本發(fā)明涉及一種彩色濾光片及其制作方法，特別涉及一種用于顯示器的彩色濾光片及其制作方法。

背景技術(shù)：

液晶顯示器采用彩色濾光層以呈現(xiàn)彩色的顯示畫面，而彩色濾光層的光學(xué)特性對(duì)于液晶顯示器的光學(xué)顯示效果具有關(guān)鍵的影響。

并且，近年來透明液晶顯示器的應(yīng)用日益普及，然而目前的透明液晶顯示器需要同時(shí)兼具呈現(xiàn)顯示效果及具有高透明度，此者仍為業(yè)界所努力的目標(biāo)。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目的在于提供一種彩色濾光片及其制作方法。實(shí)施例的彩色濾光片中，由于子像素定義層是由洋紅色圖案層、青色圖案層及黃色圖案層中的至少二者堆疊而成，因此和傳統(tǒng)的黑色矩陣相比具有相對(duì)較高的光穿透率，進(jìn)而可以使得采用本發(fā)明內(nèi)容的彩色濾光片所制作而成的顯示器也具有較高的光穿透率。

根據(jù)本發(fā)明內(nèi)容的一實(shí)施例，提出一種彩色濾光片。彩色濾光片包括一基板、多個(gè)彩色濾光層以及一子像素定義層?；寰哂卸鄠€(gè)子像素區(qū)和一子像素定義區(qū)，子像素定義區(qū)定義子像素區(qū)的區(qū)域。此些彩色濾光層分別位于基板上的此些子像素區(qū)中，其中此些彩色濾光層包括一第一洋紅色(magenta)圖案層、一第一青色(cyan)圖案層和一第一黃色(yellow)圖案層。子像素定義層位于基板上的子像素定義區(qū)，且子像素定義層包括堆疊設(shè)置的一第二洋紅色圖案層、一第二青色圖案層及一第二黃色圖案層中的至少二者。

根據(jù)本發(fā)明內(nèi)容的另一實(shí)施例，提出一種顯示裝置。顯示裝置包括前述的彩色濾光片、一陣列基板以及一顯示介質(zhì)層。陣列基板與彩色濾光片相對(duì)設(shè)置。顯示介質(zhì)層設(shè)置于彩色濾光片和陣列基板之間。

根據(jù)本發(fā)明內(nèi)容的又一實(shí)施例，提出一種彩色濾光片的制作方法。彩色濾光片的制作方法包括以下步驟：提供一基板，基板具有多個(gè)子像素區(qū)和一子像素定義區(qū)，子像素定義區(qū)定義此些子像素區(qū)的區(qū)域；形成多個(gè)彩色濾光層于基板上的此些子像素區(qū)中，其中形成此些彩色濾光層包括形成一第一洋紅色圖案層、形成一第一青色圖案層和形成一第一黃色圖案層；以及形成一子像素定義層于基板上的子像素定義區(qū)，其中形成子像素定義層包括堆疊設(shè)置一第二洋紅色圖案層、一第二青色圖案層及一第二黃色圖案層中的至少二者。

以下結(jié)合附圖和具體實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述，但不作為對(duì)本發(fā)明的限定。

附圖說明

圖1A繪示根據(jù)本發(fā)明內(nèi)容的一實(shí)施例的彩色濾光片的俯視圖；。

圖1B繪示根據(jù)本發(fā)明內(nèi)容的一實(shí)施例的顯示裝置的示意圖；

圖1C繪示根據(jù)本發(fā)明內(nèi)容的另一實(shí)施例的彩色濾光片的俯視圖；

圖2繪示沿剖面線2A-2A’或剖面線2B-2B’的一實(shí)施例的剖視示意圖。

圖3繪示沿剖面線2A-2A’或剖面線2B-2B’的另一實(shí)施例的剖視示意圖。

圖4A～圖4K繪示根據(jù)本發(fā)明內(nèi)容的一實(shí)施例的彩色濾光片的制作方法。

其中，附圖標(biāo)記

10、20：彩色濾光片

30：顯示裝置

50：陣列基板

60：顯示介質(zhì)

100：基板

110：第一洋紅色圖案層

110T、120T、130T、140T、141T、142T、143T：厚度

120：第一青色圖案層

130：第一黃色圖案層

140：子像素定義層

141：第二洋紅色圖案層

142：第二青色圖案層

143：第二黃色圖案層

200：保護(hù)層

410：洋紅色光阻材料層

420：青色光阻材料層

430：黃色光阻材料層

2A-2A’、2B-2B’：剖面線

L：光線

M1：第一光罩

M1a：第一透光區(qū)

