技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種用于形成色阻層的拼接單元光罩及用于黑矩陣的拼接單元光罩，屬于顯示技術(shù)領(lǐng)域，解決了現(xiàn)有的拼接曝光技術(shù)存在易產(chǎn)生拼接斑紋的技術(shù)問題。該用于形成色阻層的拼接單元光罩，包括透光區(qū)域和不透光區(qū)域；所述透光區(qū)域?qū)谏鑼拥娜コ齾^(qū)域，所述不透光區(qū)域?qū)谏鑼拥谋Ａ魠^(qū)域；所述拼接單元光罩的邊緣設置有拼接重疊區(qū)域，所述拼接重疊區(qū)域位于黑矩陣區(qū)域之內(nèi)。

技術(shù)研發(fā)人員：應見見;杜鵬
受保護的技術(shù)使用者：深圳市華星光電技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.29
技術(shù)公布日：2017.08.18