本實用新型涉及一廣角鏡頭模組的測試設備。

背景技術：

科技的日新月異、各種電子產(chǎn)品的發(fā)展，并且隨著移動互聯(lián)網(wǎng)的發(fā)展，以及多媒體信息設備的與日俱增，越來越多的產(chǎn)品或設備對于電子和光學性產(chǎn)品以及零件品質規(guī)格需求不斷的增加，因此對于各種制程的生產(chǎn)效率和品質要求也逐漸增高。特別地是，在各種產(chǎn)品的運用中搭配使用鏡頭設計的產(chǎn)品也因應各種的需求而產(chǎn)生。因此，對于鏡頭的開發(fā)也是一門重要的課題?；旧蠈τ阽R頭的使用方式有大概的分類：標準鏡頭、廣角鏡頭、遠程鏡頭以及魚眼鏡頭等。而這些的鏡頭已經(jīng)不是單純搭配相機使用，它們更進一步地，可以被制成各種的模組，以用于其它的相關產(chǎn)品，像是便攜式或穿載式的電子產(chǎn)品如手機、醫(yī)療電子用品如內窺鏡以及工業(yè)檢測用的產(chǎn)品。

本實用新型是針對廣角鏡頭模組的制程程序中進行改善。因為隨著運動相機、航拍相機等大視場角相機的誕生和推廣，廣角鏡頭模組的需求越來越大；然而，常規(guī)鏡頭模組的調焦工藝無法滿足廣角鏡頭模組的調焦，因此針對廣角鏡頭模組的制程，需要制定一種新的調焦工藝，以滿足其解像力調試及評定。另外，目前廣角鏡頭模組項目使用在暗箱與普通光源環(huán)境下檢測，出現(xiàn)亮度過曝現(xiàn)象，導致檢測圖像模糊不良嚴重，而且檢測時的大光源上下升降范圍會受限并且只能透過手動加墊高塊進行墊高，調節(jié)非常不方便，而小均勻光源則不可滑動，需移動檢測工裝(PCIE)，操作效率低。因此，透過本實用新型以改善上述問題點。

技術實現(xiàn)要素：

本實用新型的主要目的在于提供一廣角鏡頭模組測試設備，其適用于廣角鏡頭模組的檢測和調焦的測試，以解決檢測時亮度過曝和不均勻等問題和調焦不便利性等問題。換言之，所述廣角鏡頭模組測試設備提供大均勻光源以便檢測時避免檢測圖像模糊不清，以及透過高度調節(jié)可適用于各種不同大小視場角的所述廣角鏡頭模組。

本實用新型的另一目的在于提供一廣角鏡頭模組測試設備，其適用于各種不同視場角的所述廣角鏡頭模組檢測和調焦，其中視場角為94°至165°(DFOV)。另外，所述廣角鏡頭模組測試設備亦適用于各種不同AT距離(對焦距離)的所述廣角鏡頭模組檢測和調焦。

本實用新型的另一目的在于提供一廣角鏡頭模組測試設備，其提供合適光源以滿足了所述廣角鏡頭模組的測試環(huán)境。

本實用新型的另一目的在于提供一廣角鏡頭模組測試設備，其定制反畸變標版，以解決所述廣角鏡頭模組在測試解像力時大畸變引起的常規(guī)CTF標版四角解像力無法測試問題。

本實用新型的另一目的在于提供一廣角鏡頭模組測試設備，其對于AT距離較大的所述廣角鏡頭模組，定制專用增距鏡，以縮短實際測試距離，實現(xiàn)了所述廣角鏡頭模組的調焦。

本實用新型的另一目的在于提供一廣角鏡頭模組測試設備，其能夠適合于不同光如可見光或紅外光廣角鏡頭模組的測試。

為了達到以上目的，本實用新型提供一廣角鏡頭模組的測試設備，其包括：

一工作臺；

一測試工裝，其設置于所述工作臺，且待測試的所述廣角鏡頭模組被放置于所述測試工裝上；以及

一均勻光源組件，其設置于所述工作臺上并位于所述測試工裝上方，以提供均勻光源。

在一些實施例中，其還包括一機架，用于支撐所述工作臺，所述機架包括一機架本體，和分別設置于機架本體下方的一移動單元和一調整單元，以便于移動和調節(jié)所述廣角鏡頭模組測試設備的水平度。

