在過去幾年中，由于對眼睛保護抵抗紫外線(UV)光的日益關注，已大大強調了抗UV功能。特別地，來自佩戴者的后面或側面的UV光應該不通過眼科鏡片的背面被反射朝向佩戴者的眼睛。要求在紫外光范圍內的一種非常有效的減反射特性。這種特性容易通過Ruv測量，平均反射系數(shù)在280nm與380nm之間，用在ISO 13666:1998標準中定義的函數(shù)W(λ)進行加權。同時，對于鏡片的正面要求在可見范圍內的非常有效的減反射特性以避免重影和化妝上令人不愉快的反射光。這種特性容易通過Rv(如ISO 13666:1998標準中所定義的平均反射系數(shù))測量。

不幸的是，當堆疊體被設計成最小化Ruv時，Rv通常太高。而且，當堆疊體被設計成具有非常低的Rv時，Ruv通常不是令人滿意的。應該改進Ruv與Rv之間的平衡。

諸位發(fā)明人出人意料地發(fā)現(xiàn)使用復合高折射率層使得能夠設計同時對于Ruv和Rv非常有效的減反射堆疊體。

復合層已經(jīng)用于各種行業(yè)的減反射堆疊體中。美國專利US4260222披露了三層減反射堆疊體，其中使用氧化鋯和氧化鉭的單一復合層。這種復合層在不適合于有機眼科鏡片的高溫條件下沉積，并且其組成提供更好的折射率均勻性。然而，在UV范圍內的減反射性能未被考慮，并且實際上是差的。

歐洲專利EP1211524披露了用于眼科鏡片的四層減反射堆疊體，其中高折射率層是氧化鈦、氧化鈮和氧化鋯的復合層，為該減反射堆疊體提供了改進的機械和化學特征。要求氧化鈮和氧化鈦作為主要成分，其量比氧化鈮的量大25％。實際上，沒有展示在UV范圍內的性能。

本發(fā)明的第一目的是一種眼科鏡片，該眼科鏡片包括具有主面的基底，所述主面涂覆有減反射堆疊體，該減反射堆疊體包括至少一個復合層，該復合層包含氧化鋯和另一種金屬氧化物，其特征在于，對于包括在范圍30°-45°內的入射角，在所述主要面上的平均反射系數(shù)Ruv，在280nm與380nm之間，用在ISO 13666：1998標準中定義的函數(shù)W(λ)進行加權，是低于7％。

本發(fā)明的第二目的是一種制備眼科鏡片的方法，該眼科鏡片包括具有主面的基底，所述主面涂覆有減反射堆疊體，該減反射堆疊體包括至少一個復合層，該復合層包含氧化鋯和另一種金屬氧化物，其特征在于，對于包括在范圍30°-45°內的入射角，在所述主要面上的平均反射系數(shù)Ruv，在280nm與380nm之間，由ISO 13666：1998標準中定義的函數(shù)W(λ)加權，是低于7％；其特征在于氧化鋯和另一種金屬氧化物在真空沉積步驟中同時蒸發(fā)。

附圖說明

圖1：在具有折射率1.5(實線)或1.6(虛線)的基底上并且對于綠色反射光(沒有標記的線)或金色反射光(具有菱形的線)，SiO2/ZrO2四層堆疊體的Rv/Ruv折中(compromise)。

圖2：在具有折射率1.5的基底上并且對于綠色反射光，具有SiO2作為低折射率材料以及ZrO2(實線)、Nb2O5(半虛線)和Ta2O5(虛線)作為高折射率材料的四層堆疊體的Rv/Ruv折中。

