本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種陣列基板及其制備方法、顯示面板、顯示裝置。

背景技術(shù)：

目前，液晶顯示裝置(liquidcrystaldisplay，簡(jiǎn)稱lcd)由于具有功耗小、微型化、輕薄等優(yōu)點(diǎn)而得到越來(lái)越廣泛的應(yīng)用。

液晶顯示裝置的結(jié)構(gòu)包括液晶顯示面板和背光源。如圖1和圖2所示，液晶顯示面板包括陣列基板10、彩膜基板20、設(shè)置在陣列基板10和彩膜基板20之間的液晶層(圖1和圖2中未示意出液晶層)以及設(shè)置在陣列基板10上的第一偏光片101和設(shè)置在彩膜基板20上的第二偏光片201。其中，陣列基板10上設(shè)置有控制柵極的柵線(gate線)和控制像素電極的數(shù)據(jù)線(date線)，為了提升像素充電率、降低走線線寬和電阻，柵線和數(shù)據(jù)線一般采用高導(dǎo)電率的金屬材料形成，例如鋁(al)或銅(cu)。

現(xiàn)有技術(shù)中，如圖1所示，一般將彩膜基板20設(shè)置在出光側(cè)，陣列基板10設(shè)置在入光側(cè)。通過(guò)彩膜基板20上的黑矩陣(blackmatrix，簡(jiǎn)稱bm)圖案便可以遮擋像素限定區(qū)，進(jìn)而可以遮擋易發(fā)生反光的金屬圖案(例如柵線、柵極、數(shù)據(jù)線或源漏極)，從而提升產(chǎn)品畫質(zhì)及對(duì)比度。然而，如圖1所示，由于邊框30不僅需要包覆陣列基板10周邊的布線區(qū)(pad區(qū))01，還需要與彩膜基板20上的第二偏光片201有一定的重疊區(qū)域，以保護(hù)cof(chiponfilm，覆晶薄膜)40及防止周邊漏光。由于邊框30覆蓋的區(qū)域較大，從而導(dǎo)致了液晶顯示裝置的整體邊框尺寸較大，無(wú)法實(shí)現(xiàn)窄邊框設(shè)計(jì)。為了實(shí)現(xiàn)超窄邊框或無(wú)邊框，目前通常采用如圖2所示，陣列基板10設(shè)置在出光側(cè)、彩膜基板20設(shè)置在入光側(cè)、cof40向內(nèi)彎折的設(shè)計(jì)，這樣便可以大大縮減邊框30的尺寸，乃至實(shí)現(xiàn)無(wú)邊框的設(shè)計(jì)。

然而，如圖2所示，若將陣列基板10設(shè)置在出光側(cè)，由于陣列基板10上的金屬圖案50具有極高的反射率，因而在強(qiáng)光下易發(fā)生強(qiáng)的反射現(xiàn)象(如圖2中箭頭所示)，從而會(huì)引起產(chǎn)品品質(zhì)和對(duì)比度的下降。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明的實(shí)施例提供一種陣列基板及其制備方法、顯示面板、顯示裝置，可在陣列基板設(shè)置于出光側(cè)時(shí)，防止陣列基板上的金屬圖案對(duì)外界環(huán)境光進(jìn)行反射。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案：

第一方面，提供一種陣列基板，包括顯示區(qū)和非顯示區(qū)，所述顯示區(qū)劃分為像素區(qū)和限定所述像素區(qū)的像素限定區(qū)，所述陣列基板包括襯底基板以及形成在所述襯底基板上、且位于所述像素限定區(qū)的金屬圖案，所述陣列基板還包括形成在所述金屬圖案外側(cè)、且僅位于所述像素限定區(qū)的擋光圖案，沿垂直于所述襯底基板的方向，所述擋光圖案與所述金屬圖案具有重疊區(qū)域；其中，所述擋光圖案用于遮擋可見(jiàn)光，或者，僅允許一個(gè)偏振方向的光透過(guò)；所述擋光圖案的材料為非金屬材料。

優(yōu)選的，所述擋光圖案僅允許一個(gè)偏振方向的光透過(guò)，所述擋光圖案的材料為棒狀量子點(diǎn)材料；其中，所述棒狀量子點(diǎn)的長(zhǎng)軸方向與所述擋光圖案所允許透過(guò)的光的偏振方向相同。

