本實用新型涉及將薄膜覆于ITO Film和金屬軟膜表面，通過曝光、顯影和蝕刻制作軟膜電路，廣泛應(yīng)用觸摸屏Senser、精密FPC和軟性電池等柔性電子產(chǎn)品應(yīng)用技術(shù)領(lǐng)域，尤其是卷對卷制作雙面柔性電子線路上的曝光制作裝置。

背景技術(shù)：

近年來，隨著材料等基礎(chǔ)產(chǎn)業(yè)的技術(shù)進步，使電路的設(shè)計和生產(chǎn)技術(shù)獲得了較大發(fā)展，各種新的設(shè)計理念得到了廣泛的應(yīng)用和推廣，電子產(chǎn)品的市場趨勢皆走向追求輕薄化，使用電路的基材由傳統(tǒng)的玻璃、硅晶圓轉(zhuǎn)向薄化玻璃、金屬箔與塑膠基板等軟性材料取代，亦即現(xiàn)在泛稱的軟性電子(或可撓式電子)。工藝設(shè)備由于應(yīng)軟性材料的不同，需要導(dǎo)入卷對卷 ( RTR ) 的傳輸設(shè)備，制作電子線路具有配線密度高、重量輕、厚度薄的特點。在雙面電路板在生產(chǎn)時，需要采用覆膜機將干膜貼合在導(dǎo)電基材表面，然后經(jīng)紫外光對MASK照射曝光后，見光的干膜分解，在堿性顯液中溶解，導(dǎo)電基材表面留下與MASK一樣的圖案，然后用蝕刻液噴淋導(dǎo)電基材，沒有干膜保護的導(dǎo)電層被蝕刻，再除去基材上的殘留干膜，使導(dǎo)電電路裸露出來，這是制作電路過程。而現(xiàn)有的是單面導(dǎo)電基板進行單面覆膜機，采用覆膜、曝光、顯影、蝕刻和除膜，完成A面導(dǎo)電電路工作，同樣方法，用另一卷膜制作B面導(dǎo)電電路，用A、B面導(dǎo)電電路組合在一起形成雙面電路，工序繁瑣，工作效率低，不良率高，且曝光上料準確性不佳，導(dǎo)致上下面覆膜曝光不一致。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本實用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種雙面覆膜曝光機的幀收放結(jié)構(gòu)，實現(xiàn)一次雙面覆膜曝光，且達到一幀一幀連續(xù)曝光工作，優(yōu)化工藝，提升工作效率及工作質(zhì)量。

為達到上述目的，本實用新型采用如下技術(shù)方案：

雙面膜曝光機的幀收放結(jié)構(gòu)，包括有上料單元、曝光單元及收料單元，其中：

所述上料單元設(shè)置在曝光單元的上料端，上料單元包括有上料基座，上料基座上設(shè)有上料輥，在上料輥釋放基材的一端設(shè)有兩根上料從動輥，兩根上料從動輥上面分別設(shè)有第一壓板和第二壓板，在第一壓板和第二壓板中間設(shè)有第一切邊單元，該第一切邊單元給予基材和基膜端頭切整齊，保證基材和基膜端頭拼接在同一直線上；以及一上料緩存浮動輥，該上料緩存浮動輥的進出側(cè)分別設(shè)有上料張力輥和上料輔助從動輥，基材緩存是上料緩存浮動輥在上料張力輥和上料輔助從動輥中間往下沉，使基材拉長存放在上料張力輥和上料輔助從動輥之間；

所述收料單元設(shè)置在曝光單元的出料端，收料單元包括有收料底座、收料基座，收料基座上設(shè)有下料輥及第二切邊單元，收料底座上設(shè)有收料緩存單元，曝光后的基材進入本結(jié)構(gòu)時依次經(jīng)過收料緩存單元、第二切邊單元后收卷在下料輥上；收料緩存單元包括有收料浮動輥、收料張力輥和收料輔助從動輥，收料張力輥和收料輔助從動輥分別設(shè)置在收料浮動輥的進出側(cè)，基材緩存是收料浮動輥在收料張力輥和收料輔助從動輥中間往下沉，使基材拉長存放在收料張力輥和收料輔助從動輥之間。