在一些實施例中，其還包括一污壞點測試工裝，其可移動地設置于所述工作臺上并位于所述測試工裝上方。

在一些實施例中，其包括一控制箱，其被放置于所述機架上或所述工作臺上，以用于控制所述廣角鏡頭模組的測試設備。

在一些實施例中，其包括設置于所述均勻光源組件上的一防護罩。

在一些實施例中，其包括被整平放置于所述均勻光源組件下方的一反畸變標版。

在一些實施例中，其包括架設于所述廣角鏡頭模組上方的一增距鏡。

在一些實施例中，其所述工作臺包括一臺面本體和設置于所述臺面本體上的一滑軌，其中所述污壞點測試工裝透過所述滑軌與所述測試工裝相連。

在一些實施例中，其所述測試工裝包括一出圖工裝，一第一滑塊以及一第二滑塊，其中所述出圖工裝位于所述第一滑塊和所述第二滑塊之間，這樣當所述廣角鏡頭模組被設置于所述出圖工裝上時，通過調節(jié)所述第一滑塊的相對位置，以滿足不同長度的所述廣角鏡頭模組的固定需求，通過調節(jié)所述第二滑塊的相對位置，以調整所述廣角鏡頭模組中心與所述污壞點測試工裝的相對位置和調整所述廣角鏡頭模組的鏡片中心與所述增距鏡中心使保持一致。

在一些實施例中，其所述污壞點測試工裝包括一光源裝置以提供一污壞點測試均勻光源，裝置于所述光源裝置上的一軸承，安裝于所述軸承上的一絲桿螺母，連接于所述絲桿螺母的一絲桿，鎖固于所述工作臺的一固定板，分別鎖固于所述固定板上的三固定塊，位于所述光源裝置和所述固定塊之間的兩導柱，分別裝置于所述兩導柱上的兩滾珠導套，以及位于所述光源裝置上的一定位板，這樣所述廣角鏡頭模組在進行檢測時，所述污壞點測試工裝根據(jù)需求進行與所述廣角鏡頭模組的相對高度調整。

在一些實施例中，其所述均勻光源組件包括一電機，二電機同步輪，一電機同步帶，二滾珠絲桿，三絲桿同步輪，一絲桿同步帶，一漲緊輪，一均勻光源裝置，以及四導向軸，其中所述二電機同步輪分別被安裝于所述電機和所述二滾珠絲桿其一的底端，所述二電機同步輪通過所述電機同步帶相連，所述三絲桿同步輪和所述漲緊輪通過所述絲桿同步帶相連，所述均勻光源裝置于所述滾珠絲桿，并由所述四導向軸協(xié)同支撐，這樣當所述電機帶動所述二滾珠絲桿轉動時，通過控制所述電機的正反轉實現(xiàn)所述均勻光源裝置的升降。

在一些實施例中，其所述均勻光源裝置提供1200x900mm的大均勻光源。

在一些實施例中，其所述廣角鏡頭模組視場角為94°-165°。

為了達到以上目的，本實用新型還提供一廣角鏡頭模組調焦測試方法，包括如下步驟：所述廣角鏡頭模組拍攝一反畸變標版得到至少一測試圖像并基于所述測試圖像進行調焦。

在一些實施例中，所述反畸變標版設置在一大均勻光源下方，其尺寸為1200x900mm。

在一些實施例中，所述廣角鏡頭模組視場角范圍是94°-165°。

在一些實施例中，還包括步驟：通過至少一增距鏡以縮短實際測試距離。更具體地，可以是對焦距離大于750mm的所述廣角鏡頭模組，則利用定制專用的所述增距鏡。

在一些實施例中，還包括步驟：通過至少一電機的正反轉，實現(xiàn)組裝有所述大均勻光源的光源架的升降。更具體地，所述電機桿通過一同步帶帶動兩側的至少一絲桿轉動，所述絲桿的轉動驅動所述光源架的升降。