圖3：在具有折射率1.5的基底上并且對于綠色反射光，不同組成的ZrO2/Ta2O5復合層的Rv/Ruv折中。

圖4：在具有折射率1.6的基底上并且對于金色反射光，不同組成的ZrO2/Nb2O5復合層的Rv/Ruv折中。

圖5：在具有折射率1.5的基底上并且對于綠色反射光，不同組成的ZrO2/Ta2O5復合層的Rv/Ruv折中。

圖6：在具有折射率1.5的基底上并且對于綠色反射光，不同組成的ZrO2/Nb2O5復合層的Rv/Ruv折中。

圖7：在具有折射率1.5的基底上并且對于金色反射光，不同組成的ZrO2/Nb2O5復合層的Rv/Ruv折中。

圖8：在具有折射率1.6的基底上并且對于綠色反射光，不同組成的ZrO2/Ta2O5復合層的Rv/Ruv折中。

圖9：在具有折射率1.6的基底上并且對于金色反射光，不同組成的ZrO2/Ta2O5復合層的Rv/Ruv折中。

圖10：在具有折射率1.6的基底上并且對于綠色反射光，不同組成的ZrO2/Nb2O5復合層的Rv/Ruv折中。

詳細說明

根據(jù)本發(fā)明的眼科鏡片包括基底和減反射堆疊體。

在眼科工業(yè)中已知的任何基底適合于本發(fā)明，尤其是有機鏡片基底，例如熱塑性或熱固性塑料材料。

熱塑性材料可以選自，例如：聚酰胺；聚酰亞胺；聚砜；聚碳酸酯及其共聚物；聚(對苯二甲酸乙二酯)和聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。

熱固性材料可以選自，例如：環(huán)烯共聚物，諸如乙烯/降冰片烯或乙烯/環(huán)戊二烯共聚物；直鏈或支鏈脂肪族或芳香族多元醇的碳酸丙烯酯的均聚物和共聚物，諸如二甘醇二(碳酸丙烯酯)(CR)的均聚物；(甲基)丙烯酸及其酯的均聚物和共聚物，其可以來源于雙酚A；硫代(甲基)丙烯酸及其酯的聚合物和共聚物、可以來源于雙酚A或鄰苯二甲酸和烯丙基芳烴如苯乙烯的烯丙基酯的聚合物和共聚物、尿烷和硫代尿烷的聚合物和共聚物、環(huán)氧樹脂的聚合物和共聚物、以及硫化物、二硫化物和環(huán)硫化物的聚合物和共聚物，以及其組合。

如在此所使用的，(共)聚合物旨在是指共聚物或聚合物。如在此所使用的，(甲基)丙烯酸酯旨在是指丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。如在此所使用的，聚碳酸酯(PC)旨在是指均聚碳酸酯或者共聚碳酸酯和嵌段共聚碳酸酯。

減反射涂層可以直接沉積到裸基底上。在一些應用中，優(yōu)選的是該基底的正主面和/或背主面在沉積減反射涂層之前涂覆有一個或多個功能性涂層。慣常用于光學器件中的這些功能性涂層可以是并不限于，耐沖擊底漆層、耐磨涂層和/或耐刮擦涂層、偏光涂層、光致變色涂層或著色涂層。

通常，減反射涂層將沉積于其上的基底的正主面和/或背主面涂覆有耐沖擊底漆層、抗磨損涂層和/或抗刮擦涂層、或用抗磨損涂層和/或抗刮擦涂層涂覆的耐沖擊底漆層。

在沉積耐磨涂層和/或耐刮擦涂層之前，有可能將底漆涂層施用到基底上以提高最終產(chǎn)品中的后續(xù)層的耐沖擊性和/或粘附。此涂層可以是慣常用于透明聚合物材料的制品如眼科鏡片的任何耐沖擊底漆層。

在下文中，“基底”旨在是指已涂覆或未涂覆的基底。

該基底還可以用物理或化學表面活化處理進行預處理，以便增強減反射涂層在該基底上的粘合。這種預處理通常在真空下進行。它可以是用高能和/或反應性組分例如用離子束(“離子預清理”或“IPC”)或用電子束進行的轟擊、電暈放電處理、離子散裂處理、紫外線輻射處理或真空下等離子體介導處理(通常使用氧或氬等離子體)。它還可以是酸性或堿性處理和/或基于溶劑的處理(水，過氧化氫或任何有機溶劑)。

減反射涂層或堆疊體通常由包括多個干涉薄層的一個多層組成，該多層通常是基于具有高折射率(HI)的介電材料和具有低折射率(LI)的介電材料的多個層的交替。當沉積在透明基底上時，此類涂層的功能是減小其光反射并且因此增加其光透射。

所述減反射堆疊體可以被沉積在該基底的正主面上或者在該基底的背主面上或者在這兩個主面上。為了避免來自佩戴者的后面或側面的光反射，減反射堆疊體優(yōu)選沉積在背主面上。