所述曝光單元的上料端設(shè)有輔助夾緊基材的第一主輥和第一下壓輥，而在曝光單元的出料端設(shè)有輔助夾緊基材的第二主輥和第二下壓輥，依次給予張緊及穩(wěn)定曝光單元上的基材，穩(wěn)定曝光工作。

所述上料基座設(shè)計為可移動體，該上料基座鋪設(shè)在上料底座的兩根上料導(dǎo)軌的滑塊上，在上料馬達驅(qū)動器帶動下相對底座左右移動，基座移動方向受上料糾偏感測器控制。

所述上料緩存浮動輥輸出側(cè)設(shè)有除塵輥，除塵輥成對設(shè)計，實現(xiàn)基材上下面除塵。

所述第二切邊單元設(shè)有兩根下料從動輥，兩根下料從動輥上面分別設(shè)有第三壓板和第四壓板，在第三壓板和第四壓板中間設(shè)有切邊模塊，該切邊模塊給予基材和基膜端頭切整齊，保證基材和基膜端頭拼接在同一直線。

所述收料基座設(shè)計為可移動體，在收料底座上設(shè)有兩根收料導(dǎo)軌，基座鋪設(shè)在兩根收料導(dǎo)軌的滑塊上，在收料馬達驅(qū)動器帶動下相對收料底座左右移動，收料基座移動方向受收料糾偏感測器控制。

與現(xiàn)有技術(shù)對比，本實用新型提供的雙面膜曝光機的幀收放結(jié)構(gòu)，在滿足一次雙面膜曝光同時，還利用基材放出時上料緩存浮動輥在上料張力輥和上料輔助從動輥中間往下沉，使基材拉長存放在上料張力輥和上料輔助從動輥之間；而基材收回是收料浮動輥在收料張力輥和收料輔助從動輥中間往下沉，使曝光好基材拉長存放在收料張力輥和收料輔助從動輥之間；通過一放一收協(xié)調(diào)，實現(xiàn)雙面膜曝光機的一幀一幀連續(xù)曝光工作，上料、收料準確，上下面曝光一致，優(yōu)化工藝，提升工作效率及工作質(zhì)量。

附圖說明：

附圖1為本實用新型較佳實施例結(jié)構(gòu)示意圖；

附圖2為圖1實施例立體示意圖。

具體實施方式：

以下將結(jié)合附圖對本實用新型的構(gòu)思、具體結(jié)構(gòu)及產(chǎn)生的技術(shù)效果作進一步說明，以充分地了解本實用新型的目的、特征和效果。

參閱圖1、2所示，系本實用新型的較佳實施例示意圖，本實用新型有關(guān)一種雙面膜曝光機的幀收放結(jié)構(gòu)，包括有上料單元1、曝光單元2及收料單元3。

所述上料單元1設(shè)置在曝光單元2的上料端，上料單元1包括有上料基座11，上料基座11上設(shè)有上料輥12，在上料輥12釋放基材的一端設(shè)有兩根上料從動輥13，兩根上料從動輥13上面分別設(shè)有第一壓板14和第二壓板15，在第一壓板14和第二壓板15中間設(shè)有第一切邊單元16，該第一切邊單元16給予基材和基膜端頭切整齊，保證基材和基膜端頭拼接在同一直線上；以及一上料緩存浮動輥17，該上料緩存浮動輥17的進出側(cè)分別設(shè)有上料張力輥171和上料輔助從動輥172，基材緩存是上料緩存浮動輥17在上料張力輥171和上料輔助從動輥172中間往下沉，使基材拉長存放在上料張力輥171和上料輔助從動輥172之間。

所述收料單元3設(shè)置在曝光單元2的出料端，收料單元3包括有收料底座34、收料基座31，收料基座31上設(shè)有下料輥32及第二切邊單元33，收料底座34上設(shè)有收料緩存單元35，曝光后的基材進入本結(jié)構(gòu)時依次經(jīng)過收料緩存單元35、第二切邊單元33后收卷在下料輥32上；收料緩存單元35包括有收料浮動輥351、收料張力輥352和收料輔助從動輥353，收料張力輥352和收料輔助從動輥353分別設(shè)置在收料浮動輥351的進出側(cè)，基材緩存是收料浮動輥351在收料張力輥352和收料輔助從動輥353中間往下沉，使基材拉長存放在收料張力輥352和收料輔助從動輥353之間。