M1b：第一半透光區(qū)

M1c：第一遮光區(qū)

M2：第二光罩

M2a：第二透光區(qū)

M2b：第二半透光區(qū)

M2c：第二遮光區(qū)

M3：第三光罩

M3a：第三透光區(qū)

M3b：第三半透光區(qū)

M3c：第三遮光區(qū)

SP：子像素定義區(qū)

SP1、SP2、SP3：子像素區(qū)

SP1a、SP2a、SP3a：子像素圖案區(qū)

SP1b、SP2b、SP3b：子像素空白區(qū)

具體實(shí)施方式

實(shí)施例所提出的組成為舉例說明之用，并非對(duì)本發(fā)明內(nèi)容欲保護(hù)的范圍做限縮。具有通常知識(shí)者當(dāng)可依據(jù)實(shí)際實(shí)施態(tài)樣的需要對(duì)該些組成加以修飾或變化。

圖1A繪示根據(jù)本發(fā)明內(nèi)容的一實(shí)施例的彩色濾光片的俯視圖。如圖1A所示，彩色濾光片10包括一基板100、多個(gè)彩色濾光層以及一子像素定義層140。基板100具有多個(gè)子像素區(qū)和一子像素定義區(qū)，子像素定義區(qū)定義子像素區(qū)的區(qū)域。彩色濾光層位于基板100上的子像素區(qū)中。子像素定義層140位于基板100上的子像素定義區(qū)。

實(shí)施例中，如圖1A所示，此些子像素區(qū)例如是子像素區(qū)SP1、子像素區(qū)SP2和子像素區(qū)SP3，子像素定義區(qū)SP例如是環(huán)繞子像素區(qū)SP1、SP2和SP3的區(qū)域，且定義子像素區(qū)SP1、SP2和SP3。本實(shí)施例系以單一像素具有三個(gè)并排的子像素區(qū)SP1、SP2和SP3為例，然實(shí)際應(yīng)用時(shí)可視需要改變子像素區(qū)的數(shù)量與配置方式，不以此為限。

實(shí)施例中，如圖1A所示，彩色濾光層可包括至少一第一洋紅色(magenta)圖案層110、一第一青色(cyan)圖案層120和一第一黃色(yellow)圖案層130。本實(shí)施例中，以彩色濾光層包括三種不同顏色的彩色圖案層、且第一青色圖案層120設(shè)置于第一洋紅色圖案層110和第一黃色圖案層130之間為例，然實(shí)際應(yīng)用時(shí)可視需要改變彩色濾光層的數(shù)量與不同顏色的彩色圖案層的配置方式，不以此為限。本實(shí)施例中，洋紅色是指綠色的互補(bǔ)色，青色是指紅色的互補(bǔ)色，黃色是指藍(lán)色的互補(bǔ)色。

請(qǐng)同時(shí)參照第2～3圖，實(shí)施例中，子像素定義層140可包括堆疊設(shè)置的一第二洋紅色圖案層141、一第二青色圖案層142及一第二黃色圖案層143中的至少二者。實(shí)施例中，第二洋紅色圖案層141、第二青色圖案層142及第二黃色圖案層143的材料可分別與第一洋紅色圖案層110、第一青色圖案層120和第一黃色圖案層130的材料相同。

實(shí)施例中，各個(gè)彩色濾光層分別位于對(duì)應(yīng)的各個(gè)子像素區(qū)中。舉例而言，如圖1A所示，第一洋紅色圖案層110位于對(duì)應(yīng)的子像素區(qū)SP1中，第一青色圖案層120位于對(duì)應(yīng)的子像素區(qū)SP2中，第一黃色圖案層130位于對(duì)應(yīng)的子像素區(qū)SP3中。

本實(shí)施例中，各個(gè)彩色濾光層分別填滿對(duì)應(yīng)的各個(gè)子像素區(qū)。舉例而言，如圖1A所示，第一洋紅色圖案層110填滿對(duì)應(yīng)的子像素區(qū)SP1，第一青色圖案層120填滿對(duì)應(yīng)的子像素區(qū)SP2，第一黃色圖案層130填滿對(duì)應(yīng)的子像素區(qū)SP3。

