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一種陣列基板及顯示面板的制作方法

文檔序號(hào):12360516閱讀:225來(lái)源:國(guó)知局
一種陣列基板及顯示面板的制作方法與工藝

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種陣列基板及顯示面板。



背景技術(shù):

隨著顯示技術(shù)的飛速發(fā)展,觸控屏(Touch Panel,簡(jiǎn)稱(chēng)TP)的誕生使人們的生活更加便捷。

目前,在日常生活中已經(jīng)被人們廣泛應(yīng)用了的一些智能終端如智能手機(jī)和平板電腦等,其內(nèi)部存儲(chǔ)了大量重要信息,因此,其安全性變得尤為重要。而手指的指紋是由手指表面皮膚凹凸不平的紋路組成,是人體與生俱來(lái)的、獨(dú)一無(wú)二、固定不變、可與他人區(qū)分開(kāi)的識(shí)別特征,指紋識(shí)別技術(shù)具有精度高、速度快、價(jià)格低、用戶(hù)接受度高等優(yōu)點(diǎn),因此,指紋識(shí)別成為倍受歡迎的智能終端加密方式。

顯示裝置包括顯示面板,顯示面板包括陣列基板和對(duì)盒基板;陣列基板包括薄膜晶體管和像素電極;對(duì)盒基板包括黑矩陣。現(xiàn)有的一種顯示裝置實(shí)現(xiàn)指紋識(shí)別功能的技術(shù)方案,是將指紋識(shí)別組件集成在陣列基板上。其中,指紋識(shí)別組件包括指紋識(shí)別元件和開(kāi)關(guān)元件,指紋識(shí)別元件設(shè)置在陣列基板的不與黑矩陣對(duì)應(yīng)的區(qū)域,開(kāi)關(guān)元件和薄膜晶體管與黑矩陣對(duì)應(yīng)。

基于此,由于陣列基板和對(duì)盒基板對(duì)盒時(shí),會(huì)存在對(duì)位偏差,因此,需要黑矩陣的尺寸大于開(kāi)關(guān)元件和薄膜晶體管的尺寸,導(dǎo)致顯示面板的開(kāi)口率降低。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的實(shí)施例提供一種陣列基板及顯示面板,可提高顯示面板的開(kāi)口率。

為達(dá)到上述目的,本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:

一方面,提供一種陣列基板,包括設(shè)置在襯底上的薄膜晶體管、以及指紋識(shí)別組件;所述指紋識(shí)別組件包括開(kāi)關(guān)元件和指紋識(shí)別元件;所述指紋識(shí)別元件設(shè)置在所述開(kāi)關(guān)元件和所述薄膜晶體管的遠(yuǎn)離所述襯底的一側(cè),且所述指紋識(shí)別元件在所述襯底上的正投影覆蓋所述開(kāi)關(guān)元件和所述薄膜晶體管在所述襯底上的正投影;其中,所述指紋識(shí)別元件的靠近所述襯底的第一極的材料為金屬材料。

優(yōu)選的,所述指紋識(shí)別元件在襯底上的正投影還覆蓋沿第一方向延伸的信號(hào)線(xiàn)在所述襯底上的正投影;所述信號(hào)線(xiàn)為柵線(xiàn)或數(shù)據(jù)線(xiàn);其中,沿與所述第一方向交叉的第二方向,任一排所述子像素用于發(fā)同一種顏色的光。

優(yōu)選的,所述陣列基板還包括與所述薄膜晶體管的漏極通過(guò)第一過(guò)孔電連接的像素電極;所述陣列基板還包括第一遮光圖案,所述第一遮光圖案設(shè)置在所述第一過(guò)孔與所述襯底之間,且與所述第一過(guò)孔位置對(duì)應(yīng)。

優(yōu)選的,所述陣列基板還包括公共電極;所述指紋識(shí)別元件的遠(yuǎn)離所述襯底的第二極與所述公共電極共用;所述第一極與所述開(kāi)關(guān)元件的漏極電連接。

進(jìn)一步優(yōu)選的,所述指紋識(shí)別元件還包括位于所述第一極和所述第二極之間的半導(dǎo)體層,所述半導(dǎo)體層與所述第二極之間設(shè)置有樹(shù)脂層;其中,所述樹(shù)脂層上設(shè)置有第二過(guò)孔,所述第二極通過(guò)所述第二過(guò)孔與所述半導(dǎo)體層接觸。

