本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種彩膜基板的制作方法及液晶面板的制作方法。

背景技術(shù)：

薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，TFT-LCD)包含彩色濾光片基板(Color Filter Substrate，CF Substrate，)和薄膜晶體管陣列基板(Thin Film Transistor Substrate，TFT Substrate)，基板相對內(nèi)側(cè)存在透明電極。兩片基板之間夾一層液晶分子(Liquid Crystal，LC)。液晶顯示器是通過電場對液晶分子取向的控制，改變光的偏振狀態(tài)，并藉由偏光板實(shí)現(xiàn)光路的穿透與阻擋，實(shí)現(xiàn)顯示的目的。彩膜基板為液晶顯示器彩色化的關(guān)鍵零組件，彩膜基板在制造過程中需要是分別涂布和曝光黑色矩陣材料、紅、綠、藍(lán)光阻材料及制作間隔柱。

現(xiàn)有技術(shù)中，為了簡化制作工藝，在掃描線位置涂布黑色光阻材料(Black Photo Spacer，BPS)，并利用多色光罩(Multi Tone Mask，MTM)技術(shù)在多個不同光照強(qiáng)度下進(jìn)行曝光，同時形成高度不同的黑色矩陣和間隔柱，從而將黑色矩陣制程和間隔柱制程合成到一道制程完成，簡化制作過程。但是MTM光罩技術(shù)復(fù)雜、制作難度大，且光罩價格昂貴，彩膜基板及液晶面板的制作成本高。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種彩膜基板的制作方法及液晶面板的制作方法，用以解決現(xiàn)有技術(shù)中彩膜基板及液晶面板的制作成本高的問題。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種彩膜基板的制作方法，包括：

提供第一基板，所述第一基板包括像素單元區(qū)與位于所述像素單元區(qū)之間的遮光區(qū)，

在所述第一基板上涂布光阻材料，曝光所述像素單元區(qū)形成單色阻塊，部分曝光所述遮光區(qū)形成色阻墊塊；

涂布黑色光阻材料于所述遮光區(qū)，并且所述黑色光阻材料覆蓋所述色阻墊塊；

曝光所述黑色光阻材料，使得位于所述遮光區(qū)的所述黑色光阻材料形成黑色矩陣，覆蓋所述色阻墊塊的所述黑色光阻材料形成間隔柱。

進(jìn)一步，一次曝光所述光阻材料過程所形成的所述色阻墊塊包括尺寸不等的第一色阻墊塊和第二色阻墊塊。

進(jìn)一步，所述第一色阻墊塊在所述遮光區(qū)的正投影尺寸大于所述第二色阻墊塊在所述遮光區(qū)的正投影的尺寸，曝光所述第一色阻墊塊表面的所述黑色光阻材料形成主間隔柱，曝光所述第二色阻墊塊表面的所述黑色光阻材料形成輔間隔柱。

進(jìn)一步，所述色阻墊塊位于相鄰的兩個顏色相同的所述單色阻塊之間，與所述第一色阻墊塊相鄰的所述單色阻塊和與所述第二色阻墊塊相鄰的所述單色阻塊的顏色相同。

進(jìn)一步，所述第一色阻墊塊與所述第二色阻墊塊的顏色相同。

進(jìn)一步，所述色阻墊塊和與所述色阻墊塊相鄰的所述單色阻塊的顏色相同。

進(jìn)一步，所述單色阻塊包括紅色阻塊、綠色阻塊及藍(lán)色阻塊，所述色阻墊塊位于相鄰的兩個所述藍(lán)色阻塊之間的所述遮光區(qū)。

進(jìn)一步，所述色阻墊塊為藍(lán)色。

進(jìn)一步，所述色阻墊塊包括垂直于所述第一基板的高度尺寸，所述第一色阻墊塊的所述高度尺寸與所述第二色阻墊塊的所述高度尺寸相等。

本發(fā)明還提供一種液晶面板的制作方法，包括以上任意一項(xiàng)所述的彩膜基板的制作方法；在所述彩膜基板上滴入液晶；及將第二基板貼合至所述彩膜基板，在所述第二基板的邊緣區(qū)域與所述第一基板的邊緣區(qū)域之間使用框膠粘合。

本發(fā)明的有益效果如下：制作單色阻塊的同時在遮光區(qū)曝光形成色阻墊塊，不增加額外的制程，在遮光區(qū)涂布黑色光阻材料并進(jìn)行一次曝光，以色阻墊塊為襯底的黑色光阻材料曝光后形成間隔柱，遮光區(qū)其他部分的黑色光阻材料曝光后形成黑色矩陣，該曝光過程使用普通光罩即可實(shí)現(xiàn)，普通光罩的材料成本低，并且黑色光阻材料的黃光工藝簡單，彩膜基板的制作成本低。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的明顯變形方式。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的制作方法的流程圖。