所述曝光單元2的上料端設(shè)有輔助夾緊基材的第一主輥21和第一下壓輥22，而在曝光單元2的出料端設(shè)有輔助夾緊基材的第二主輥23和第二下壓輥24，依次給予張緊及穩(wěn)定曝光單元2上的基材，穩(wěn)定曝光工作。曝光單元2實現(xiàn)上下側(cè)曝光，即相應(yīng)基板平直進入曝光工位，經(jīng)紫外光照射曝光，即可實現(xiàn)上下側(cè)曝光，無需翻轉(zhuǎn)重復(fù)單面工作，優(yōu)化工藝，提升工作效率及工作質(zhì)量。第一下壓輥22和第二下壓輥24在氣缸等機構(gòu)驅(qū)動下壓和抬起，下壓時，第一下壓輥22配合第一主輥21夾緊曝光單元2上料端的基材，防止上料緩存浮動輥17作用回拉基材。第二下壓輥24則配合第二主輥23夾緊曝光單元2收料端的基材，防止收料浮動輥351作用拉出基材。反之，要移出曝光好的基材，則第一下壓輥22和第二下壓輥24抬起。

上料單元1工作是：基材從上料輥12牽引出來，穿過上料從動輥13和第一壓板14之間，到切邊單元16下面，按動開關(guān)使第一壓板14壓著基材，用切邊單元16切割基材，基材形成斜邊端口；從后面拉過來的基膜穿過另一上料從動輥13和第二壓板15之間，到切邊單元16下面，按動開關(guān)使第二壓板15壓著基膜，用切邊單元16切割基膜，在基膜形成斜邊端口，再把基材和基膜端口對齊，用膠帶貼合封緊，保證基材和基膜端頭拼接在同一直線上，再放開第一壓板14和第二壓板15。通過牽引基材進行曝光生產(chǎn)，形成一個閉環(huán)的張力控制系統(tǒng)，可減少基材無謂浪費，節(jié)約成本。實例中所述基材緩存是上料緩存浮動輥17在上料張力輥171和上料輔助從動輥172中間往下沉，使基材拉長存放在上料張力輥171和上料輔助從動輥172之間。上料張力輥171具有基材張力感應(yīng)功能，當張力變小時，上料緩存浮動輥17往下沉，使基材拉長存放在上料張力輥171和上料輔助從動輥172之間，從而收緊基材；當張力變大時，上料緩存浮動輥17往上升，釋放基材使上料張力輥171感測張力變小，從而使基材的張力達到平衡，控制生產(chǎn)基材伸縮變化在很小范圍內(nèi)，解決雙面電子線路對位不準確的難題，提升雙面電子線路工作穩(wěn)定性能。

本實施例中，在所述上料緩存浮動輥17輸出端還設(shè)有除塵輥5，除塵輥5成對設(shè)計，基材從除塵輥5中間通過，基材上的灰塵被除塵輥5帶走，從而實現(xiàn)基材上下面除塵，減少撕保護膜產(chǎn)生靜電吸附灰塵，使灰塵對后續(xù)工序主產(chǎn)質(zhì)量影響降至最少。所述上料基座11設(shè)計為可移動體，該上料基座11鋪設(shè)在上料底座18的兩根上料導(dǎo)軌181的滑塊上，在上料馬達驅(qū)動器19帶動下相對底座18左右移動，基座11移動方向受上料糾偏感測器4控制。上料糾偏感測器4發(fā)出信號控制上料馬達驅(qū)動器19動作，實現(xiàn)與發(fā)料糾偏聯(lián)動操作，解決生產(chǎn)中軟性基材跑偏問題。本實施例的上料糾偏感測器4為現(xiàn)有技術(shù)，其通過感測基材邊緣位置來發(fā)出控制信號，具體原理在此不再贅述。