附圖說明

圖1是根據(jù)本實用新型的一個優(yōu)選實施例的一廣角鏡頭模組測試設備的透視圖。

圖2是根據(jù)本實用新型的一個優(yōu)選實施例的一廣角鏡頭模組測試設備的一測試工裝的透視圖。

圖3和圖4是根據(jù)本實用新型的一個優(yōu)選實施例的一廣角鏡頭模組測試設備的一測試工裝的部份零件拆解透視圖。

圖5是根據(jù)本實用新型的一個優(yōu)選實施例的一廣角鏡頭模組測試設備的一污壞點測試工裝的爆炸視圖。

圖6是根據(jù)本實用新型的一個優(yōu)選實施例的一廣角鏡頭模組測試設備的一測試工裝和一污壞點測試工裝以及一工作臺的相對應關系透視圖。

圖7是根據(jù)本實用新型的一個優(yōu)選實施例的一廣角鏡頭模組測試設備的一均勻光源組件的透視圖。

圖8是根據(jù)本實用新型的一個優(yōu)選實施例的一廣角鏡頭模組測試設備的一反畸變標版的示意圖。

圖9是根據(jù)本實用新型的一個優(yōu)選實施例的一廣角鏡頭模組測試設備的一增距鏡的示意圖，說明一個1.2m的所述廣角鏡頭模組與所述增距鏡的架設關系。

具體實施方式

以下描述用于揭露本實用新型以使本領域技術人員能夠實現(xiàn)本實用新型。以下描述中的優(yōu)選實施例只作為舉例，本領域技術人員可以想到其他顯而易見的變型。在以下描述中界定的本實用新型的基本原理可以應用于其他實施方案、變形方案、改進方案、等同方案以及沒有背離本實用新型的精神和范圍的其他技術方案。

本領域技術人員應理解的是，在本實用新型的揭露中，術語“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”“內”、“外”等指示的方位或位置關系是基于附圖所示的方位或位置關系，其僅是為了便于描述本實用新型和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此上述術語不能理解為對本實用新型的限制。

可以理解的是，術語“一”應理解為“至少一”或“一個或多個”，即在一個實施例中，一個元件的數(shù)量可以為一個，而在另外的實施例中，該元件的數(shù)量可以為多個，術語“一”不能理解為對數(shù)量的限制。

如圖1至圖9所示，是根據(jù)本實用新型的一優(yōu)選實施例的一廣角鏡頭模組測試設備，以用于對一廣角鏡頭模組100的制程工序中進行調焦和檢測。所述廣角鏡頭模組測試設備可提供大均勻光源為1200x900mm，且大面積光源以及所述設備的可調高度適用于視場角94°～165°(DFOV)范圍的廣角鏡頭模組。另外，所述廣角鏡頭模組測試設備可以補償所述廣角鏡頭模組100的大視場角所引起的大畸變，同時亦可適用于AT距離最大的所述廣角鏡頭模組100?？梢岳斫獾氖?，所述廣角鏡頭模組的整個測試過程可以在一暗箱中進行。

根據(jù)本實用新型的實施例，所述廣角鏡頭模組測試設備包括一機架10，一工作臺20，一測試工裝30，一污壞點測試工裝40，一控制箱50，一均勻光源組件60，以及一防護罩70。所述工作臺20位于所述機架10上方，由所述機架10所支撐，其中所述工作臺20用于置放所述測試工裝30和所以污壞點測試工裝40，故所述工作臺20被制成一平面。所述測試工裝30設置于所述工作臺20上，其中待測試的所述廣角鏡頭模組100被放置于所述測試工裝30上。所述污壞點測試工裝40可移動地設置于所述工作臺20上并位于所述測試工裝30上方。所述控制箱50放置于所述機架10上，亦可置放于所述工作臺20上。所述均勻光源組件60設置于所述工作臺20上并位于所述測試工裝30和所述污壞點測試工裝40上方，以提供大均勻光源。所述防護罩70設置于所述均勻光源組件60上。換言之，所述工作臺20、所述測試工裝30、所述污壞點測試工裝40、所述控制箱50、所述均勻光源組件60、以及所述防護罩70全部由所述機架10所支撐。

根據(jù)本實用新型的實施例，所述廣角鏡頭模組測試設備還包括一或多個反畸變標版80和一或多個增距鏡90，以用于對所述廣角鏡頭模組進行調焦。也就是說，透過定制所述反畸變標版80，可以解決所述廣角鏡頭模組在測試解像力時大畸變引起的常規(guī)CTF標版四角解像力無法測試問題。而利用定制專用的所述增距鏡90，可以縮短實際測試距離以實現(xiàn)所述廣角鏡頭模組的調焦。

本領域的技術人員應理解，所述機架10可由各種支撐柱結構、板材、型鋼、鋁擠型、復合材料以及輕鋼架所制成。值得一提的是，所述機架10包括一機架本體，一移動單元和一調整單元，其中所述移動單元和所述調整單元，分別設置于機架本體下方，以便于搬移所述廣角鏡頭模組測試設備并調節(jié)所述廣角鏡頭模組測試設備的水平度。