優(yōu)選的，所述擋光圖案用于遮擋可見(jiàn)光，所述擋光圖案的材料為黑色樹脂。

優(yōu)選的，沿垂直于所述襯底基板的方向，所述金屬圖案的邊界在所述擋光圖案的邊界以內(nèi)。

優(yōu)選的，所述擋光圖案形成在所述金屬圖案與所述襯底基板之間。

可選的，所述擋光圖案與所述像素限定區(qū)的形狀和大小相同。

可選的，所述金屬圖案包括位于不同層的第一金屬圖案和第二金屬圖案，所述擋光圖案包括位于不同層的第一擋光圖案和第二擋光圖案；其中，所述第一擋光圖案與所述第一金屬圖案通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成，所述第二擋光圖案與所述第二金屬圖案通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成。

第二方面，提供一種顯示面板，包括陣列基板和彩膜基板，所述陣列基板為上述的陣列基板；其中，若所述擋光圖案僅允許一個(gè)偏振方向的光透過(guò)，所述顯示面板還包括設(shè)置在所述陣列基板上的偏光片，所述擋光圖案所允許透過(guò)的光的偏振方向與所述偏光片的透光軸垂直。

第三方面，提供一種顯示裝置，包括顯示面板和背光源，所述顯示面板為上述的顯示面板；其中，所述顯示面板中的彩膜基板相對(duì)于陣列基板靠近所述背光源。

第四方面，提供一種陣列基板的制備方法，包括：在襯底基板上形成擋光薄膜，并通過(guò)構(gòu)圖工藝在像素限定區(qū)形成擋光圖案；其中，所述擋光圖案用于遮擋可見(jiàn)光，或者，僅允許一個(gè)偏振方向的光透過(guò)；所述擋光圖案的材料為非金屬材料；形成金屬圖案；沿垂直于所述襯底基板的方向，所述擋光圖案與所述金屬圖案具有重疊區(qū)域。

第五方面，提供一種陣列基板的制備方法，包括:在襯底基板上依次形成第一擋光薄膜和第一金屬薄膜，并對(duì)所述第一擋光薄膜和第一金屬薄膜同時(shí)構(gòu)圖，以形成層疊的第一擋光圖案和第一金屬圖案，所述第一金屬圖案為柵線、柵極；和/或，在襯底基板上依次形成第二擋光薄膜和第二金屬薄膜，并對(duì)所述第二擋光薄膜和第二金屬薄膜同時(shí)構(gòu)圖，以形成層疊的第二擋光圖案和第二金屬圖案，所述第二金屬圖案為數(shù)據(jù)線、源漏極。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種陣列基板及其制備方法、顯示面板、顯示裝置，在金屬圖案的外側(cè)形成有擋光圖案，且擋光圖案的材料為非金屬材料，若陣列基板設(shè)置于顯示面板的出光側(cè)時(shí)，由于擋光圖案用于遮擋可見(jiàn)光，或者，僅允許一個(gè)偏振方向的光透過(guò)，因而當(dāng)擋光圖案用于遮光可見(jiàn)光時(shí)，此時(shí)擋光圖案可以防止光照射到與擋光圖案具有重疊區(qū)域的金屬圖案上，從而可以避免與擋光圖案具有重疊區(qū)域的金屬圖案發(fā)生反射，進(jìn)而能夠避免降低產(chǎn)品的品質(zhì)和對(duì)比度；當(dāng)擋光圖案僅允許一個(gè)偏振方向的光透過(guò)時(shí)，在陣列基板上設(shè)置有偏光片的情況下，透過(guò)陣列基板上的偏光片的光為線偏振光，在此基礎(chǔ)上，由于偏光片的透光軸與擋光圖案所允許透過(guò)的光的偏振方向垂直，此時(shí)經(jīng)過(guò)偏光片的線偏振光照射到擋光圖案上時(shí)，便會(huì)被擋光圖案阻擋，因而光便不能照射到與擋光圖案具有重疊區(qū)域的金屬圖案上，從而可以避免與擋光圖案具有重疊區(qū)域的金屬圖案產(chǎn)生反射現(xiàn)象，以避免降低產(chǎn)品的品質(zhì)和對(duì)比度。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見(jiàn)地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為現(xiàn)有技術(shù)提供的一種液晶顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖一；

圖2為現(xiàn)有技術(shù)提供的一種液晶顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖二；