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的第一基板的表面示意圖。

圖3和圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的制作方法的S101示意圖。

圖5為S101過程中彩膜基板的局部放大示意圖。

圖6為S101過程中彩膜基板的截面示意圖。

圖7和圖8為本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的制作方法的S102示意圖。

圖9為本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的制作方法制作的彩膜基板示意圖。

圖10為本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的制作方法制作的彩膜基板的截面示意圖。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的彩膜基板的制作方法的流程圖，如圖所示，制作方法如下：

S101、在第一基板100上涂布光阻材料，曝光像素單元區(qū)102形成單色阻塊，部分曝光遮光區(qū)104形成色阻墊塊。

第一基板100為玻璃基板，作為彩膜基板的襯底，用于承載單色阻塊、間隔柱等結(jié)構(gòu)。結(jié)合圖2和圖9，第一基板100包括像素單元區(qū)102與遮光區(qū)104，遮光區(qū)104位于相鄰的像素單元區(qū)102之間，像素單元區(qū)102用于形成單色阻塊以實(shí)現(xiàn)液晶面板的彩色顯示，遮光區(qū)104對應(yīng)陣列基板的掃描線等不透明且不被背光源穿透的器件，遮光區(qū)104用于形成黑色矩陣500并遮擋掃描線等器件。一種較佳的實(shí)施方式中，遮光區(qū)104為長條狀，以對應(yīng)掃描線。

結(jié)合后圖3和圖4，在第一基板100的像素單元區(qū)102與遮光區(qū)104均勻涂布多種顏色的光阻材料后，通過光罩的依次曝光顯影，在像素單元區(qū)102上形成交替排列的多種顏色的單色阻塊。具體的，光阻材料包括藍(lán)色光阻材料、綠色光阻材料及紅色光阻材料，對應(yīng)形成的單色阻塊包括藍(lán)色阻塊202、綠色阻塊204及紅色阻塊206。一種較佳的實(shí)施方式中，光阻材料還包括白色光阻材料，曝光后對應(yīng)形成白色阻塊。在像素單元區(qū)102形成單色阻塊的同時，遮光區(qū)104同時形成色阻墊塊。進(jìn)一步的，一次曝光光阻材料過程同時形成單色阻塊和色阻墊塊，所形成的色阻墊塊包括尺寸不等的第一色阻墊塊302與第二色阻墊塊304，具體的，第一色阻墊塊302在遮光區(qū)104的正投影的尺寸大于第二色阻墊塊304在遮光區(qū)104的正投影的尺寸，或者也可以理解為第一色阻墊塊302在遮光區(qū)104的正投影的面積大于第二色阻墊塊304在遮光區(qū)104的正投影的面積。第一色阻墊塊302用于后續(xù)在其表面曝光黑色光阻材料40后形成主間隔柱502，第二色阻墊塊304用于后續(xù)在其表面曝光黑色光阻材料40后形成輔間隔柱504。第一色阻墊塊302與第二色阻墊塊304交替排列，以使后續(xù)形成的主間隔柱502與輔間隔柱504可以均勻分布，從而提高間隔柱的支撐效果。

本實(shí)施例中，藍(lán)色阻塊202、綠色阻塊204及紅色阻塊206形成一個像素單元，遮光區(qū)104兩側(cè)的兩個像素單元顏色對稱，即遮光區(qū)104兩側(cè)的相對的兩個單色阻塊顏色相同。進(jìn)一步的，相鄰的色阻墊塊兩側(cè)對應(yīng)的單色阻塊顏色相同，即第一色阻墊塊302兩側(cè)對應(yīng)的單色阻塊顏色相同，第二色阻墊塊304兩側(cè)對應(yīng)的單色阻塊顏色相同。例如圖4中的第一色阻墊塊302和第二色阻墊塊304兩側(cè)對應(yīng)的單色阻塊均為藍(lán)色阻塊202，從而使第一色阻墊塊302與第二色阻墊塊304的間距不變，即后續(xù)在色阻墊塊上形成的主間隔柱502與輔間隔柱504的間距不變，有利于間隔柱的均勻分布，提高間隔柱的支撐效果。一種較佳的實(shí)施方式中，色阻墊塊與該色阻墊塊兩側(cè)的單色阻塊的顏色相同，例如圖4中的第一色阻墊塊302為藍(lán)色，該第一色阻墊塊302兩側(cè)的單色阻塊亦為藍(lán)色，第二色阻墊塊304為藍(lán)色，該第二色阻墊塊304兩側(cè)的單色阻塊亦為藍(lán)色，從而方便曝光形成單色阻塊的同時形成色阻墊塊，簡化制程，其他實(shí)施方式中，色阻墊塊和單色阻塊的顏色也可以不同。本實(shí)施例中，第一色阻墊塊302與第二色阻墊塊304的顏色相同，以同時形成第一色阻墊塊302和第二色阻墊塊304，簡化色阻墊塊的形成步驟。

