水性。

一種上述的電潤(rùn)濕顯示器的制備方法，包括以下步驟：

a2、在疏水絕緣層的表面涂布第一光刻膠材料，通過(guò)紫外光曝光固化，得到像素膜層；

b2、在像素墻上涂布第二光刻膠材料，通過(guò)紫外光曝光固化，得到控油柱膜層；

c2、對(duì)像素墻膜層和控油柱膜層顯影，得到像素墻和控油柱，恢復(fù)疏水絕緣層表面的疏水性。

本發(fā)明具有以下有益效果：

本發(fā)明在像素墻上（優(yōu)選交叉點(diǎn)）布置控油柱，為油墨的移動(dòng)提供了可靠的控制方式，該方法只需要在像素墻布置過(guò)程中或者像素墻布置完成后加一步光刻的過(guò)程即可完成，最終實(shí)現(xiàn)在像素墻上布置一定高度的柱形結(jié)構(gòu)，以作為控油柱。此控油柱在油墨打開(kāi)的過(guò)程中因?qū)τ湍挠H和力及對(duì)水的排斥作用，使得柱周圍的四個(gè)像素格中的油墨向柱的位置聚集，實(shí)現(xiàn)加壓下油墨的定向移動(dòng)，即油墨的移動(dòng)方向可控。同時(shí)，因加壓過(guò)程中油墨向柱上的聚集，使得像素格中油墨量減少，即像素格開(kāi)口率增大。

本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于通過(guò)兩次光刻的方式來(lái)制備電潤(rùn)濕顯示器的控油柱，控油柱的材料可選用同像素墻一樣的光刻膠材料，如su-8等，更優(yōu)選擇性質(zhì)相近但比像素墻更疏水的光刻膠材料。如此，控油柱材料的兼容性可與電潤(rùn)濕器的材料體系相匹配。通過(guò)光刻的形式制備控油柱可以準(zhǔn)確的控制其所在位置，避免了噴灑微球或微棒自身的堆積以及微球微棒與非極性溶液相接觸所造成的問(wèn)題。

同時(shí)與紫外聚合材料制備隔墊物的方法相比較，本發(fā)明不會(huì)將其他材料帶入極性電解質(zhì)溶液或非極性溶液中，就不會(huì)造成對(duì)這兩種功能性溶液的污染。同時(shí)與該方法相比較，本發(fā)明的實(shí)現(xiàn)過(guò)程更加容易并且可控。

本發(fā)明中的控油柱位置和數(shù)量可以通過(guò)第二掩膜版的預(yù)設(shè)圖形來(lái)控制，因此可以針對(duì)不同尺寸和不同類型的器件來(lái)設(shè)計(jì)不同的控油柱的密度和布局，并且該方法可適用于柔性電潤(rùn)濕器的制備。

本發(fā)明的電潤(rùn)濕顯示器可以降低打開(kāi)電壓，同樣的顯示器沒(méi)有控油柱結(jié)構(gòu)時(shí)，打開(kāi)電壓一般在20v左右，當(dāng)布置上控油柱結(jié)構(gòu)后打開(kāi)電壓可以降至12v左右，這是因?yàn)榭赜椭Y(jié)構(gòu)對(duì)油墨有吸引作用，導(dǎo)致油膜的中間變薄，更易破裂。

相比傳統(tǒng)notch結(jié)構(gòu)，本發(fā)明的優(yōu)勢(shì)還有：

控油柱結(jié)構(gòu)是在電極層、疏水絕緣層、像素墻層布置好后才設(shè)置的，故不對(duì)已經(jīng)設(shè)置好的這三層產(chǎn)生影響，尤其是電極層和疏水絕緣層，不存在notch積累電荷的作用，不會(huì)產(chǎn)生額外的擊穿。

notch結(jié)構(gòu)是在ito表面刻蝕出來(lái)的，因此存在高度差，在其表面涂布疏水絕緣層的時(shí)候影響疏水絕緣層涂布的均勻性，即notch區(qū)域的疏水絕緣層比其他區(qū)域略厚一點(diǎn)，厚度的差異與涂布方法及notch的尺寸有關(guān)，而控油柱是在疏水絕緣層設(shè)置好以后增加的，故不會(huì)對(duì)疏水絕緣層的設(shè)置產(chǎn)生影響。

專利cn104570326a通過(guò)在封裝貼合區(qū)域的像素墻表面設(shè)置一層疏水性較好的貼合材料，既避免了跳墨，也保證了封裝的密封性。其與本發(fā)明的區(qū)別是：cn104570326a的疏水材料布置在膠框貼合區(qū)域的像素墻上，也就是在顯示區(qū)域之外，本發(fā)明是在顯示區(qū)域像素墻的交叉處布置控油柱；而且cn104570326a僅僅是涂一層疏水膜，本發(fā)明是設(shè)置疏水性的柱形結(jié)構(gòu)。