根據(jù)本實用新型的實施例，所述工作臺20包括一臺面本體21和一滑軌22。所述滑軌22設置于所述臺面本體21上并連接于所述控制箱50。另外，所述污壞點測試工裝40被設置于所述滑軌22上，這樣透過所述滑軌22和所述控制箱50可移動所述污壞點測試工裝40。特別地，所述污壞點測試工裝40透過所述滑軌22與所述測試工裝30相連，這樣透過本實用新型的所述廣角鏡頭模組測試設備可分別進行一廣角鏡頭模組正常測試和一廣角鏡頭模組的污壞點測試。當進行所述廣角鏡頭模組正常測試時，可透過所述滑軌22將所述污壞點測試工裝40移開，亦即所述污壞點測試工裝40透過所述滑軌22移動并使其不在所述測試工裝30上方，故所述污壞點測試工裝40不會影響所述廣角鏡頭模組正常測試。另外，當進行所述廣角鏡頭模組的污壞點測試時，可透過所述滑軌22將所述污壞點測試工裝40移至所述廣角鏡頭模組正上方，亦即將所述污壞點測試工裝40移至所述測試工裝上方，以進行所述污壞點測試。

根據(jù)本實用新型的實施例，如圖2至圖4所示，所述測試工裝30包括一出圖(PCIE)工裝31，一第一滑塊32以及一第二滑塊33。所述第一滑塊32位于所述出圖(PCIE)工裝31上。所述出圖(PCIE)工裝31位于所述第二滑塊33上。也就是說，所述出圖(PCIE)工裝31位于所述第一滑塊32和所述第二滑塊33之間。更進一步地說，所述廣角鏡頭模組設置于所述出圖(PCIE)工裝31上，通過調節(jié)所述第一滑塊32的相對位置，以滿足不同長度的所述廣角鏡頭模組的固定需求。所述出圖(PCIE)工裝31固定于所述第二滑塊33上，通過調節(jié)所述第二滑塊33的相對位置，以調整所述廣角鏡頭模組中心與所述污壞點測試工裝40的相對位置和調整所述廣角鏡頭模組的鏡片中心與所述增距鏡90中心使保持一致。另外，如圖4所示，所述第二滑塊33還包括一前后滑塊331和一左右滑塊332，其中所述前后滑塊331位于所述左右滑塊332上，這樣所述第二滑塊33可以提供X軸和Y軸的方向移動，也就是說，所述出圖(PCIE)工裝31透過所述第二滑塊33可以進行XY軸的調整。

根據(jù)本實用新型的實施例，所述污壞點測試工裝40包括一光源裝置41，一軸承42，一絲桿螺母43，一絲桿44，一固定板45，三固定塊46，兩導柱47，兩滾珠導套48，以及一定位板49。所述軸承42裝置于所述光源裝置41上。所述絲桿螺母43安裝于所述軸承42上，也就是說所述絲桿螺母43透過所述軸承42安于所述光源裝置41上。所述絲桿44被連接于所述絲桿螺母43。所述三固定塊46分別鎖固于所述固定板45上。所述兩滾珠導套48分別裝置于所述兩導柱47上。所述兩導柱47和所述絲桿44分別位于所述三固定塊46上。所述兩導柱47亦位于所述光源裝置41和所述固定塊46之間。所述定位板49位于所述光源裝置41上，以用于鎖固所述兩導柱47、所述軸承42、所述絲桿螺母43，以及所述絲桿44。這樣通過旋轉所述絲桿螺母43可調整所述光源裝置41的升降。值得一提的是，所述污壞點測試工裝40透過所述固定板45被設置于所述滑軌22上，因此當進行所述污壞點測試時，可透過所述滑軌將所述光源裝置41移至所述測試工裝30的上方，亦即是所述廣角鏡頭模組的上方，這樣所述光源裝置41即可提供一小均勻光源以便進行所述廣角鏡頭模組的所述污壞點測試。特別地，所述污壞點測試工裝40與所述測試工裝30的相對位置，透過所述滑軌22則進行左右移動，透過所述軸承42、所述絲桿螺母43，以及所述絲桿44則進行上下的移動。也就是說，在進行不同所述廣角鏡頭模組的測試時，由于不同的所述廣角鏡頭模組視場角的差異性，所述污壞點測試工裝40的所述光源裝置41被制成可調升降機構，即將所述軸承42安于所述光源裝置41上，并將所述絲桿螺母43安裝于所述軸承42上，這樣通過旋轉所述絲桿螺母43得以實現(xiàn)所述光源裝置41的升降。