在本發(fā)明中，當減反射涂層的層的折射率高于或等于1,55、優(yōu)選地高于或等于1,6、甚至更優(yōu)選地高于或等于1,7、甚至更優(yōu)選地高于或等于1,8并且最優(yōu)選地高于或等于1,9時，其被稱為具有高折射率(HI)的層。

在本發(fā)明中，當減反射涂層的層的折射率低于1.55、優(yōu)選地低于或等于1,50、更優(yōu)選低于或等于1,48時，其被稱為低折射率(LI)層。所述LI層優(yōu)選地具有高于1.1的折射率。

除非另外指定，否則本申請中提及的折射率是在25℃、550nm波長下表達。

本發(fā)明的減反射堆疊體包括至少一個復合層，該復合層包含氧化鋯和另一種金屬氧化物。

在一些實施例中，本發(fā)明的減反射堆疊體包括至少兩個復合層，這些復合層包含氧化鋯和另一種金屬氧化物。

在一些實施例中，所述復合該層具有的折射率高于1.6，優(yōu)選高于1.7，更優(yōu)選高于1.8，理想地高于1.9。在具有高于1.9的折射率的復合層的情況下，Rv/Ruv折中得到改進。

在復合層中合適的金屬氧化物是，除了氧化鋯(ZrO2)之外并且沒有限制，二氧化鈦(TiO2)、氧化鋁(Al2O3)、五氧化二鉭(Ta2O5)、氧化釹(Nd2O5)、氧化鐠(Pr2O3)、鈦酸鐠(PrTiO3)、氧化鑭(La2O3)、氧化鈮(Nb2O5)、氧化釔(Y2O3)。任選地，該復合層可以進一步包含具有低折射率的二氧化硅或其他材料，條件是該復合層具有高于或等于1.55的折射率。

對于所有金屬氧化物，組成旨在涵蓋在精確化學計量值附近(加上或減去5％)的組成范圍。例如，ZrO2涵蓋具有組成ZrOx，1.9<x<2.1的所有金屬氧化物。

由于氧化鈦(TiO2)和氧化釔(Y2O3)在UV-紫色光域中是稍微色散的，所以這些金屬氧化物是較不優(yōu)選的。本發(fā)明的具體實施例不包含任何這些金屬氧化物。

優(yōu)選的金屬氧化物包括五氧化二鉭(Ta2O5)和氧化鈮(Nb2O5)。

LI層可以包括(但不局限于)SiO2、或二氧化硅與氧化鋁的混合物(尤其是二氧化硅摻有氧化鋁)，后者有助于增加減反射涂層耐熱性。LI層優(yōu)選地是相對于層總重量包括按重量計至少80％的二氧化硅、更優(yōu)選地按重量計至少90％的二氧化硅的層，并且甚至更優(yōu)選地包括二氧化硅層。

任選地，LI層可以進一步包含具有高折射率的材料，條件是產(chǎn)生的層的折射率低于1.55。

在本發(fā)明中，減反射涂層總厚度低于1微米、優(yōu)選地低于或等于800nm、更優(yōu)選地低于或等于500nm以及甚至更優(yōu)選地低于或等于250nm。該減反射涂層總厚度通常高于100nm、優(yōu)選地高于150nm。

在本發(fā)明的一些實施例中，減反射涂層沉積到子層上。應注意，這種減反射涂層子層不屬于減反射涂層。

如在此所使用的，減反射涂層子層或粘附層旨在是指為了提高所述涂層的機械特性諸如耐磨性和/或耐擦傷性和/或為了增強其到基底或底層基底的粘附而使用的相對厚的涂層。

由于其相對高的厚度，該子層通常不參與減反射光學活性，尤其是當它具有的折射率接近底層基底的折射率時。

該子層應具有足夠促進減反射涂層耐磨性的厚度，但優(yōu)選地未達到能夠引起光吸收的程度(取決于該子層性質，能夠顯著地減小相對透射系數(shù)Tv)。其厚度通常低于500nm、優(yōu)選低于300nm、更優(yōu)選地低于200nm，并且通常高于90nm、更優(yōu)選地高于100nm。