一種實(shí)施方式中，形成單色阻塊和色阻墊塊的具體過程如下：

1、涂布藍(lán)色光阻材料并曝光，在像素單元區(qū)102形成藍(lán)色阻塊202，并對應(yīng)在兩個藍(lán)色阻塊202之間的遮光區(qū)104形成藍(lán)色的色阻墊塊，色阻墊塊包括第一色阻墊塊302與第二色阻墊塊304，每一對像素單元之間僅設(shè)有一個第一色阻墊塊302或第二色阻墊塊304，且第一色阻墊塊302和第二色阻墊塊304均為藍(lán)色。

2、涂布綠色光阻材料并曝光，在像素單元區(qū)102形成綠色阻塊204。

3、涂布紅色光阻材料并曝光，在像素單元區(qū)102形成紅色阻塊206。

結(jié)合圖5和圖6，其中圖6為彩膜基板A-A方向的截面示意圖。一種較佳的實(shí)施方式中，色阻墊塊在遮光區(qū)104的正投影為矩形，其他實(shí)施方式中，色阻墊塊在遮光區(qū)104的正投影也可以為圓形等其他形狀。進(jìn)一步的，色阻墊塊包括第一方向X尺寸、第二方向Y尺寸及第三方向Z尺寸，第一方向X尺寸和第二方向Y尺寸為色阻墊塊在遮光區(qū)104的正投影的平面尺寸，第三方向Z尺寸為垂直于第一基板100的方向上的尺寸，即色阻墊塊的高度尺寸。通過改變第一方向X尺寸或第二方向Y尺寸均可以改變色阻墊塊在遮光區(qū)104的正投影的面積。

S102、涂布黑色光阻材料40于遮光區(qū)104，并且黑色光阻材料40覆蓋色阻墊塊。

參閱圖7和圖8，其中圖8為彩膜基板A-A方向的截面示意圖。均勻涂布于遮光區(qū)104的黑色光阻材料40同時覆蓋了第一基板100的表面、第一色阻墊塊302的表面及第二色阻墊塊304的表面。由于色阻墊塊位于第一基板100之上，涂布于色阻墊塊表面的黑色光阻材料40層疊于色阻墊塊的表面，涂布于第一基板100表面的黑色光阻材料40層疊于第一基板100的表面，即層疊于色阻墊塊的表面的黑色光阻材料40高于層疊于第一基板100的表面的黑色光阻材料40。

S103、曝光黑色光阻材料40，使得位于遮光區(qū)104的黑色光阻材料40形成黑色矩陣500，覆蓋色阻墊塊的黑色光阻材料40形成間隔柱。

由于第一色阻墊塊302與第二色阻墊塊304在遮光區(qū)104的正投影的尺寸不同，即第一色阻墊塊302與第二色阻墊塊304在第一方向X和第二方向Y形成的XY平面上的尺寸不同，黑色光阻材料40的第一色阻墊塊302表面和第二色阻墊塊304表面的流平效果不同，導(dǎo)致黑色光阻材料40被曝光后形成了高度(第三方向Z)不同的主間隔柱502與輔間隔柱504。具體的，黑色光阻材料40在曝光顯影前為具有一定粘性和流動性的液體，黑色光阻材料40在涂布于第一色阻墊塊302或第二色阻墊塊304表面后會流向四周以流平。流平效果與液體的表面張力有關(guān)，具體的，表面張力越大，流平效果越好，而表面張力的大小與色阻墊塊的XY平面尺寸成反比，即色阻墊塊的XY平面尺寸越小，色阻墊塊上的黑色光阻材料40的表面張力越大，黑色光阻材料40的流平效果越好，由于第一色阻墊塊302的XY平面尺寸大于第二色阻墊塊304的XY平面尺寸，黑色光阻材料40在第二色阻墊塊304表面的流平效果相對較好，第二色阻墊塊304表面形成的間隔柱的高度小于第一色阻墊塊302表面形成的間隔柱，即第一色阻墊塊302表面形成主間隔柱502，第二色阻墊塊304表面形成輔間隔柱504。

結(jié)合圖9和圖10，其中圖10為彩膜基板A-A方向的截面示意圖，直接涂布于第一基板100表面的黑色光阻材料40曝光后形成黑色矩陣500，涂布于第一色阻墊塊302表面的黑色光阻材料40曝光后形成主間隔柱502，涂布于第二色阻墊塊304表面的黑色光阻材料40曝光后形成輔間隔柱504。第一方向X尺寸對間隔柱的高度影響大于第二方向Y尺寸，通過選擇不同的第一方向X尺寸和第二方向Y尺寸的色阻墊塊，根據(jù)黑色光阻材料40的流平特性調(diào)節(jié)間隔柱的高度，間隔柱的高度范圍在3.87～4.51μm，即主間隔柱502與輔間隔柱504的最大高度差值為0.64μm，能夠滿足液晶面板制作中對間隔柱的要求。