實(shí)施例中，彩色濾光層和子像素定義層140的彩色圖案層的材料例如是彩色光阻，例如可包括由顏料(pigment)、樹脂材料、單體和/或染料(dye)制成的感光性樹脂組合物。

本實(shí)施例的顏料可為無機(jī)顏料、有機(jī)顏料或其組合。無機(jī)顏料系有金屬氧化物、金屬錯(cuò)鹽等的金屬化合物，其具體例如：鐵、鈷、鋁、鎘、鉛、銅、鈦、鎂、鉻、亞鉛、銻等的金屬氧化物，以及前述金屬的復(fù)合氧化物。上述無機(jī)顏料，可以列舉例如氧化鈦、硫酸鋇、碳酸鈣、氧化鋅、硫酸鉛、黃色鉛、鋅黃、鐵丹、鎘紅、群青、普魯士藍(lán)、氧化鉻綠、鈷綠、富錳棕土等，本發(fā)明并不以此為限。

有機(jī)顏料的具體例如：C.I.顏料黃1、3、11、12、13、14、15、16、20、24、31、53、55、60、61、65、71、73、74、81、83、93、95、97、98、99、100、101、104、106、108、109、110、113、114、116、117、119、120、126、127、128、129、138、139、150、151、152、153、154、155、156、166、167、168、175；C.I.顏料橙1、5、13、14、16、17、24、34、36、38、40、43、46、49、51、61、63、64、71、73；C.I.顏料紅1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、14、15、16、17、18、19、21、22、23、30、31、32、37、38、40、41、42、48:1、48:2、48:3、48:4、49:1、49:2、50:1、52:1、53:1、57、57:1、57:2、58:2、58:4、60:1、63:1、63:2、64:1、81:1、83、88、90:1、97、101、102、104、105、106、108、112、113、114、122、123、144、146、149、150、151、155、166、168、170、171、172、174、175、176、177、178、179、180、185、187、188、190、193、194、202、206、207、208、209、215、216、220、224、226、242、243、145、254、255、264、265；C.I.顏料紫1、19、23、29、32、36、38、39；C.I.顏料藍(lán)1、2、15、15:3、15:4、15:6、16、22、60、66；C.I.顏料綠7、36、37、58、59、61、62；C.I.顏料棕23、25、28，前述顏料可單獨(dú)一種或混合兩種或兩種以上使用，本發(fā)明并不以此為限。

根據(jù)本發(fā)明內(nèi)容的實(shí)施例，子像素定義層140的光穿透率例如是0.3％～15％。一些實(shí)施例中，子像素定義層140的光穿透率例如可以是1％～11％。

圖1B繪示根據(jù)本發(fā)明內(nèi)容的一實(shí)施例的顯示裝置的示意圖。本實(shí)施例中，彩色濾光片10可應(yīng)用于如圖1B所示的顯示裝置30。顯示裝置30包含彩色濾光片10、陣列基板50和顯示介質(zhì)60。陣列基板60與彩色濾光片10相對(duì)設(shè)置。陣列基板60包括多個(gè)薄膜晶體管(Thin Film Transistor)(未顯示于圖中)，所述薄膜晶體管可為非晶硅晶體管、多晶硅晶體管、單晶硅晶體管、低溫多晶硅晶體管、金屬氧化物晶體管(例如氧化銦鎵錫、氧化銦錫等)等。顯示介質(zhì)層60設(shè)置于彩色濾光片10和陣列基板50之間，顯示介質(zhì)層60可包括一液晶層或一有機(jī)發(fā)光層。需注意的是，本實(shí)施例的顯示裝置30的各個(gè)元件簡化繪示，本發(fā)明內(nèi)容所述的多個(gè)實(shí)施例的彩色濾光片均可應(yīng)用于本實(shí)施例的顯示裝置中，并不以前述圖1A所述的彩色濾光片10為限。

在一實(shí)施例中，顯示裝置30可為透明顯示器。透明顯示器在未施加電壓的情況下，其顯示面板為透明的；換言之，當(dāng)未施加電壓時(shí)，透明顯示器可當(dāng)作透明玻璃來看。透明顯示器可應(yīng)用于展示櫥窗、自動(dòng)販賣機(jī)，或汽車車窗等地方。