該子層優(yōu)選地包括基于SiO2的層，此層相對于層總重量優(yōu)選地包含按重量計至少80％的二氧化硅、更優(yōu)選地按重量計至少90％的二氧化硅。

在另一個實施例中，此基于SiO2的層是以如上文所定義的量摻有氧化鋁的二氧化硅層，優(yōu)選地包括摻有氧化鋁的二氧化硅層。

在一個具體實施例中，該子層包括SiO2層。

根據(jù)以下方法中的任一種，減反射涂層的不同層和任選的子層優(yōu)選地在真空下通過物理氣相沉積進行沉積：

i)通過任選地離子束輔助的蒸發(fā)；

ii)通過離子束濺射；

iii)通過陰極濺射；

iv)通過等離子體輔助化學氣相沉積。

在以下的參考文獻“薄膜工藝(Thin Film Processes)”和“薄膜工藝II(Thin Film Processes II)”(福森和柯恩(Vossen&Kern)編，學術出版社，1978年和1991年)中分別描述了這些不同的方法。特別推薦的方法是在真空下蒸發(fā)。優(yōu)選地，減反射涂層和任選子層的各層的沉積通過真空下蒸發(fā)來進行。

尤其，本發(fā)明的復合層可以通過以下方式沉積：從在一個坩堝中兩個不同的純ZrO2源和在第二坩堝中純的其他金屬氧化物同時蒸發(fā)；并且控制從每個坩堝的蒸發(fā)速率以獲得復合層的重量組成。可替代地，該復合層可以從蒸發(fā)單一復合源來沉積。這種復合源是典型地通過以對于復合層組成預期的重量比例混合ZrO2粉末和金屬氧化物粉末來獲得。

可以通過將至少一個電荷消散導電層結合到存在于制品表面的減反射涂層中來使本發(fā)明的眼科鏡片抗靜電，即不保留和/或發(fā)展大量靜電荷。

根據(jù)本發(fā)明的眼科鏡片還可以包括形成在減反射涂層上并能夠改變其表面特性的涂層，諸如疏水涂層和/或疏油涂層(防污頂涂層)。這些涂層優(yōu)選地沉積到減反射涂層的外層上。

典型地，根據(jù)本發(fā)明的眼科鏡片包括基底，該基底在至少一個面上涂覆有耐沖擊底漆層、抗磨損和耐刮擦層、根據(jù)本發(fā)明的減反射涂層，并且涂覆有疏水和/或疏油的涂層，或者涂覆有提供防霧特性的親水性涂層、或防霧前體涂層。

根據(jù)本發(fā)明的眼科鏡片優(yōu)選地是一種用于眼鏡的眼科鏡片(眼鏡片)、或用于眼科鏡片的毛坯。

如上所述，該減反射涂層的功能是減少光反射并且因此增加穿過在其上已鋪設該涂層的基底的光透射。這些光學特征是對于數(shù)個入射角用比色系數(shù)和反射系數(shù)測量的。

“入射角”是由入射在眼科鏡片表面上的光線與入射點處表面的法線形成的角度。光線是例如發(fā)光的光源，諸如像在國際比色CIE L*a*b*中定義的標準光源D65?？傮w上，入射角從0°(正入射)至90°(掠入射)變化。入射角的常見范圍是0°至75°。

將標準光源D 65和觀察者(10°的角度)考慮在內，在380與780nm之間計算本發(fā)明的眼科鏡片在國際比色系統(tǒng)CIE L*a*b*中的比色系數(shù)?？赡苤苽錅p反射涂層而關于其色調角沒有限制。觀察者是如在國際比色體系CIE L*a*b*中定義的“標準觀察者”。

出于美學原因，反射光的色調，對于包括在范圍0°-20°內的入射角，優(yōu)選為綠色(120°<色調<150°)、金色(30°<色調<60°)、藍色(240°<色調<280°)或紫色(violet/purple)(300°<色調<340°)。反射光的所希望的色度，對于包括在范圍0°-20°內的入射角，是低于15，優(yōu)選低于12。9的色度出于美學原因通常被認為是良好的。

“平均光反射系數(shù)”，記為Rv，是諸如在ISO 13666:1998標準中定義的，并且根據(jù)ISO 8980-4測量，即這是在380與780nm之間的整個可見光譜的加權光譜反射平均值。Rv通常針對低于17°、典型地為15°的入射角來測量，但可以針對任何入射角來評估。

由根據(jù)ISO 13666:1998標準定義的W(λ)函數(shù)加權并且記為Ruv的在280nm與380nm之間的平均反射系數(shù)可以通過以下關系式定義：