制作單色阻塊的同時在遮光區(qū)104曝光形成色阻墊塊，不增加額外的制程，在遮光區(qū)104涂布黑色光阻材料40并進(jìn)行一次曝光，以色阻墊塊為襯底的黑色光阻材料40曝光后形成間隔柱，遮光區(qū)104其他部分的黑色光阻材料40曝光后形成黑色矩陣500，該曝光過程使用普通光罩即可實(shí)現(xiàn)，普通光罩的材料成本低，并且黑色光阻材料40的黃光工藝簡單，彩膜基板的制作成本低。進(jìn)一步的，第一基板100表面形成黑色矩陣500，第一色阻墊塊302表面形成主間隔柱502，第二色阻墊塊304表面形成輔間隔柱504，一次曝光過程即可實(shí)現(xiàn)高度不同的黑色矩陣500、主間隔柱502及輔間隔柱504，簡化制程，降低了制造成本。

本實(shí)施例中，單色阻塊包括紅色阻塊206、綠色阻塊204及藍(lán)色阻塊202，色阻墊塊位于相鄰的兩個藍(lán)色阻塊202之間的遮光區(qū)104，由于在色阻塊制作過程中，藍(lán)色阻塊202為高度最小的色阻塊，間隔柱設(shè)置于藍(lán)色阻塊202旁有利于避免色阻塊對液晶分子的干擾。進(jìn)一步的，色阻墊塊也為藍(lán)色，藍(lán)色的色阻墊塊與藍(lán)色阻塊202同時制作，有利于減少制程，降低制作成本。

本實(shí)施例中，第一色阻墊塊302的高度尺寸(第三方向Z尺寸)與第二色阻墊塊304的高度尺寸相等。通過改變第一色阻墊塊302和第二色阻墊塊304的第一方向X尺寸及第二方向Y尺寸(XY平面尺寸)，從而依靠黑色光阻材料40的不同的流平效果得到高度不同的主間隔柱502與輔間隔柱504，無需改變第一色阻墊塊302和第二色阻墊塊304的第三方向Z尺寸。由于形成第三方向Z尺寸相同的第一色阻墊塊302和第二色阻墊塊304，僅使用同一次涂布的光阻材料進(jìn)行一次曝光，形成的第一色阻墊塊302和第二色阻墊塊304的第三方向Z尺寸相同，只需要控制XY平面尺寸即可對應(yīng)控制主間隔柱502和輔間隔柱504的高度，制作過程簡單，降低了制作成本。

制作單色阻塊的同時在遮光區(qū)104曝光形成色阻墊塊，不增加額外的制程，在遮光區(qū)104涂布黑色光阻材料40并進(jìn)行一次曝光，以色阻墊塊為襯底的黑色光阻材料40曝光后形成間隔柱，遮光區(qū)104其他部分的黑色光阻材料40曝光后形成黑色矩陣500，該曝光過程使用普通光罩即可實(shí)現(xiàn)，普通光罩的材料成本低，并且黑色光阻材料40的黃光工藝簡單，彩膜基板的制作成本低。

本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種液晶面板的制作方法，包括：

步驟1、制作彩膜基板。彩膜基板的具體制作方法如以上所述。

步驟2、在彩膜基板上滴入液晶。

步驟3、將第二基板貼合至彩膜基板，在第二基板的邊緣區(qū)域與第一基板100的邊緣區(qū)域之間使用框膠粘合。

制作單色阻塊的同時在遮光區(qū)104曝光形成色阻墊塊，不增加額外的制程，在遮光區(qū)104涂布黑色光阻材料40并進(jìn)行一次曝光，以色阻墊塊為襯底的黑色光阻材料40曝光后形成間隔柱，遮光區(qū)104其他部分的黑色光阻材料40曝光后形成黑色矩陣500，該曝光過程使用普通光罩即可實(shí)現(xiàn)，普通光罩的材料成本低，并且黑色光阻材料40的黃光工藝簡單，液晶面板的制作成本低。

以上所揭露的僅為本發(fā)明幾種較佳實(shí)施例而已，當(dāng)然不能以此來限定本發(fā)明之權(quán)利范圍，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員可以理解實(shí)現(xiàn)上述實(shí)施例的全部或部分流程，并依本發(fā)明權(quán)利要求所作的等同變化，仍屬于發(fā)明所涵蓋的范圍。