由于透明液晶顯示器除了呈現(xiàn)顯示效果外，在不施加電壓時(shí)還需要高透明度的特性。然而，傳統(tǒng)顯示器的彩色濾光片因使用RGB濾光色阻和黑色矩陣層的關(guān)系，其光穿透率并不高，使得應(yīng)用在透明顯示器的效果不佳。然而，本實(shí)施例的顯示裝置30中的彩色濾光片10，其子像素定義層40利用各層彩色圖案層疊合而成，其光穿透率相較于傳統(tǒng)的黑色矩陣可增加0.2％～13％，且CYM色阻相較于RGB色阻的光穿透率亦來得高，因此顯示裝置30的光穿透率可得到明顯的提升。

進(jìn)一步來說，當(dāng)顯示器的分辨率越高時(shí)，所需要的像素越多。因此，在相同尺寸的顯示器下，分辨率越高，像素定義層所占的面板的面積比越大。由于傳統(tǒng)的顯示器使用光穿透率極低的黑色矩陣層作為像素定義層，在分辨率增加的情況下，導(dǎo)致顯示器的光穿透率降低。然而，本實(shí)施例的子像素定義層使用CYM疊合層取代黑色矩陣，因此當(dāng)分辨率越高，顯示裝置整體增加的光穿透率就越高。

根據(jù)本發(fā)明內(nèi)容的實(shí)施例，彩色濾光片例如是應(yīng)用于透明液晶顯示器，而子像素定義層140具有灰階的效果而可以用于取代傳統(tǒng)的黑色矩陣；如此一來，由于子像素定義層140是由第二洋紅色圖案層141、第二青色圖案層142及第二黃色圖案層143堆疊而成，因此和傳統(tǒng)的黑色矩陣相比，子像素定義層140具有相對(duì)較高的光穿透率，因此可以使得采用本發(fā)明內(nèi)容的彩色濾光片所制作而成的透明液晶顯示器也具有較高的光穿透率。更進(jìn)一步而言，相較于紅色光阻材料、綠色光阻材料和藍(lán)色光阻材料，由于第二洋紅色圖案層141、第二青色圖案層142及第二黃色圖案層143也具有更高的光穿透率，因此由第二洋紅色圖案層141、第二青色圖案層142及第二黃色圖案層143堆疊而成的子像素定義層140也比紅色光阻材料、綠色光阻材料和藍(lán)色光阻材料堆疊而成的材料層具有更高的光穿透率。舉例而言，由厚度均為1.3微米的第二洋紅色圖案層141、第二青色圖案層142及第二黃色圖案層143堆疊而成的子像素定義層140(總厚度為3.9微米)，所具有的光穿透率大約為1.5～2.5％；而由厚度均為1.3微米的紅色光阻材料、綠色光阻材料及藍(lán)色光阻材料堆疊而成的材料層(總厚度為3.9微米)，所具有的光穿透率則大約為0.1～0.3％。

以下就實(shí)施例作進(jìn)一步說明。以下列出數(shù)個(gè)實(shí)施例的彩色濾光片的彩色濾光層和子像素定義層的各個(gè)彩色圖案層的厚度及其光穿透率的結(jié)果，以說明應(yīng)用本發(fā)明內(nèi)容所制得的彩色濾光片的特性。然而以下的實(shí)施例僅為例示說明之用，而不應(yīng)被解釋為本發(fā)明內(nèi)容實(shí)施的限制。

表1～2中，列出實(shí)施例的第二洋紅色圖案層(M)、第二青色圖案層(C)及第二黃色圖案層(Y)的分別的厚度及所構(gòu)成的子像素定義層的總厚度、以及具有該些厚度的子像素定義層的光穿透率，并且列出比較例的黑色矩陣的厚度及光穿透率。

表1

表2

表3中，列出實(shí)施例第一洋紅色圖案層(M1)、第一青色圖案層(C1)及第一黃色圖案層(Y1)的分別的厚度與分別對(duì)應(yīng)的子像素區(qū)的光穿透率、以及所構(gòu)成的彩色濾光層的光穿透率(也就是整個(gè)像素的光穿透率)，并且列出比較例的紅色圖案層(R)、綠色圖案層(G)及藍(lán)色圖案層(B)的分別的厚度與分別對(duì)應(yīng)的子像素區(qū)的光穿透率、以及所構(gòu)成的彩色濾光層的光穿透率。

表3

更詳細(xì)而言，子像素定義層140應(yīng)用于透明液晶顯示器時(shí)，搭配第一洋紅色圖案層110、第一青色圖案層120和第一黃色圖案層130作為彩色濾光層，洋紅色光阻材料、青色光阻材料和黃色光阻材料相較于紅色光阻材料、綠色光阻材料和藍(lán)色光阻材料具有較高的光穿透率，因而本發(fā)明內(nèi)容的彩色濾光層能夠提供較高的光穿透率及透明度。