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖一；

圖4(a)為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖二；

圖4(b)為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖三；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種液晶顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本發(fā)明實(shí)施例提供一種陣列基板的制備方法的流程示意圖；

圖7(a)為本發(fā)明實(shí)施例提供一種在陣列基板的像素限定區(qū)形成擋光圖案的結(jié)構(gòu)示意圖一；

圖7(b)為本發(fā)明實(shí)施例提供一種在陣列基板的像素限定區(qū)形成擋光圖案的結(jié)構(gòu)示意圖二；

圖8為圖7(a)aa′向剖視示意圖或圖7(b)bb′向剖視示意圖；

圖9為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種在襯底基板上形成擋光圖案和金屬圖案的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖10為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種在襯底基板上形成第一擋光薄膜和第一金屬薄膜的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)記：

01-布線區(qū)；02-顯示區(qū)；03-像素區(qū)；04-像素限定區(qū)；10-陣列基板；101-第一偏光片(偏光片)；20-彩膜基板；201-第二偏光片；30-邊框；40-cof；50-金屬圖案；60-襯底基板；70-擋光圖案；80-液晶層；90-第一擋光薄膜；100-第一金屬薄膜。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種陣列基板10，如圖3所示，包括顯示區(qū)02和非顯示區(qū)(即布線區(qū)01)，顯示區(qū)02劃分為像素區(qū)03和限定像素區(qū)03的像素限定區(qū)04，如圖4(a)和圖4(b)所示，陣列基板10包括襯底基板60以及形成在襯底基板60上、且位于像素限定區(qū)04的金屬圖案50，陣列基板10還包括形成在金屬圖案50外側(cè)、且僅位于像素限定區(qū)04的擋光圖案70，沿垂直于襯底基板60的方向，擋光圖案70與金屬圖案50具有重疊區(qū)域；其中，擋光圖案70用于遮擋可見(jiàn)光，或者，僅允許一個(gè)偏振方向的光透過(guò)；擋光圖案70的材料為非金屬材料。

需要說(shuō)明的是，第一，像素區(qū)03為顯示區(qū)02中可透光的區(qū)域，也可稱為開口區(qū)域，顯示區(qū)02中除像素區(qū)03以外的其他區(qū)域?yàn)橄袼叵薅▍^(qū)04，也即指顯示區(qū)02中不透光的區(qū)域。

第二，陣列基板10包括薄膜晶體管和像素電極，薄膜晶體管包括柵極、柵絕緣層、源極和漏極，漏極與像素電極電連接。陣列基板10還包括交叉且絕緣設(shè)置的柵線和數(shù)據(jù)線。當(dāng)然，陣列基板10還可以包括公共電極。本發(fā)明說(shuō)明書附圖中的陣列基板10僅示意出與本發(fā)明的發(fā)明點(diǎn)有關(guān)的膜層，對(duì)于其它膜層并未示意出。對(duì)于陣列基板10上的金屬圖案50的類型不進(jìn)行限定，例如金屬圖案50可以是指柵線、柵極、數(shù)據(jù)線、源漏極中的至少一個(gè)。

第三，顯示面板包括陣列基板10以及與陣列基板10對(duì)盒的彩膜基板20，如圖5所示，此處，金屬圖案50的外側(cè)指的是金屬圖案50遠(yuǎn)離彩膜基板20的一側(cè)，金屬圖案50靠近彩膜基板20的一側(cè)即為金屬圖案50的內(nèi)側(cè)。在此基礎(chǔ)上，擋光圖案70形成在金屬圖案50的外側(cè)，可以是如圖4(a)所示，擋光圖案70形成在金屬圖案50和襯底基板60之間，也可以是如圖4(b)所示，擋光圖案70形成在襯底基板60背離金屬圖案50的一側(cè)。

第四，沿垂直于襯底基板60的方向，擋光圖案70與金屬圖案50具有重疊區(qū)域，可以是沿垂直于襯底基板60的方向，金屬圖案50的一部分與擋光圖案70重疊，也可以是沿垂直于襯底基板60的方向，金屬圖案50全部與擋光圖案70重疊。