值得一提的是，所述光源裝置41包括一光源架和一光源元件，其中所述光源元件被裝置于所述光源架上以用于提供所述小均勻光源。所述光源架還用于安裝所述所述絲桿螺母43和所述軸承42。也就是說，所述絲桿螺母43透過所述軸承42安于所述光源裝置41的所述光源架上，并且所述絲桿44被連接于所述絲桿螺母43。另外，所述兩導柱47分別位于所述光源裝置41的光源架和所述固定塊46之間以用于支撐所述光源架。所述三固定塊46則分別位于所述絲桿44和所述兩導柱47的底部，并且所述三固定塊46位于所述固定板45上方。也就是說所述三固定塊46是位于所述固定板45和所述絲桿44跟所述兩導柱47之間。這樣的結構，當進行所述污壞點測試可根據(jù)所述廣角鏡頭模組的視場角調整相對應光源的距離。換言之，所述污壞點測試工裝40是一可調升降機構，以用于配合不同所述廣角鏡頭模組的視場角的差異性進行所述污壞點測試。

根據(jù)本實用新型的實施例，所述均勻光源組件60包括一電機61，二電機同步輪62，一電機同步帶63，二滾珠絲桿64，三絲桿同步輪65，一絲桿同步帶66，一漲緊輪67，一均勻光源裝置68，四導向軸69以及四支撐板。所述均勻光源組件60置于所述工作臺20上。所述二電機同步輪62分別被安裝于所述電機61和所述二滾珠絲桿64之一。也就是說，二個所述電機同步輪62其一耦合于所述電機61，另一耦合于二個所述滾珠絲桿64中的一個的底端，并且透過所述電機同步帶63連接二個所述電機同步輪62。換言之，所述電機61透過所述二電機同步輪62和所述電機同步帶63可帶動所述滾珠絲桿64轉動。所述四導向軸69位于所述工作臺20上用于支撐所述均勻光源架68。所述四支撐板其二位于所述滾珠絲桿64底端，另位于所述二滾珠絲桿64的頂端以用于支撐所述二滾珠絲桿64。所述三絲桿同步輪65中的二個分別位于所述二滾珠絲桿64的頂端，更進一步地說，所述絲桿同步輪65中的二個分別位于所述二滾珠絲桿64頂端的所述二支撐板上并安裝于所述二滾珠絲桿64上。另外，所述絲桿同步輪65中的第三個則位于所述二滾珠絲桿64頂端的所述支撐板上，亦即有二個所述絲桿同步輪65相同位于所述滾珠絲桿64頂端的二個所述支撐板中的一個，最后一個所述絲桿同步輪65則單獨位于所述滾珠絲桿64頂端的二個所述支撐板中的另一個，最后由所述絲桿同步帶66連接。換言之，透過所述絲桿同步帶66將所述三絲桿同步輪65連接，并且在同一個所述支撐板上的二個所述絲桿同步輪65之間，裝置所述漲緊輪67，其用于將所述絲桿同步帶66拉緊。所述均勻光源裝置68裝置于所述滾珠絲桿64，并由所述四導向軸69協(xié)同支撐。值得一提的，所述二電機同步輪62通過所述電機同步帶63相連，三絲桿同步輪65通過所述絲桿同步帶66相連，并且所述二滾珠絲桿64通過所述絲桿同步帶66相連，其中所述漲緊輪67亦通過所述絲桿同步帶66與所述三絲桿同步輪65相連，這樣當所述電機61帶動所述二滾珠絲桿64轉動時，可通過控制所述電機61的正反轉實現(xiàn)所述均勻光源裝置68的升降，以此調節(jié)所述廣角鏡頭模組的對焦距離。