更進(jìn)一步而言，由于彩色濾光層和子像素定義層140的彩色圖案層的材料例如均可以是彩色光阻，因此可以利用單純的彩色光阻材料涂布工藝搭配光罩曝光顯影而完成彩色濾光片的彩色濾光層以及子像素定義層140的制作，而不需要額外制作黑色矩陣結(jié)構(gòu)，具有簡化工藝及降低材料成本的優(yōu)點(diǎn)。

圖1C繪示根據(jù)本發(fā)明內(nèi)容的另一實(shí)施例的彩色濾光層的俯視圖。本實(shí)施例中與前述實(shí)施例相同或相似的元件沿用同樣或相似的元件標(biāo)號(hào)，且相同或相似元件的相關(guān)說明請(qǐng)參考前述，在此不再贅述。

如圖1C所示，實(shí)施例中，各個(gè)彩色濾光層分別位于對(duì)應(yīng)的各個(gè)子像素區(qū)中。

本實(shí)施例中，各個(gè)子像素區(qū)分別具有一子像素圖案區(qū)以及一子像素空白區(qū)，各個(gè)子像素圖案區(qū)和各個(gè)子像素空白區(qū)經(jīng)由子像素定義層140彼此分隔開來，各個(gè)彩色濾光層分別填滿對(duì)應(yīng)的各個(gè)子像素圖案區(qū)中。

舉例而言，如圖1C所示，子像素區(qū)SP1具有一子像素圖案區(qū)SP1a以及一子像素空白區(qū)SP1b，第一洋紅色圖案層110填滿對(duì)應(yīng)的子像素圖案區(qū)SP1a；子像素區(qū)SP2具有一子像素圖案區(qū)SP2a以及一子像素空白區(qū)SP2b，第一青色圖案層120填滿對(duì)應(yīng)的子像素圖案區(qū)SP2a；子像素區(qū)SP3具有一子像素圖案區(qū)SP3a以及一子像素空白區(qū)SP3b，第一黃色圖案層130填滿對(duì)應(yīng)的子像素圖案區(qū)SP3a。

實(shí)施例中，各個(gè)子像素空白區(qū)相對(duì)于對(duì)應(yīng)的各個(gè)子像素區(qū)的一面積比例例如是2/3～1/3。舉例而言，子像素圖案區(qū)SP1a相對(duì)于對(duì)應(yīng)的子像素區(qū)SP1的一面積比例例如是2/3～1/3。

實(shí)施例中，子像素空白區(qū)內(nèi)不具有彩色濾光層，因此可以提高子像素區(qū)整體的光穿透率及出光量，進(jìn)而可提高應(yīng)用此彩色濾光片的透明液晶顯示器的顯示亮度。

圖2繪示沿剖面線2A-2A’或剖面線2B-2B’的一實(shí)施例的剖視示意圖。本實(shí)施例中與前述實(shí)施例相同或相似的元件是沿用同樣或相似的元件標(biāo)號(hào)，且相同或相似元件的相關(guān)說明請(qǐng)參考前述，在此不再贅述。

如圖2所示，子像素定義層140可包括堆疊設(shè)置的第二洋紅色圖案層141、第二青色圖案層142及第二黃色圖案層143。本實(shí)施例中，以子像素定義層140包括三種不同顏色的圖案層、且青色圖案層142設(shè)置于洋紅色圖案層141和黃色圖案層143之間為例，然實(shí)際應(yīng)用時(shí)可視需要改變子像素定義層140的不同顏色圖案層的數(shù)量與不同顏色的圖案層的堆疊配置方式，不以此為限。

一些實(shí)施例中，第一洋紅色圖案層110、第一青色圖案層120和第一黃色圖案層130中的至少一者的厚度大于或等于子像素定義層140的厚度。舉例而言，如圖2所示，第一洋紅色圖案層110的厚度110T大于子像素定義層140的厚度140T，第一青色圖案層120的厚度120T大于子像素定義層140的厚度140T，第一黃色圖案層130的厚度130T大于子像素定義層140的厚度140T。

一些其他實(shí)施例中，子像素定義層140的厚度140T亦可以大于或等于第一洋紅色圖案層110的厚度110T、第一青色圖案層120的厚度120T和第一黃色圖案層130的厚度130T(未繪示)。