第五，當(dāng)擋光圖案70用于遮擋可見(jiàn)光時(shí)，此時(shí)擋光圖案70的材料可以和彩膜基板20上黑矩陣圖案的材料相同，例如可以為黑色樹脂，由于擋光圖案70的材料為非金屬材料，因此擋光圖案70不會(huì)對(duì)光進(jìn)行反射(對(duì)于擋光圖案70反射的少量的光可以忽略)，且擋光圖案70可以阻擋光照射到與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50上，進(jìn)而防止與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50發(fā)生反射；當(dāng)擋光圖案70僅允許一個(gè)偏振方向的光透過(guò)時(shí)，此時(shí)擋光圖案70的作用與偏光片的作用相同，透過(guò)擋光圖案70的光為線偏振光。

此處，若擋光圖案70僅與部分金屬圖案50具有重疊區(qū)域，則在擋光圖案70用于遮光可見(jiàn)光時(shí)，擋光圖案70不僅可以阻擋光照射到與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50上，還可以阻擋部分與擋光圖案70未有重疊區(qū)域的金屬圖案50反射的光。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種陣列基板10，在金屬圖案50的外側(cè)形成有擋光圖案70，且擋光圖案70的材料為非金屬材料，若陣列基板10設(shè)置于顯示面板的出光側(cè)時(shí)，由于擋光圖案70用于遮擋可見(jiàn)光，或者，僅允許一個(gè)偏振方向的光透過(guò)，因而當(dāng)擋光圖案70用于遮光可見(jiàn)光時(shí)，此時(shí)擋光圖案70可以防止光照射到與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50上，從而可以避免與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50發(fā)生反射，進(jìn)而能夠避免降低產(chǎn)品的品質(zhì)和對(duì)比度；當(dāng)擋光圖案70僅允許一個(gè)偏振方向的光透過(guò)時(shí)，在陣列基板10上設(shè)置有偏光片的情況下，透過(guò)陣列基板10上的偏光片的光為線偏振光，在此基礎(chǔ)上，由于偏光片的透光軸與擋光圖案70所允許透過(guò)的光的偏振方向垂直，此時(shí)經(jīng)過(guò)偏光片的線偏振光照射到擋光圖案70上時(shí)，便會(huì)被擋光圖案70阻擋，因而光便不能照射到與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50上，從而可以避免與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50產(chǎn)生反射現(xiàn)象，以避免降低產(chǎn)品的品質(zhì)和對(duì)比度。

優(yōu)選的，擋光圖案70僅允許一個(gè)偏振方向的光透過(guò)，擋光圖案70的材料為棒狀量子點(diǎn)材料；其中，棒狀量子點(diǎn)的長(zhǎng)軸方向與擋光圖案70所允許透過(guò)的光的偏振方向相同。

此處，當(dāng)棒狀量子點(diǎn)的長(zhǎng)軸按照一定的方向排布形成棒狀量子點(diǎn)層(即擋光圖案70)時(shí)，此時(shí)棒狀量子點(diǎn)層具有方向選擇性，棒狀量子點(diǎn)層允許與棒狀量子點(diǎn)的長(zhǎng)軸方向平行的光透過(guò)，因此當(dāng)擋光圖案70的材料為棒狀量子點(diǎn)材料，透過(guò)擋光圖案70的光為線偏振光。

本發(fā)明實(shí)施例，由于擋光圖案70僅允許一個(gè)偏振方向的光透過(guò)，在擋光圖案70與偏光片結(jié)合使用，且偏光片的透光軸與擋光圖案70所允許透過(guò)的光的偏振方向垂直時(shí)，透過(guò)陣列基板10上的偏光片的光在射到擋光圖案70時(shí)，會(huì)被阻擋射到與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50上，從而防止了金屬圖案50反射。

優(yōu)選的，擋光圖案70用于遮擋可見(jiàn)光，擋光圖案70的材料為黑色樹脂。

其中，當(dāng)擋光圖案70用于遮擋可見(jiàn)光時(shí)，擋光圖案70的材料可以和黑矩陣圖案的材料相同，例如為黑色樹脂。

本發(fā)明實(shí)施例，當(dāng)擋光圖案70的材料為黑色樹脂時(shí)，黑色樹脂可以防止光照射到與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50上，從而可以避免與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50發(fā)生反射。進(jìn)一步的，當(dāng)擋光圖案70與像素限定區(qū)04的形狀和大小相同時(shí)，此時(shí)擋光圖案70可相當(dāng)于彩膜基板20上的黑矩陣圖案。

