技術總結
本發(fā)明提供了一種用于浸沒光刻設備中的傳感器、光刻設備和使用浸沒光刻設備的器件制造方法。所述傳感器包括構件，在傳感器的使用過程中所述構件接觸供給至與投影系統(tǒng)的最終元件相鄰的空間的浸沒液體；變換器，配置成將刺激轉換為電信號；溫度調節(jié)裝置，配置成使用由冷卻劑供給裝置所供給的熱傳遞介質進行所述變換器的溫度調節(jié)；和控制器，配置成控制所述溫度調節(jié)裝置以主動地控制所述變換器的溫度。

技術研發(fā)人員：T·勞倫特;J·H·W·雅各布斯;H·考克;Y·范德維基維爾;J·范德瓦爾;B·克拿倫;R·J·伍德;J·S·C·維斯特爾拉肯;H·范德里基德特;E·庫伊克爾;W·M·J·赫肯斯-墨騰斯;Y·B·Y·特萊特
受保護的技術使用者：ASML荷蘭有限公司
文檔號碼：201610987008
技術研發(fā)日：2013.03.19
技術公布日：2017.06.20