1.一種基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預(yù)測方法，其特征在于，所述方法包括：
獲得標(biāo)準(zhǔn)版圖幾何信息數(shù)據(jù)庫；
獲得待匹配版圖幾何信息；
將所述待匹配版圖幾何信息和所述標(biāo)準(zhǔn)版圖幾何信息數(shù)據(jù)庫中的幾何信息進(jìn)行匹配；
根據(jù)所述匹配結(jié)果選取第一標(biāo)準(zhǔn)版圖；
將所述第一標(biāo)準(zhǔn)版圖所對應(yīng)的光刻解決方案作為所述待匹配版圖的光刻解決方案候選，預(yù)測所述待匹配版圖的光刻解決方案。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預(yù)測方法，其特征在于，所述獲得標(biāo)準(zhǔn)版圖幾何信息數(shù)據(jù)庫包括：
獲得標(biāo)準(zhǔn)版圖集合以及集合中各個(gè)標(biāo)準(zhǔn)版圖對應(yīng)的光刻解決方案；
根據(jù)所述標(biāo)準(zhǔn)版圖獲得所述標(biāo)準(zhǔn)版圖的幾何信息；
對所述標(biāo)準(zhǔn)版圖幾何信息進(jìn)行統(tǒng)計(jì)與分類；
根據(jù)所述標(biāo)準(zhǔn)版圖幾何信息的提取結(jié)果、統(tǒng)計(jì)結(jié)果、分類結(jié)果，獲得所述標(biāo)準(zhǔn)版圖幾何信息，并存入數(shù)據(jù)庫。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預(yù)測方法，其特征在于，所述獲得待匹配版圖幾何信息包括：
獲得待匹配版圖的特征圖形；
根據(jù)所述特征圖形獲得所述特征圖形的幾何信息；
對所述特征圖形幾何信息進(jìn)行統(tǒng)計(jì)與分類；
根據(jù)所述特征圖形幾何信息的提取結(jié)果、統(tǒng)計(jì)結(jié)果、分類結(jié)果，獲得所述待匹配版圖幾何信息，并存儲。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預(yù)測方法，其特征在于，所述標(biāo)準(zhǔn)版圖的幾何信息包括：
標(biāo)準(zhǔn)版圖中所有圖形的線寬、間距、角對角的寬度、角對角的間距。
5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預(yù)測方法，其特征在于，所述對標(biāo)準(zhǔn)版圖幾何信息進(jìn)行統(tǒng)計(jì)包括：
統(tǒng)計(jì)標(biāo)準(zhǔn)版圖圖形的最大寬度、最小寬度、最大長度、最小長度、最大間距、最小間距、角對角的最大寬度、角對角的最小寬度、角對角的最大間距、角對角的最小間距、平均長度、平均寬度、角對角的平均寬度、角對角的平均間距、平均密度。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預(yù)測方法，其特征在于，所述特征圖形的幾何信息包括：
特征圖形的線寬、間距、角對角的寬度、角對角的間距。
7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預(yù)測方法，其特征在于，所述對特征圖形幾何信息進(jìn)行統(tǒng)計(jì)包括：
統(tǒng)計(jì)特征圖形的最大寬度、最小寬度、最大長度、最小長度、最大間距、最小間距、角對角的最大寬度、角對角的最小寬度、角對角的最大間距、角對角的最小間距、平均長度、平均寬度、角對角的平均寬度、角對角的平均間距、平均密度。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預(yù)測方法，其特征在于，所述特征圖形為所述待匹配版圖的全部版圖圖形或從版圖圖形中截取的特征區(qū)域，所述從版圖圖形中截取的特征區(qū)域?yàn)榉从嘲鎴D實(shí)際結(jié)構(gòu)的具有代表性的圖形。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預(yù)測方法，其特征在于，所述匹配結(jié)果包括：
所述待匹配版圖與所述標(biāo)準(zhǔn)版圖的幾何信息相似度的評價(jià)結(jié)果、單項(xiàng)幾何指標(biāo)匹配結(jié)果分布圖表和分析報(bào)告。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于版圖幾何特征匹配的光刻解決方案預(yù)測方法，其特征在于，所述光刻解決方案包括：
光源形貌、光源偏振態(tài)、掩模版極性、數(shù)值孔徑、光刻疊層信息、焦深、曝光寬容度、掩模誤差增強(qiáng)因子、工藝窗口。