優(yōu)選的，如圖4(a)和圖4(b)所示，沿垂直于襯底基板60的方向，金屬圖案50的邊界在擋光圖案70的邊界以內(nèi)。

其中，沿垂直于襯底基板60的方向，金屬圖案50的邊界在擋光圖案70的邊界以內(nèi)，可以是金屬圖案50的邊界與擋光圖案70的邊界重合，也可以是擋光圖案70的邊界包圍金屬圖案50的邊界。

本發(fā)明實(shí)施例，由于沿垂直于襯底基板60的方向，金屬圖案50的邊界在擋光圖案70的邊界以內(nèi)，因此擋光圖案70可以對(duì)金屬圖案50完全遮擋，防止外界環(huán)境光照射到金屬圖案50上發(fā)生反射。

本發(fā)明實(shí)施例，若將擋光圖案70形成在襯底基板60遠(yuǎn)離金屬圖案50的一側(cè)，若陣列基板10上還需要形成偏光片，則偏光片會(huì)形成在擋光圖案70上，而擋光圖案70只在像素限定區(qū)04形成，因而將偏光片形成在擋光圖案70上，可能會(huì)導(dǎo)致偏光片不平坦，進(jìn)而影響了液晶顯示面板的性能?；诖?，本發(fā)明實(shí)施例優(yōu)選的，如圖4(a)所示，擋光圖案70形成在金屬圖案50與襯底基板60之間。

可選的，擋光圖案70與像素限定區(qū)04的形狀和大小相同。

需要說(shuō)明的是，擋光圖案70與像素限定區(qū)04的形狀和大小相同，此處的相同可以是指完全相同，也可以是指近似相同。

本發(fā)明實(shí)施例，由于擋光圖案70與像素限定區(qū)04的形狀和大小相同或近似相同，因此一方面，擋光圖案70可以對(duì)像素限定區(qū)04全部進(jìn)行遮擋，避免外界環(huán)境光到像素限定區(qū)04時(shí)，位于像素限定區(qū)04內(nèi)的圖案對(duì)光進(jìn)行反射；另一方面，無(wú)論陣列基板10上的金屬圖案50有多少種，由于擋光圖案70與像素限定區(qū)04的形狀和大小相同或近似相同，因此只需制作一層擋光圖案70，便可以對(duì)所有的金屬圖案50進(jìn)行遮擋，相對(duì)于在每種金屬圖案50的外側(cè)都制作擋光圖案70，可簡(jiǎn)化陣列基板10的制作工藝。

可選的，金屬圖案50包括位于不同層的第一金屬圖案和第二金屬圖案，擋光圖案70包括位于不同層的第一擋光圖案和第二擋光圖案；其中，第一擋光圖案與第一金屬圖案通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成，第二擋光圖案與第二金屬圖案通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成。

此處，對(duì)于第一金屬圖案和第二金屬圖案的類型不進(jìn)行限定，示例的，可以是第一金屬圖案為柵線和柵極，第二金屬圖案為數(shù)據(jù)線和源漏極；也可以是第一金屬圖案為數(shù)據(jù)線和源漏極，第二金屬圖案為柵線和柵極。

本發(fā)明實(shí)施例，由于第一擋光圖案與第一金屬圖案通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成，因此第一擋光圖案和第一金屬圖案的形狀和尺寸相同，當(dāng)陣列基板10設(shè)置在液晶顯示面板的出光側(cè)時(shí)，第一擋光圖案可以對(duì)第一金屬圖案進(jìn)行完全遮擋，防止光照射到第一金屬圖案上，第一金屬圖案發(fā)生反射現(xiàn)象；同理，由于第二擋光圖案與第二金屬圖案通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成，因此第二擋光圖案和第二金屬圖案的形狀和尺寸相同，當(dāng)陣列基板10設(shè)置在顯示面板的出光側(cè)時(shí)，第二擋光圖案可以對(duì)第二金屬圖案進(jìn)行完全遮擋，防止光照射到第二金屬圖案上，第二金屬圖案發(fā)生反射現(xiàn)象。

在此基礎(chǔ)上，由于第一擋光圖案與第一金屬圖案通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成，第二擋光圖案與第二金屬圖案通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成，因此可以簡(jiǎn)化陣列基板的制作工藝。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示面板，如圖5所示，包括陣列基板10和彩膜基板20，陣列基板10為上述的陣列基板；其中，若擋光圖案70僅允許一個(gè)偏振方向的光透過(guò)，顯示面板還包括設(shè)置在陣列基板10上的偏光片101，擋光圖案70所允許透過(guò)的光的偏振方向與偏光片101的透光軸垂直。