實(shí)施例中，第二洋紅色圖案層141、第二青色圖案層142及第二黃色圖案層143的任兩者的厚度可以是相同或不同。

本實(shí)施例中，如圖2所示，第二洋紅色圖案層141的厚度141T、第二青色圖案層142的厚度142T及第二黃色圖案層143的厚度143T實(shí)質(zhì)上相同。

一些其他實(shí)施例中，由于洋紅色色阻(洋紅色光阻材料)的穿透率相較于青色色阻(青色光阻材料)和黃色色阻(黃色光阻材料)較低，因此第二洋紅色圖案層141的厚度亦可以小于第二青色圖案層142的厚度和/或第二黃色圖案層143的厚度(未繪示)，以增加彩色濾光片的光穿透率。

一些其他實(shí)施例中，由于黃色色阻的穿透率相較于洋紅色色阻和青色色阻較高，因此第二黃色圖案層143的厚度亦可以大于第二洋紅色圖案層141的厚度和/或第二青色圖案層142的厚度(未繪示)，以增加彩色濾光片的光穿透率。

本實(shí)施例中，如圖2所示，第一洋紅色圖案層110、第一青色圖案層120和第一黃色圖案層130的頂表面高于子像素定義層140的頂表面。

圖3繪示沿剖面線2A-2A’或剖面線2B-2B’的另一實(shí)施例的剖視示意圖。本實(shí)施例中與前述實(shí)施例相同或相似的元件沿用同樣或相似的元件標(biāo)號(hào)，且相同或相似元件的相關(guān)說明請(qǐng)參考前述，在此不再贅述。

本實(shí)施例中，如圖3所示，第一洋紅色圖案層110、第一青色圖案層120和第一黃色圖案層130的頂表面與子像素定義層140的頂表面例如是共平面。

本實(shí)施例中，如圖3所示，第一洋紅色圖案層110的厚度110T實(shí)質(zhì)上等于子像素定義層140的厚度140T，第一青色圖案層120的厚度120T實(shí)質(zhì)上等于子像素定義層140的厚度140T，第一黃色圖案層130的厚度130T實(shí)質(zhì)上等于子像素定義層140的厚度140T。

圖4A～圖4K繪示根據(jù)本發(fā)明內(nèi)容的一實(shí)施例的彩色濾光片的制作方法。本實(shí)施例中與前述實(shí)施例相同或相似的元件沿用同樣或相似的元件標(biāo)號(hào)，且相同或相似元件的相關(guān)說明請(qǐng)參考前述，在此不再贅述。于本實(shí)施例中，用以形成彩色濾片光層的彩色光阻材料以負(fù)型光阻為例，然本發(fā)明并不以此為限。

請(qǐng)參照?qǐng)D4A，提供一基板100，基板100具有多個(gè)子像素區(qū)SP1、SP2和SP3以及一子像素定義區(qū)SP，子像素定義區(qū)SP定義此些子像素區(qū)SP1、SP2和SP3的區(qū)域。

接著，請(qǐng)參照?qǐng)D4B～圖4K，形成多個(gè)彩色濾光層于基板100上的子像素區(qū)SP1、SP2和SP3中，以及形成一子像素定義層140于基板100上的子像素定義區(qū)SP。形成彩色濾光層的步驟包括形成第一洋紅色圖案層110、形成第一青色圖案層120和形成第一黃色圖案層130，形成子像素定義層140的步驟包括堆疊設(shè)置第二洋紅色圖案層141、第二青色圖案層142及第二黃色圖案層143中的至少二者。

實(shí)施例中，第一洋紅色圖案層110與第二洋紅色圖案層140例如是同時(shí)形成在基板100上、及/或第一青色圖案層120與第二青色圖案層142例如是同時(shí)形成在基板100上、及/或第一黃色圖案層130與第二黃色圖案層143例如是同時(shí)形成在基板100上。

實(shí)施例中，例如是以三次曝光顯影工藝分別形成第一洋紅色圖案層110與第二洋紅色圖案層141、第一青色圖案層120與第二青色圖案層142、及第一黃色圖案層130與第二黃色圖案層143。

