1.一種雙脈沖碰撞等離子體極紫外光刻光源產(chǎn)生裝置，包括激光器光源、真空靶室及位于真空靶室內(nèi)的靶系統(tǒng)和聚焦透鏡，其特征在于：所述激光器光源包括驅(qū)動光源和輔助光源，驅(qū)動光源由CO2激光器（7）產(chǎn)生，輔助光源由用于產(chǎn)生等離子體的Nd:YAG激光器（1）產(chǎn)生；所述真空靶室（11）內(nèi)靶系統(tǒng)（6）設(shè)置在中心位置，兩個光源入射聚焦透鏡（5）成角度設(shè)置在靶系統(tǒng)（6）的外側(cè)；所述Nd:YAG激光器（1）與其光源對應(yīng)入射的聚焦透鏡（5）之間設(shè)置有楔形棱鏡（4），Nd:YAG激光器（1）光源經(jīng)楔形棱鏡（4）分裂成兩束后，照射靶系統(tǒng)（6）產(chǎn)生兩個等離子體，與CO2激光器（7）光源照射靶系統(tǒng)（6）作用產(chǎn)生碰撞等離子體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙脈沖碰撞等離子體極紫外光刻光源產(chǎn)生裝置，其特征在于：所述Nd:YAG激光器（1）與楔形棱鏡（4）之間依次設(shè)置有半波片（2）和偏振片（3）。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙脈沖碰撞等離子體極紫外光刻光源產(chǎn)生裝置，其特征在于：所述CO2激光器（7）與其光源對應(yīng)入射的聚焦透鏡（5）之間依次設(shè)置有準(zhǔn)直透鏡（8）、鍍金硅鏡面（9）和ZnSe鏡片（10），鍍金硅鏡面（9）位于兩片準(zhǔn)直透鏡（8）之間。
4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一所述的雙脈沖碰撞等離子體極紫外光刻光源產(chǎn)生裝置，其特征在于：所述靶系統(tǒng)（6）由固體靶（12）和液體靶（13）組成，固體靶（12）為鍍膜不銹鋼轉(zhuǎn)輪，液體靶（13）盛裝在容器內(nèi)并設(shè)置在固體靶（12）下方，固體靶（12）的下半部分豎直浸入液體靶（13）內(nèi)；步進電機（14）通過齒輪傳動機構(gòu)（15）帶動固體靶（12）旋轉(zhuǎn)，固體靶（12）旋轉(zhuǎn)過程中附著液體靶（13）。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的雙脈沖碰撞等離子體極紫外光刻光源產(chǎn)生裝置，其特征在于：所述液體靶（13）為液態(tài)合金Galinstan或錫液滴。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的雙脈沖碰撞等離子體極紫外光刻光源產(chǎn)生裝置，其特征在于：所述靶系統(tǒng)（6）通過一支撐架（16）固定在真空靶室（12）的中心位置。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙脈沖碰撞等離子體極紫外光刻光源產(chǎn)生裝置，其特征在于：所述CO2激光器光源的脈寬為30 ns，輸出波長為10600 nm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙脈沖碰撞等離子體極紫外光刻光源產(chǎn)生裝置，其特征在于：所述Nd:YAG激光器光源的脈寬為10 ns，輸出波長為1064 nm，能量為300 mJ。