其中，如圖5所示，液晶顯示面板除包括陣列基板10和彩膜基板20外，還包括填充在陣列基板10和彩膜基板20之間的液晶層80。此處，當(dāng)陣列基板10設(shè)置在液晶顯示面板的出光側(cè)時(shí)，此時(shí)彩膜基板20可以和現(xiàn)有技術(shù)中的彩膜基板20相同，包括彩色膜層和黑矩陣圖案。當(dāng)然，當(dāng)擋光圖案70的材料為黑色樹脂，且擋光圖案70的形狀和大小與像素限定區(qū)01的形狀和大小相同時(shí)，優(yōu)選的，由于陣列基板10上已經(jīng)制作了擋光圖案70，此時(shí)，彩膜基板20上的黑矩陣圖案可以省略，以簡(jiǎn)化顯示面板的制作工藝。

需要說(shuō)明的是，本發(fā)明說(shuō)明書附圖5僅示意出與本發(fā)明的發(fā)明點(diǎn)有關(guān)的結(jié)構(gòu)，對(duì)于其它結(jié)構(gòu)并未示意出。本發(fā)明說(shuō)明書及說(shuō)明書附圖中設(shè)置在陣列基板10上的偏光片101即指第一偏光片101。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示面板，顯示面板包括陣列基板10，陣列基板10上的金屬圖案50的外側(cè)形成有擋光圖案70，且擋光圖案70的材料為非金屬材料，若陣列基板10設(shè)置于顯示面板的出光側(cè)時(shí)，由于擋光圖案70用于遮擋可見(jiàn)光，或者，僅允許一個(gè)偏振方向的光透過(guò)，因而當(dāng)擋光圖案70用于遮光可見(jiàn)光時(shí)，此時(shí)擋光圖案70可以防止光照射到與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50上，從而可以避免與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50發(fā)生反射，進(jìn)而能夠避免降低產(chǎn)品的品質(zhì)和對(duì)比度；當(dāng)擋光圖案70僅允許一個(gè)偏振方向的光透過(guò)時(shí)，由于陣列基板10上設(shè)置有偏光片101，因此經(jīng)過(guò)陣列基板10上偏光片101的光為線偏振光，在此基礎(chǔ)上，由于偏光片101的透光軸與擋光圖案70所允許透過(guò)的光的偏振方向垂直，因此透光偏光片101的線偏振光照射到擋光圖案70上時(shí)，便會(huì)被擋光圖案70阻擋，從而光便不能照射到與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50上，進(jìn)而可以避免與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50產(chǎn)生反射現(xiàn)象，以避免降低產(chǎn)品的品質(zhì)和對(duì)比度。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示裝置，包括顯示面板和背光源，顯示面板為上述的顯示面板；其中，顯示面板中的彩膜基板20相對(duì)于陣列基板10靠近背光源。

此處，顯示面板中的彩膜基板20相對(duì)陣列基板10靠近背光源，即彩膜基板20設(shè)置在顯示面板的入光側(cè)，陣列基板10設(shè)置在顯示面板的出光側(cè)。采用將陣列基板10設(shè)置在顯示面板的出光側(cè)，彩膜基板20設(shè)置在顯示面板的入光側(cè)，可以減小邊框的尺寸，從而可以使顯示裝置實(shí)現(xiàn)窄邊框、乃至無(wú)邊框設(shè)計(jì)，增加顯示裝置的競(jìng)爭(zhēng)力。