其中R(λ)表示在給定波長下的鏡片光譜反射系數(shù)，并且W(λ)表示等于太陽光譜輻照度Es(λ)和效率相對光譜函數(shù)S(λ)的乘積的加權函數(shù)。

對于包括在范圍30°-45°內的入射角，優(yōu)選對于35°的入射角，在本發(fā)明的眼科鏡片的主面上在280nm與380nm之間的平均反射系數(shù)Ruv是低于7％、優(yōu)選低于5％、更優(yōu)選低于4％、甚至更優(yōu)選低于3％、理想地低于2％。

對于包括在范圍0°-20°內的入射角，在本發(fā)明的眼科鏡片的主面上的平均光反射系數(shù)Rv是優(yōu)選低于1.25％。

減反射涂層，取決于其結構(金屬氧化物的性質、層的數(shù)目和厚度)和基底的折射率，將呈現(xiàn)特定比色和反射特征。獲得所有特性的平衡是減反射涂層設計的領域。

特別地，Rv和Ruv反射系數(shù)是相關的，并且不可能如所希望地同時最小化Rv和Ruv。

實例

在所有以下實例中，減反射堆疊體是四層堆疊體，該堆疊體包括交替的低折射率材料和高折射率材料。低折射率材料常常是純的SiO2。在對比實例中，高折射率材料是純的礦物氧化物，實際上ZrO2、Ta2O5或Nb2O5。在本發(fā)明實例中，高折射率材料是包含ZrO2的復合材料，實際上ZrO2和Ta2O5的復合材料或ZrO2和Nb2O5的復合材料。

該減反射堆疊體的確切組成由下式表示：

高折射率材料/SiO2

其中高折射率材料組成被表示為

N％氧化物1-(100-N)％氧化物2

例如，以下減反射堆疊體：90％ZrO2–10％Ta2O5/SiO2表示四層堆疊體，該堆疊體包括，在背離該基底移動的方向上，一個包含90％ZrO2和10％Ta2O5的復合材料層，一個SiO2層，一個包含90％ZrO2和10％Ta2O5的復合材料層，以及最后，一個SiO2層。

對于對比實例，N＝100并且氧化物1是ZrO2或Ta2O5或Nb2O5。

在所有以下實例中，Rv對于15°的入射角進行評估并且Ruv對于35°的入射角進行評估。色度總是設定為9。反射光是綠色(色調＝135°)亦或金色(色調＝45°)的。基底的折射率是1.5或1.6。用從薄膜中心(Thin Film Center)可獲得的標準軟件(例如MacLeod版本10)進行計算。

對比實例：

圖1展示了在具有給定折射率的基底上，對于包括交替的氧化鋯和氧化硅(100％ZrO2/SiO2)的四層減反射堆疊體的Rv/Ruv折中。這個曲線圖根據(jù)以下方法進行繪制。選擇特定的Rv值。然后將減反射涂層結構(即，每個金屬氧化物層的厚度)優(yōu)化以達到最低Ruv值，對于具有給定色調(綠色或金色)和低色度的反射光。

從圖1中，了解到僅使用純的氧化鋯作為高折射率材料和純的二氧化硅作為低折射率材料，對于目標比色性能和基底，減反射涂層不能達到曲線以下的區(qū)域。

圖2示出了對于三種高折射率材料，對于在具有折射率1.5的基底上綠色光反射的色調，四層減反射堆疊體的Rv/Ruv折中。ZrO2看起來是同時達到非常低的Rv和Ruv值的最好選擇。Ta2O5不如ZrO2好，并且Nb2O5不允許達到低于5％的Rv和Ruv值，這是非常差的性能。

本發(fā)明實例：

根據(jù)本發(fā)明的眼科鏡片在圖3至圖10中進行描述。

圖3示出了在具有折射率1.5的基底上使用ZrO2和Ta2O5的復合層作為高折射率材料并且對于綠色反射光的四層堆疊體的Rv/Ruv折中。出人意料地，用復合層的減反射堆疊體的Rv/Ruv折中曲線行為不是位于使用純ZrO2(實線)或純Ta2O5(半虛線)的四層堆疊體的Rv/Ruv折中之間的平均曲線。實際上，使用復合材料作為高折射率材料允許同時到達低于使用純的高折射率材料的Rv和Ruv值。例如，在Ruv＝1.5％的情況下，使用純ZrO2的堆疊體將在最佳條件下具有Rv＝0.87％。在包含在重量上10％Ta2O5的復合材料的情況下，在最佳條件下Rv＝0.83％。在重量上30％或50％Ta2O5的情況下，Rv可以達到0.80％。這樣的變化對于減反射特性是顯著的。