附圖說(shuō)明

圖1是傳統(tǒng)電潤(rùn)濕顯示器的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是本發(fā)明電潤(rùn)濕顯示器的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3是本發(fā)明電潤(rùn)濕顯示器的一種打開(kāi)方式；

圖4是本發(fā)明電潤(rùn)濕顯示器的另一種打開(kāi)方式；

圖5是控油柱的一種布置方式；

圖6是控油柱的另一種布置方式；

圖7是本發(fā)明電潤(rùn)濕顯示器的一種制備方法；

圖8是本發(fā)明電潤(rùn)濕顯示器的另一種制備方法；

圖9是本發(fā)明電潤(rùn)濕顯示器下基板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖10是控油柱布置方式的實(shí)物圖；

圖11是電潤(rùn)濕顯示器的cv特性曲線。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步的說(shuō)明。

實(shí)施例1

圖2為本發(fā)明的具有控油柱結(jié)構(gòu)的電潤(rùn)濕顯示器結(jié)構(gòu)示意圖，主要結(jié)構(gòu)由上下基板以及兩個(gè)基板對(duì)向形成的密封腔中填充的兩種不互溶的極性電解質(zhì)液體4和非極性液體5組成。上基板由上支撐板1、第一電極2和密封膠3組成，下基板由下支撐板7、第二電極8、疏水絕緣層9、像素墻6和控油柱12組成。

其中控油柱12通過(guò)二次光刻的形式直接形成在像素墻6的上方，控油柱12的形狀為圓柱狀或多邊形柱狀結(jié)構(gòu)。

像素墻由于圍成封閉的空間來(lái)容納第一流體，故縱、橫像素墻會(huì)交叉，形成交叉點(diǎn)，這里所述的交叉點(diǎn)其實(shí)是一個(gè)區(qū)域。

控油柱12坐落在像素墻6的交叉點(diǎn)上或像素墻6的其他位置，優(yōu)選坐落在像素墻6的交叉位置，因?yàn)榻徊纥c(diǎn)處的控油柱12更容易吸引毗鄰的像素格中的油墨，從而控制油墨的移動(dòng)方向。

如果選擇臨近交叉點(diǎn)的位置，也有控制油墨移動(dòng)方向的作用，但是增大開(kāi)口率的效果會(huì)差一些。

控油柱不與第一電極2接觸，起到控制油墨移動(dòng)方向的作用。控油柱12不會(huì)對(duì)極性電解質(zhì)溶液4的連通性產(chǎn)生影響，因此極性電解質(zhì)溶液4在新結(jié)構(gòu)中仍是連續(xù)相。需要說(shuō)明的是，像素墻6材料通常為親水性的，控油柱12則要求同像素墻6表面潤(rùn)濕性有一定的差異性，即控油柱12要求比像素墻6更疏水，控油柱的水滴接觸角比像素墻的水滴接觸角大5~100度，優(yōu)選大5~70度?？赜椭旧淼乃谓佑|角優(yōu)選為50~130度，更優(yōu)為70~100度。

圖3與圖4為在新型電潤(rùn)濕器中油墨的打開(kāi)方式，根據(jù)控油柱的高度與油墨厚度的關(guān)系給出了兩種示意圖。由圖中可知，加壓油墨移動(dòng)到柱頂部的邊緣。圖3中控油柱的高度不是很高，這是為了方便油墨填充，油墨均勻性比較好，但是對(duì)油墨運(yùn)動(dòng)的控制效果可能會(huì)差一些。圖4中控油柱的高度比較高，油墨填充的時(shí)候容易堆積在附近，油墨填充均勻性會(huì)差一些，但是對(duì)油墨運(yùn)動(dòng)的控制會(huì)強(qiáng)一些。加壓時(shí)油墨上升的高度更高，因此開(kāi)口率可以更高，打開(kāi)電壓也更低。

控油柱的位置有兩種方式可以選擇：一種為控油柱布置在每個(gè)像素墻的交叉點(diǎn)處，如圖5a所示，此時(shí)加壓油膜從像素格中間開(kāi)始破裂，油墨向柱的位置移動(dòng)，如圖5b所示。控油柱還可以布置在相鄰的像素墻交叉點(diǎn)處，如圖6a所示，加壓時(shí)，柱周圍的四個(gè)像素格形成一個(gè)顯示單元，柱周圍四個(gè)像素格中的油墨均向柱的位置移動(dòng)，如圖6b所示。