本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示裝置可以是顯示不論運(yùn)動(dòng)(例如，視頻)還是固定(例如，靜止圖像)的且不論文字還是圖畫的圖像的任何裝置。更明確地說(shuō)，預(yù)期所述實(shí)施例可實(shí)施在多種電子裝置中或與多種電子裝置關(guān)聯(lián)，所述多種電子裝置例如(但不限于)移動(dòng)電話、無(wú)線裝置、個(gè)人數(shù)據(jù)助理(pda)、手持式或便攜式計(jì)算機(jī)、gps接收器/導(dǎo)航器、相機(jī)、mp3播放器、攝像機(jī)、游戲控制臺(tái)、手表、時(shí)鐘、計(jì)算器、電視監(jiān)視器、平板顯示器、計(jì)算機(jī)監(jiān)視器、汽車顯示器(例如，里程表顯示器等)、導(dǎo)航儀、座艙控制器和/或顯示器、相機(jī)視圖的顯示器(例如，車輛中后視相機(jī)的顯示器)、電子相片、電子廣告牌或指示牌、投影儀、建筑結(jié)構(gòu)、包裝和美學(xué)結(jié)構(gòu)(例如，對(duì)于一件珠寶的圖像的顯示器)等，還可以是液晶顯示面板等顯示部件。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示裝置，由于顯示裝置包括陣列基板10，而陣列基板10的金屬圖案50的外側(cè)形成有擋光圖案70，且擋光圖案70的材料為非金屬材料，若陣列基板10設(shè)置于顯示面板的出光側(cè)時(shí)，由于擋光圖案70用于遮擋可見(jiàn)光，或者，僅允許一個(gè)偏振方向的光透過(guò)，因而擋光圖案70可以防止光照射到與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50上，從而可以避免與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50發(fā)生反射，進(jìn)而能夠避免降低產(chǎn)品的品質(zhì)和對(duì)比度。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種陣列基板的制備方法，如圖6所示，包括：

s100、如圖7和圖8所示，在襯底基板60上形成擋光薄膜，并通過(guò)構(gòu)圖工藝在像素限定區(qū)04形成擋光圖案70；其中，擋光圖案70用于遮擋可見(jiàn)光，或者，僅允許一個(gè)偏振方向的光透過(guò)；擋光圖案70的材料為非金屬材料。

其中，對(duì)于擋光圖案70的大小和形狀不進(jìn)行限定，可以是如圖7(a)所示，擋光圖案70的大小和形狀與像素限定區(qū)04的大小和形狀相同或近似相同，也可以是如圖7(b)所示，沿垂直于襯底基板60的方向，只要和以下步驟s101中形成的金屬圖案50具有重疊區(qū)域即可。

此處，可以利用蒸鍍工藝在襯底基板60上形成一層擋光薄膜，在通過(guò)曝光、顯影、刻蝕工藝在像素限定區(qū)04形成擋光圖案70。當(dāng)擋光圖案70的材料為棒狀量子點(diǎn)材料時(shí)，棒狀量子點(diǎn)的長(zhǎng)軸按照一定方向排布。在后續(xù)工序中，若需要貼附偏光片，偏光片的透光軸與棒狀量子點(diǎn)的長(zhǎng)軸方向垂直。

s101、如圖9所示，形成金屬圖案50；沿垂直于襯底基板60的方向，擋光圖案70與金屬圖案50具有重疊區(qū)域。

其中，形成金屬圖案50具體過(guò)程為：先形成一層金屬薄膜，再在金屬薄膜上涂覆光刻膠，并選取相應(yīng)的掩膜板進(jìn)行曝光工藝，之后再經(jīng)過(guò)顯影、刻蝕工藝，便可以形成金屬圖案50。

需要說(shuō)明的是，若陣列基板包括位于不同層的多種金屬圖案50時(shí)，當(dāng)擋光圖案70的大小和形狀與像素限定區(qū)04的大小和形狀相同或近似相同時(shí)，由于擋光圖案70完全遮擋像素限定區(qū)04，因而擋光圖案70可以對(duì)多種金屬圖案50進(jìn)行遮擋，因此只需在步驟s101之后再形成其它種金屬圖案50即可；若擋光圖案70的尺寸較小，只能與一層金屬圖案50具有重疊區(qū)域，則可以重復(fù)步驟s100和步驟s101，以使每一層金屬圖案50都與一層擋光圖案70具有重疊區(qū)域。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種陣列基板的制備方法，在金屬圖案50的外側(cè)形成有擋光圖案70，且擋光圖案70的材料為非金屬材料，若陣列基板10設(shè)置于顯示面板的出光側(cè)時(shí)，因而當(dāng)擋光圖案70用于遮光可見(jiàn)光時(shí)，此時(shí)擋光圖案70可以防止光照射到與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50上，從而可以避免與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50發(fā)生反射，進(jìn)而能夠避免降低產(chǎn)品的品質(zhì)和對(duì)比度；當(dāng)擋光圖案70僅允許一個(gè)偏振方向的光透過(guò)時(shí)，在陣列基板10上設(shè)置有偏光片101的情況下，透過(guò)陣列基板10上的偏光片101的光為線偏振光，在此基礎(chǔ)上，由于偏光片101的透光軸與擋光圖案70所允許透過(guò)的光的偏振方向垂直，此時(shí)經(jīng)過(guò)偏光片的線偏振光照射到擋光圖案70上時(shí)，便會(huì)被擋光圖案70阻擋，因而光便不能照射到與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50上，從而可以避免與擋光圖案70具有重疊區(qū)域的金屬圖案50產(chǎn)生反射現(xiàn)象，以避免降低產(chǎn)品的品質(zhì)和對(duì)比度。