更精確地，可以觀察到具有高Ta2O5含量(50％，具有圓圈的曲線)的復合材料對于低于1％的Rv值是令人關注的。具有更低Ta2O5含量(10％，具有正方形的曲線)的復合材料表現(xiàn)總是優(yōu)于純ZrO2，但具有較小改進。

類似地，圖4呈現(xiàn)了使用Nb2O5和ZrO2的復合層作為高折射率材料并且對于金色反射光，根據(jù)本發(fā)明的在具有折射率1.6的基底上四層減反射堆疊體的Rv/Ruv折中。再次，與用純的高折射率材料的減反射堆疊體相比，用復合層的減反射堆疊體的Rv/Ruv折中曲線允許同時達到更低的Rv和Ruv值。加入Nb2O5高折射率材料帶來明顯益處以設計同時具有低Rv和Ruv值的減反射堆疊體。在Ruv＝1.2％的情況下，使用復合層允許差不多0.1％的Rv值降低，這對于減反射特性是非常顯著的。

類似的結果呈現(xiàn)于圖5至10中，其中反射光顏色(綠色、金色)和基底的折射率(1.5和1.6)參數(shù)是系統(tǒng)性地改變的。

在本發(fā)明的一個具體實施例中，當減反射堆疊體包括至少兩個復合層時這個復合層或這些復合層包含與該復合層的總重量相比在重量上小于70％的Ta2O5。

在本發(fā)明的另一個具體實施例中，當減反射堆疊體包括至少兩個復合層時這個復合層或這些復合層包含與該復合層的總重量相比在重量上小于23％的Nb2O5。對于包含在重量上大于25％的Nb2O5的復合材料，性能比對于純ZrO2的性能更差(數(shù)據(jù)未示出)。

在本發(fā)明的具體實施例中，當減反射堆疊體包括至少兩個復合層時這個復合層或這些復合層包含與該復合層的總重量相比在重量上多于30％的ZrO2。

從圖3至10，認識到容易獲得低于1.25％的Rv值，并且也容易獲得低于2.5％的Ruv值。

在本發(fā)明的一些實施例中，對于包括在范圍0°-20°內的入射角，眼科鏡片的主面的平均光反射系數(shù)Rv是低于1.25％。

在本發(fā)明的其他實施例中，對于包括在范圍30°-45°內的入射角，本發(fā)明的眼科鏡片的主面的在280nm與380nm之間的平均反射系數(shù)Ruv是低于7％、優(yōu)選低于5％、更優(yōu)選低于4％、甚至更優(yōu)選低于3％，理想地低于2％。

從仔細分析中，觀察到取決于反射光的顏色和基底的折射率參數(shù)，材料的聯(lián)合是更有價值的。

圖5示出對于金色反射的非常令人關注的結果，使用ZrO2/Ta2O5復合材料，具有非常低的Rv值，對于15°的入射角為低于0.65％。

圖7示出對于金色反射的類似結果，使用ZrO2/Nb2O5復合材料，具有非常低的Rv值，對于15°的入射角為低于0.65％。

圖9示出對于在高折射率基底(1.6)上的金色反射的非常令人關注的結果，使用ZrO2/Ta2O5復合材料，對于15°的入射角，Rv低于0.65％，并且對于35°的入射角，Ruv低于1.6％。

在本發(fā)明的一些實施例中，對于包括在范圍0°-20°內的入射角，被眼科鏡片的主面反射的光具有小于12的色度以及包括在范圍30°-60°內的色調。更具體地，在金色反射光的情況下，在寬范圍的組成內，對于15°的入射角，Rv可以低于0.65％，并且對于35°的入射角，Ruv可以低于2％。

在本發(fā)明的其他實施例中，對于包括在范圍0°-20°內的入射角，被眼科鏡片的主面反射的光具有小于12的色度以及包括在范圍120°-150°內的色調。