控油柱的高度優(yōu)選為1~100μm，更優(yōu)為5~50μm。用到柔性顯示器中時(shí)跟柔性顯示器的柔性程度以及顯示器需要的彎曲程度有關(guān)，一般要求10~100μm，更優(yōu)為50~80μm。對(duì)于一般的顯示器，高度選擇10~100μm，優(yōu)選為30~60μm，30μm是考慮到油墨打開(kāi)時(shí)不與上極板接觸，60μm是為了降低整體器件的厚度。

實(shí)施例2

電潤(rùn)濕顯示器的制備有以下兩種方法

方法一，如圖7所示：

a1、顯示器件中的導(dǎo)電層的制備方法已經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)化，因此這里關(guān)于上下基板中的第一電極2和第二電極8的制備方法這里不再贅述。

b1、將疏水絕緣層9的溶液通過(guò)旋涂、刮涂、狹縫涂布、絲印、柔印等方法涂布在帶有第二電極8的下支撐板7表面，并進(jìn)行熱固化處理。

c1、將光刻膠材料6’均勻的涂布在疏水絕緣層9的表面，涂布方法可選用旋涂、刮涂、狹縫涂布、絲網(wǎng)印刷、滾輪涂布等方法。

在涂布之前，為了更好的讓光刻膠材料能夠在疏水絕緣層9表面成膜并提高在其表面的粘附力，利用反應(yīng)離子刻蝕機(jī)對(duì)疏水絕緣層9表面進(jìn)行改性，降低表面的疏水性，提高光刻膠材料6’在其表面的潤(rùn)濕性。

可以對(duì)光刻膠層6’進(jìn)行前烘處理，前烘的溫度與時(shí)間與光刻膠6’的材料性質(zhì)有關(guān)。

將第一掩膜版13放置在下基板上方并與其對(duì)位，通過(guò)平行紫外線15對(duì)第一掩膜版13進(jìn)行照射，第一掩膜版13上有預(yù)先設(shè)計(jì)好的圖形，部分平行紫外光可穿過(guò)第一掩膜版13照射到光刻膠材料6’上對(duì)其曝光固化。根據(jù)光刻膠材料6’的性質(zhì)選擇對(duì)其進(jìn)行曝光后的烘烤。

對(duì)光刻膠材料6’進(jìn)行顯影，得到圖案化的像素墻結(jié)構(gòu)。

d1、在圖案化的像素墻結(jié)構(gòu)上涂布第二層光刻膠材料12’，涂布方法可選用旋涂、刮涂、狹縫涂布、絲網(wǎng)印刷、滾輪涂布等方法。

可以對(duì)光刻膠層12’進(jìn)行前烘處理，前烘的溫度與時(shí)間與光刻膠12’的材料性質(zhì)有關(guān)。

然后放置第二掩膜版14在下基板上方并進(jìn)行對(duì)位，通過(guò)平行紫外線15對(duì)第二掩膜版14進(jìn)行照射，第二掩膜版14上有預(yù)先設(shè)計(jì)好的圖形，部分平行紫外光可穿過(guò)第二掩膜版14照射到光刻膠材料12’上對(duì)其曝光固化。由于第二掩膜版的預(yù)設(shè)定圖案均在像素墻6相鄰交叉點(diǎn)上方，因此要求像素墻材料6’選擇負(fù)性光刻膠，或者其他顯影成型后不再受曝光影響的材料，而柱材料12’可以為正性光刻膠，也可以為負(fù)性光刻膠，上述工藝步驟是以負(fù)性的光刻膠材料12’為例。

根據(jù)光刻膠材料12’的性質(zhì)選擇對(duì)其進(jìn)行曝光后的烘烤。

e1、曝光結(jié)束后，對(duì)控油柱膜層進(jìn)行顯影，得到如圖9所示的下基板結(jié)構(gòu)和圖10a所示的控油柱相鄰排列的實(shí)物圖。然后將下基板放入高溫環(huán)境下使疏水絕緣層9達(dá)到玻璃化溫度恢復(fù)疏水絕緣層9表面的疏水性。本方法不要求第一光刻膠與第二光刻膠的顯影液為同一種顯影液，因此這種方法兩種材料的選擇范圍比較寬。

f1、最后在極性電解質(zhì)溶液4環(huán)境下將非極性溶液5填充在像素格內(nèi)并將帶有密封膠3和第一電極2的上基板與下基板進(jìn)行對(duì)位壓合，完成電潤(rùn)濕器件的制備過(guò)程。