本發(fā)明實(shí)施例還提供一種陣列基板的制備方法，包括:

如圖10所示，在襯底基板60上依次形成第一擋光薄膜90和第一金屬薄膜100，并對(duì)第一擋光薄膜90和第一金屬薄膜100同時(shí)構(gòu)圖，如圖4(a)所示，以形成層疊的第一擋光圖案和第一金屬圖案，第一金屬圖案為柵線、柵極；和/或，在襯底基板60上依次形成第二擋光薄膜和第二金屬薄膜，并對(duì)第二擋光薄膜和第二金屬薄膜同時(shí)構(gòu)圖，以形成層疊的第二擋光圖案和第二金屬圖案，第二金屬圖案為數(shù)據(jù)線、源漏極。

其中，可以在襯底基板60上僅形成第一金屬圖案和第二擋光圖案，也可以在襯底基板60上僅形成第二金屬圖案和第二擋光圖案，當(dāng)然也可以是，在襯底基板60上既形成第一金屬圖案、第一擋光圖案，又形成第二金屬圖案、第二擋光圖案。當(dāng)在襯底基板60上既形成第一金屬圖案和第一擋光圖案，又形成第二金屬圖案和第二擋光圖案時(shí)，對(duì)于第一金屬圖案、第一擋光圖案和第二金屬圖案、第二擋光圖案的形成順序不進(jìn)行限定，可以在襯底基板60上先形成第一擋光圖案和第一金屬圖案，也可以先形成第二擋光圖案和第二金屬圖案。

此處，對(duì)第一擋光薄膜90和第一金屬薄膜100構(gòu)圖，具體包括對(duì)第一擋光薄膜90和第一金屬薄膜100進(jìn)行曝光、顯影和刻蝕工藝，以形成層疊的第一擋光圖案和第一金屬圖案。同理，對(duì)第二擋光薄膜和第二金屬薄膜構(gòu)圖，具體包括對(duì)第二擋光薄膜和第二金屬薄膜進(jìn)行曝光、顯影和刻蝕工藝，以形成層疊的第二擋光圖案和第二金屬圖案。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種陣列基板的制備方法，當(dāng)將陣列基板10設(shè)置顯示面板的出光側(cè)時(shí)，由于第一金屬圖案的外側(cè)形成有第一擋光圖案，當(dāng)?shù)谝粨豕鈭D案用于遮光可見(jiàn)光時(shí)，此時(shí)第一擋光圖案可以防止光照射到第一金屬圖案上，從而避免了第一金屬圖案發(fā)生反射，進(jìn)而能夠避免降低產(chǎn)品的品質(zhì)和對(duì)比度；當(dāng)?shù)谝粨豕鈭D案僅允許一個(gè)偏振方向的光透過(guò)時(shí)，在陣列基板10上設(shè)置有偏光片101的情況下，透過(guò)陣列基板10上的偏光片101的光為線偏振光，由于偏光片101的透光軸與第一擋光圖案所允許透過(guò)的光的偏振方向垂直，此時(shí)經(jīng)過(guò)偏光片的線偏振光照射到第一擋光圖案上時(shí)，便會(huì)被第一擋光圖案阻擋，因而光便不能照射到第一金屬圖案上，從而可以避免第一金屬圖案產(chǎn)生反射現(xiàn)象，以避免降低產(chǎn)品的品質(zhì)和對(duì)比度。同理，第二擋光圖案可以防止光照射到第二金屬圖案上，從而避免了第二金屬圖案發(fā)生反射，進(jìn)而避免降低產(chǎn)品的品質(zhì)和對(duì)比度。

在此基礎(chǔ)上，本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)構(gòu)圖工藝同時(shí)形成第一擋光圖案和第一金屬圖案，和/或同時(shí)形成第二擋光圖案和第二金屬圖案，可以簡(jiǎn)化陣列基板的制作工藝。

以上所述，僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式，但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此，任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi)，可輕易想到變化或替換，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此，本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。