另外，所述均勻光源裝置68包括一均勻光源架和一均勻光源元件。所述均勻光源元件設置于所述均勻光源架上，其中所述均勻光源裝置68可提供1200x900mm的大均勻光源，因此當進行所述廣角鏡頭模組正常測試時，將所述廣角鏡頭模組設置于所述測試工裝30的所述出圖(PCIE)工裝31上，由所述均勻光源組件60的所述電機61調整所述均勻光源裝置68的高度，以進行所述廣角鏡頭模組的點亮拍攝大均勻光源標版測試，同時亦可滿足所述廣角鏡頭模組的對焦距離。值得一提的是，本實用新型的所述廣角鏡頭模組測試設備的最大對焦距離為750mm。另外，當進行所述廣角鏡頭模組的污壞點測試，所述廣角鏡頭模組亦設置于所述測試工裝30的所述出圖(PCIE)工裝31上，在將所述污壞點測試工裝40滑動至所述廣角鏡頭模組上方，以進行所述廣角鏡頭模組的污壞點測試。

根據(jù)本實用新型的實施例，所述廣角鏡頭模組測試設備的所述反畸變標版80，其示例如圖8所表示，其從中心往邊緣方向地，對應地設置有拉伸畸變圖案，而待測試的所述廣角鏡頭模組拍攝以后，能夠得到規(guī)則的測試圖案。由于一圖像在透過所述廣角鏡頭模組的所述透鏡時，所述圖像會產(chǎn)生畸變，為了抵消這個畸變，就需要對所述圖像進行拉伸扭曲，正常透過所述透鏡后所述圖片呈現(xiàn)出的所述圖像和使用反畸變后透過所述透鏡的圖像對比。因此，所述反畸變標版80是根據(jù)所述廣角鏡頭模組的畸變和視場角解像力要求以及對焦距離進行制作而產(chǎn)生的。值得一提的，所述反畸變標版80被整平地放置于所述均勻光源組件60之下，也就是說其被放置于大均勻光源下。

根據(jù)本實用新型的實施例。本實用新型的所述廣角鏡頭模組測試設備的最大對焦距離為750mm。因此，對于對焦距離大于750mm的所述廣角鏡頭模組，則利用定制專用的所述增距鏡90，以縮短實際測試距離，實現(xiàn)在所述廣角鏡頭模組測試設備的測試距離范圍內調焦。值得一提的是，可由鏡頭供應商提供專用增距鏡圖紙以用于制作所述增距鏡。

另外，如圖9所示，為說明一個1.2m的所述廣角鏡頭模組與所述增距鏡的架設。其中所述增距鏡90具有一承靠面91和一鏡筒接觸面92，其分別用于和所述廣角鏡頭模組耦合，并且透過所述增距鏡90使得對焦實際拍攝距離縮小至550mm，以實現(xiàn)在所述廣角鏡頭模組測試設備的架設環(huán)境下進行調焦。

另外，值得一提的是，本實用新型還提供一廣角鏡頭模組調焦測試流程，其包括如下步驟：

(S01)一光源選取及架設；

(S02)一反畸變標版80制作；

(S03)一增距鏡90使用評估及架設；

(S04)模組出圖；以及

(S05)調焦測試。

根據(jù)步驟(S01)，透過一廣角鏡頭模組測試設備的一均勻光源組件60選取合適之光源。并且將一廣角鏡頭模組架設于所述廣角鏡頭模組測試設備的一測試工裝30上。所述均勻光源組件60位于所述測試工裝30的上方，并且所述均勻光源組件60具有一光源升降機構以用于調整所述均勻光源組件60與所述測試工裝30的相對位置。

根據(jù)步驟(S02)，依據(jù)所述廣角鏡頭模組的畸變和視場角解像力要求以及對焦距離進行制作所述反畸變標版80。值得一提的，所述反畸變標版80被整平地放置于所述均勻光源組件60之下。

根據(jù)步驟(S03)，本實用新型的所述廣角鏡頭模組測試設備的最大對焦距離為750mm。因此，在進行調焦測試前需先評估待測試的所述廣角鏡頭模組是否需使用所述增距鏡90，若需使用所述增距鏡90則將其架設于所述廣角鏡頭模組的上方。

根據(jù)步驟(S05)，在所述模組出圖，所述反畸變標版80、所述均勻光源組件60的光源、以及所述增距鏡90都架設成功之后，可通過一測試軟件實現(xiàn)對所述廣角鏡頭模組進行調焦測試。

本領域的技術人員應理解，上述描述及附圖中所示的本實用新型的實施例只作為舉例而并不限制本實用新型。本實用新型的目的已經(jīng)完整并有效地實現(xiàn)。本實用新型的功能及結構原理已在實施例中展示和說明，在沒有背離所述原理下，本實用新型的實施方式可以有任何變形或修改。