方法二，如圖8所示：

a1、顯示器件中的導(dǎo)電層的制備方法已經(jīng)標(biāo)準(zhǔn)化，因此這里關(guān)于上下基板中的第一電極2和第二電極8的制備方法這里不再贅述。

b1、將疏水絕緣層9的溶液通過(guò)旋涂、刮涂、狹縫涂布、絲印、柔印等方法涂布在帶有第二電極8的下支撐板7表面，并進(jìn)行熱固化處理。

c2、將光刻膠材料6’均勻的涂布在疏水絕緣層9的表面，涂布方法可選用旋涂、刮涂、狹縫涂布、絲網(wǎng)印刷、滾輪涂布等方法。

在涂布之前，為了更好的讓光刻膠材料能夠在疏水絕緣層9表面成膜并提高在其表面的粘附力，利用反應(yīng)離子刻蝕機(jī)對(duì)疏水絕緣層9表面進(jìn)行改性，降低表面的疏水性，提高光刻膠材料6’在其表面的潤(rùn)濕性。

可以對(duì)光刻膠層6’進(jìn)行前烘處理，前烘的溫度與時(shí)間與光刻膠6’的材料性質(zhì)有關(guān)。

成膜后將第一掩膜版13放置在下基板上方并與其對(duì)位，通過(guò)平行紫外線15對(duì)第一掩膜版13進(jìn)行照射，第一掩膜版13上有預(yù)先設(shè)計(jì)好的圖形，部分平行紫外光可穿過(guò)第一掩膜版13照射到光刻膠材料6’上對(duì)其曝光固化。根據(jù)光刻膠材料6’的性質(zhì)選擇對(duì)其進(jìn)行曝光后的烘烤。

d2、涂布第二層光刻膠材料12’，涂布方法可選用旋涂、刮涂、狹縫涂布、絲網(wǎng)印刷、滾輪涂布等方法。

可以對(duì)光刻膠層12’進(jìn)行前烘處理，前烘的溫度與時(shí)間與光刻膠12’的材料性質(zhì)有關(guān)。

然后放置第二掩膜版14在下基板上方并進(jìn)行對(duì)位，通過(guò)平行紫外線15對(duì)第二掩膜版14進(jìn)行照射，第二掩膜版14上有預(yù)先設(shè)計(jì)好的圖形，部分平行紫外光可穿過(guò)第二掩膜版14照射到光刻膠材料12’上對(duì)其曝光固化。由于第二掩膜版的預(yù)設(shè)定圖案均在像素墻6間隔交叉點(diǎn)上方，因此控油柱結(jié)構(gòu)的曝光過(guò)程不會(huì)對(duì)像素墻6非曝光區(qū)域產(chǎn)生影響，為保證此效果，像素墻材料6’與控油柱材料12’均選擇負(fù)性光刻膠。

根據(jù)光刻膠材料12’的性質(zhì)選擇對(duì)其進(jìn)行曝光后的烘烤。

e2、曝光結(jié)束后，用其共同的顯影液（如有機(jī)溶劑、koh、naoh、tmah等）對(duì)像素墻膜層和控油柱膜層進(jìn)行顯影，得到像素墻6和控油柱12，如圖9所示的下基板結(jié)構(gòu)和圖10b所示的控油柱間隔排列的實(shí)物圖。

然后將下基板放入高溫環(huán)境下使疏水絕緣層9達(dá)到玻璃化溫度恢復(fù)疏水絕緣層9表面的疏水性。要求第一光刻膠與第二光刻膠的顯影液為同一種顯影液，且顯影時(shí)間差異不大。同時(shí)要求第二光刻膠烘烤時(shí)間對(duì)第一光刻膠影響不大，即第二光刻膠烘烤后第一光刻膠仍然可以顯影完全。因此這種方法兩種材料的選擇范圍比較窄。

f2、最后在極性電解質(zhì)溶液4環(huán)境下將非極性溶液5填充在像素格內(nèi)并將帶有密封膠3和第一電極2的上基板與下基板進(jìn)行對(duì)位壓合，完成電潤(rùn)濕器件的制備過(guò)程。

如圖11所示，曲線1為實(shí)施例1電潤(rùn)濕顯示器的cv特性曲線，打開(kāi)電壓為12v，曲線2為沒(méi)有控油柱結(jié)構(gòu)的電潤(rùn)濕顯示器的cv特性曲線，打開(kāi)電壓為20v，所以本發(fā)明的電潤(rùn)濕顯示器能顯著降低打開(kāi)電壓。另外，由圖11也可以看出，使用控油柱的方法，油滴打開(kāi)時(shí)的cv曲線的變化比較平緩，更有利于控制顯示的灰度。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何屬于本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到的變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)該以權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。