實(shí)施例中，三次曝光顯影工藝?yán)缈梢苑謩e采用三個(gè)光罩進(jìn)行，此三個(gè)光罩分別具有一透光區(qū)、一半透光區(qū)及一遮光區(qū)，且此三個(gè)光罩的透光區(qū)、半透光區(qū)及遮光區(qū)的配置方式彼此為不同。詳細(xì)來說，此三個(gè)曝光顯影工藝所采用的三個(gè)光罩的至少透光區(qū)和遮光區(qū)對(duì)應(yīng)至不同的子像素區(qū)的區(qū)域，而此三個(gè)曝光顯影工藝所采用的三個(gè)光罩的半透光區(qū)均對(duì)應(yīng)于子像素定義區(qū)的區(qū)域。

實(shí)施例中，形成第一洋紅色圖案層110、第一青色圖案層120、第一黃色圖案層130和子像素定義層140的步驟例如可包括以下步驟。

請(qǐng)參照?qǐng)D4B～圖4D，其繪示根據(jù)一些實(shí)施例的形成第一洋紅色圖案層110與第二洋紅色圖案層141的步驟。如圖4B所示，藉由涂布(coating)形成一洋紅色光阻材料層410于基板100上的子像素區(qū)SP1、SP2和SP3和子像素定義區(qū)SP中。

如圖4C所示，提供一第一光罩M1，第一光罩M1具有一第一透光區(qū)M1a、一第一半透光區(qū)M1b及一第一遮光區(qū)M1c，第一透光區(qū)M1a對(duì)應(yīng)于第一洋紅色圖案層110預(yù)定形成的區(qū)域，例如是子像素區(qū)SP1，第一半透光區(qū)M1b對(duì)應(yīng)于子像素定義區(qū)SP。實(shí)施例中，第一遮光區(qū)M1c對(duì)應(yīng)于子像素區(qū)SP2和SP3。

根據(jù)本發(fā)明內(nèi)容的實(shí)施例，各個(gè)光罩均具有透光區(qū)、半透光區(qū)及遮光區(qū)，其中透光區(qū)具有最高的光穿透率，而半透光區(qū)的光穿透率小于透光區(qū)的光穿透率，遮光區(qū)則令光線無法穿過。以下實(shí)施例的各個(gè)光罩均具有相同性質(zhì)，細(xì)節(jié)則不再贅述。

如圖4C～圖4D所示，根據(jù)第一光罩M1對(duì)洋紅色光阻材料層410進(jìn)行一第一曝光顯影工藝，以移除部分的洋紅色光阻材料層410且形成第一洋紅色圖案層110與第二洋紅色圖案層141。如圖4C所示，通過第一光罩M1的光線L會(huì)根據(jù)透光區(qū)、半透光區(qū)及遮光區(qū)的光穿透率不同而對(duì)應(yīng)不同，因此在顯影的過程中，對(duì)應(yīng)洋紅色圖案層的位置(即子像素區(qū)SP1)的洋紅色光阻材料層410因曝曬的光線能量較大而具有較大的厚度110T并形成第一洋紅色圖案層110，對(duì)應(yīng)子像素定義區(qū)SP的位置的洋紅色光阻材料層410因曝曬的光線能量較小而具有較小的厚度141T并形成第二洋紅色圖案層141，對(duì)應(yīng)青色圖案層和黃色圖案層的位置(即子像素區(qū)SP2和SP3)的洋紅色光阻材料層410因未曝曬到光線而會(huì)被除去。

請(qǐng)參照?qǐng)D4E～圖4G，其繪示根據(jù)一些實(shí)施例的形成第一青色圖案層120與第二青色圖案層142的步驟。如圖4E所示，藉由涂布形成一青色光阻材料層420于基板100上的子像素區(qū)SP1、SP2和SP3中和位于子像素定義區(qū)SP的第二洋紅色圖案層141上。

如圖4F所示，提供一第二光罩M2，第二光罩M2具有一第二透光區(qū)M2a、一第二半透光區(qū)M2b及一第二遮光區(qū)M2c，第二透光區(qū)M2a對(duì)應(yīng)于第一青色圖案層120預(yù)定形成的區(qū)域，例如是子像素區(qū)SP2，第二半透光區(qū)M2b對(duì)應(yīng)于子像素定義區(qū)SP。實(shí)施例中，第二遮光區(qū)M2c對(duì)應(yīng)于子像素區(qū)SP1和SP3。