收料單元3工作是：基材從曝光單元2牽引出來，緩存是收料浮動輥351在收料張力輥352和收料輔助從動輥353中間往下沉，使基材拉長存放在收料張力輥352和收料輔助從動輥353之間。收料張力輥352具有基材張力感應(yīng)功能，當張力變小時，收料浮動輥351往下沉，使基材拉長存放在收料張力輥352和收料輔助從動輥353之間，從而收緊基材；當張力變大時，收料浮動輥351往上升，釋放基材使收料張力輥352感測張力變小，從而使基材的張力達到平衡，控制生產(chǎn)基材伸縮變化在很小范圍內(nèi)，解決雙面電子線路對位不準確的難題，提升雙面電子線路工作穩(wěn)定性能。所述第二切邊單元33設(shè)有兩根下料從動輥334，兩根下料從動輥334上面分別設(shè)有第三壓板332和第四壓板333，在第三壓板332和第四壓板333中間設(shè)有切邊模塊331，該切邊模塊331給予基材和基膜端頭切整齊，保證基材和基膜端頭拼接在同一直線。第二切邊單元33設(shè)置在下料輥32收料的一端，當生產(chǎn)基材品質(zhì)不好，按動開關(guān)使第三壓板332壓著基材，用切邊模塊331切割基材，基材形成斜邊端口；操作下料輥32倒轉(zhuǎn)，從后面拉出來品質(zhì)不好的基材穿過下料從動輥334和第四壓板333之間，到切邊模塊331下面，按動開關(guān)使第四壓板333壓著基材，用切邊模塊331切割基材，在基膜形成斜邊端口，再把兩個基材端口對齊，用膠帶貼合封緊，保證兩基材端頭拼接在同一直線上，再放開第三壓板332和第四壓板333，用下料輥32收緊基材，形成一個閉環(huán)的張力控制系統(tǒng)，繼續(xù)進行生產(chǎn)可減少基材無謂浪費，節(jié)約成本；符合產(chǎn)業(yè)利用，極大提升機器設(shè)備的運行效，以及降低運行成本。

本實施例中，收料單元3上收料基座31設(shè)計為可移動體，在收料底座34上設(shè)有兩根收料導(dǎo)軌341，基座31鋪設(shè)在兩根收料導(dǎo)軌341的滑塊上，在收料馬達驅(qū)動器36帶動下相對收料底座34左右移動，收料基座31移動方向受收料糾偏感測器6控制。收料糾偏感測器6發(fā)出信號控制收料馬達驅(qū)動器36動作，實現(xiàn)與收料糾偏聯(lián)動操作，解決生產(chǎn)中軟性基材跑偏問題。本實施例的收料糾偏感測器6為現(xiàn)有技術(shù)，其通過感測基材邊緣位置來發(fā)出控制信號，具體原理在此不再贅述。

本實用新型工作過程：當曝光完成時，第二壓板15和第三壓板332下降壓緊基材，上料緩存浮動輥17上升高位，同時收料浮動輥351下沉低位，把一幀基材送到曝光位，另一幀曝光后的基材送到收料張力輥352和收料輔助從動輥353之間緩存；曝光時，第一下壓輥22和第二下壓輥24下降壓緊基材，第二壓板15和第三壓板332松開，驅(qū)動上料輥12送料，上料緩存浮動輥17下沉到低位，把一幀基材的長度存放在上料張力輥171和上料輔助從動輥172之間，同時收料浮動輥351上升到高位，收料輥32把一幀曝光好的基材收走；工作重復(fù)上面二個步驟，生產(chǎn)過程中保持基材的張力一致性，實現(xiàn)雙面膜曝光機的一幀一幀連續(xù)曝光收放工作，上料、收料準確，上下面曝光一致，優(yōu)化工藝，提升工作效率及工作質(zhì)量。

以上結(jié)合實施方式對本實用新型做了詳細說明，只為說明本實用新型的技術(shù)構(gòu)思及特點，其目的在于讓熟悉此項技術(shù)的人了解本實用新型的內(nèi)容并加以實施，并不能以此限定本實用新型的保護范圍，故凡根據(jù)本實用新型精神實質(zhì)所做的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本實用新型的保護范圍內(nèi)。