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一種膜邊距測量方法及測量裝置與流程

文檔序號:12458426閱讀:來源:國知局
技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供了一種膜邊距測量方法及測量裝置,涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域,可測量保護膜層的膜邊到基板邊緣的距離,甄別出膜邊距過大的基板。其中所述方法包括:制備包括襯底基板、測試圖形和保護膜層的待測基板;測試圖形外邊緣與襯底基板的邊緣對齊,保護膜層與測試圖形存在重合,或者邊緣與測試圖形內(nèi)邊緣對齊;沿測試路徑用測試光線掃描待測基板,接收被反射的測試光線,獲取各點對應(yīng)的光譜,測試路徑經(jīng)測試圖形,一個端點位于測試圖形所在的基板邊上;保護膜層對測試光線的吸收程度高于測試圖形對測試光線的吸收程度;確定出現(xiàn)吸收峰的光譜對應(yīng)的點,該點到測試圖形所在的基板邊的垂直距離為膜邊距。上述測量方法用于甄別出膜邊距過大的基板。

技術(shù)研發(fā)人員:陳曦;袁劍峰;周賀
受保護的技術(shù)使用者:福州京東方光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
文檔號碼:201611031891
技術(shù)研發(fā)日:2016.11.18
技術(shù)公布日:2017.05.31

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