如圖4F～圖4G所示，根據(jù)第二光罩M2對(duì)青色光阻材料層420進(jìn)行一第二曝光顯影工藝，以移除部分的青色光阻材料層420且形成第一青色圖案層120與第二青色圖案層142。如圖4F所示，類似地，通過第二光罩M2的光線L會(huì)根據(jù)透光區(qū)、半透光區(qū)及遮光區(qū)的光穿透率不同而對(duì)應(yīng)不同，因此在顯影的過程中，對(duì)應(yīng)青色圖案層的位置(即子像素區(qū)SP2)的青色光阻材料層420因曝曬的光線能量較大而具有較大的厚度120T并形成第一青色圖案層120，對(duì)應(yīng)子像素定義區(qū)SP的位置的青色光阻材料層420因曝曬的光線能量較小而具有較小的厚度142T并形成第二青色圖案層142，對(duì)應(yīng)洋紅色圖案層和黃色圖案層的位置(即子像素區(qū)SP1和SP3)的青色光阻材料層420因未曝曬到光線而會(huì)被除去。

請(qǐng)參照?qǐng)D4H～圖4J，其繪示根據(jù)一些實(shí)施例的形成第一黃色圖案層130與第二黃色圖案層143的步驟。如圖4H所示，形成一黃色光阻材料層430于基板100上的子像素區(qū)SP1、SP2和SP3中和位于子像素定義區(qū)SP的第二青色圖案層142上。

如圖4I所示，提供一第三光罩M3，第三光罩M3具有一第三透光區(qū)M3a、一第三半透光區(qū)M3b及一第三遮光區(qū)M3c，第三透光區(qū)M3a對(duì)應(yīng)于第一黃色圖案層130預(yù)定形成的區(qū)域，例如是子像素區(qū)SP3，第三半透光區(qū)M3b對(duì)應(yīng)于子像素定義區(qū)SP。實(shí)施例中，第三遮光區(qū)M3c對(duì)應(yīng)于子像素區(qū)SP1和SP2。

如圖4I～圖4J所示，根據(jù)第三光罩M3對(duì)黃色光阻材料層430進(jìn)行一第三曝光顯影工藝，以移除部分的黃色光阻材料層430且形成第一黃色圖案層130與第二黃色圖案層143。如圖4I所示，類似地，通過第三光罩M3的光線L會(huì)根據(jù)透光區(qū)、半透光區(qū)及遮光區(qū)的光穿透率不同而對(duì)應(yīng)不同，因此在顯影的過程中，對(duì)應(yīng)黃色圖案層的位置(即子像素區(qū)SP3)的黃色光阻材料層430因曝曬的光線能量較大而具有較大的厚度130T并形成第一黃色圖案層130，對(duì)應(yīng)子像素定義區(qū)SP的位置的黃色光阻材料層430因曝曬的光線能量較小而具有較小的厚度143T并形成第二黃色圖案層143，對(duì)應(yīng)洋紅色圖案層和青色圖案層的位置(即子像素區(qū)SP1和SP2)的黃色光阻材料層430因未曝曬到光線而會(huì)被除去。

本實(shí)施例中，繪示子像素定義層的厚度實(shí)質(zhì)上等于第一洋紅色圖案層110、第一青色圖案層120和第一黃色圖案層130的厚度，但本發(fā)明并不以此為限。實(shí)質(zhì)上，子像素定義層的厚度及其所包括的各顏色圖案層的數(shù)量和厚度可藉由調(diào)整第一光罩M1、第二光罩M2和第三光罩M3的半穿透區(qū)的光穿透率來改變。

在一實(shí)施例中，請(qǐng)參照?qǐng)D4K，可選擇性的形成一保護(hù)層200于第一洋紅色圖案層110、第一青色圖案層120、第一黃色圖案層130和子像素定義層140上，則形成如圖4K所示的彩色濾光片。保護(hù)層200可為有機(jī)材料或無機(jī)材料。有機(jī)材料可包括環(huán)氧樹脂(Epoxy)及壓克力樹脂(Acrylic)等高分子材料。無機(jī)材料可包括硅氧化物，例如是氧化硅、氮化硅等材料。

當(dāng)然，本發(fā)明還可有其他多種實(shí)施例，在不背離本發(fā)明精神及其實(shí)質(zhì)的情況下，熟悉本領(lǐng)域的技術(shù)人員當(dāng)可根據(jù)本發(fā)明作出各種相應(yīng)的改變和變形，但這些相應(yīng)的改變和變形都應(yīng)屬于本發(fā)明所附的權(quán)利要求的保護(hù)范圍。