基于上述,優(yōu)選的,所述薄膜晶體管和所述開(kāi)關(guān)元件同步形成,且均為低溫多晶硅薄膜晶體管;所述陣列基板還包括設(shè)置在所述襯底與所述薄膜晶體管之間,以及所述襯底與所述開(kāi)關(guān)元件之間的第二遮光圖案。

進(jìn)一步優(yōu)選的,所述第一遮光圖案和所述第二遮光圖案同層設(shè)置。

另一方面,提供一種顯示面板,包括第一方面所述的陣列基板和對(duì)盒基板;所述對(duì)盒基板包括黑矩陣,所述黑矩陣用于防止發(fā)不同顏色光的相鄰子像素之間的混光。

優(yōu)選的,在所述陣列基板包括第一過(guò)孔的情況下,所述黑矩陣在所述襯底上的正投影與所述第一過(guò)孔在所述襯底的正投影不重疊。

基于上述,優(yōu)選的,所述對(duì)盒基板還包括彩色濾光層,所述彩色濾光層包括第一基色濾光圖案、第二基色濾光圖案、以及第三基色濾光圖案;沿第一方向,所述第一基色濾光圖案、所述第二基色濾光圖案、所述第三基色濾光圖案依次排列;所述第一基色濾光圖案、所述第二基色濾光圖案、所述第三基色濾光圖案均沿第二方向延伸。

本發(fā)明的實(shí)施例提供一種陣列基板及顯示面板,通過(guò)將指紋識(shí)別元件設(shè)置在開(kāi)關(guān)元件和薄膜晶體管的上方,且使指紋識(shí)別元件的靠近襯底的第一極的材料設(shè)置為金屬材料,可以使指紋識(shí)別元件在實(shí)現(xiàn)指紋識(shí)別的基礎(chǔ)上,充當(dāng)黑矩陣的效果,從而在陣列基板應(yīng)用于顯示面板時(shí),可省略對(duì)盒基板上與開(kāi)關(guān)元件和薄膜晶體管對(duì)應(yīng)的黑矩陣。其中,由于指紋識(shí)別元件與開(kāi)關(guān)元件和薄膜晶體管均設(shè)置在陣列基板上,因此指紋識(shí)別元件與開(kāi)關(guān)元件和薄膜晶體管之間的膜層偏差幾乎可以忽略,基于此,通過(guò)采用指紋識(shí)別元件的第一極來(lái)遮擋開(kāi)關(guān)元件和薄膜晶體管,可以提高顯示面板的開(kāi)口率。

附圖說(shuō)明

為了更清楚地說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見(jiàn)地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來(lái)講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖一;

圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖二;

圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種陣列基板的結(jié)構(gòu)示意圖三;

圖4為圖3中沿A-A向的剖面示意圖一;

圖5為圖3中沿A-A向的剖面示意圖二;

圖6為圖3中沿B-B向的剖面示意圖;

圖7為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖;

圖8為圖7中沿C-C向的剖面示意圖;

圖 9為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種陣列基板中各組件的一種等效電路圖;

圖10為本發(fā)明實(shí)施例提供的一種對(duì)盒基板的結(jié)構(gòu)示意圖。

附圖標(biāo)記:

100-陣列基板;200-對(duì)盒基板;10-襯底;20-薄膜晶體管;21-第一過(guò)孔;22-像素電極;23-公共電極;30-指紋識(shí)別組件;31-開(kāi)關(guān)原件;32-指紋識(shí)別原件;321-第一極;322-第二極;323-半導(dǎo)體層;324-樹(shù)脂層;325-第二過(guò)孔;50-第一遮光圖案;60-第二遮光圖案;70-黑矩陣;80-彩色濾光層;81-第一基色濾光圖案;82-第二基色濾光圖案;83-第三基色濾光圖案;GL-柵線(xiàn);DL-數(shù)據(jù)線(xiàn);TL-控制線(xiàn);RL-讀取信號(hào)線(xiàn)。

具體實(shí)施方式

下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖,對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒景l(fā)明中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種陣列基板100,如圖1和圖2所示,包括設(shè)置在襯底10上的薄膜晶體管20、以及指紋識(shí)別組件30;指紋識(shí)別組件30包括開(kāi)關(guān)元件31和指紋識(shí)別元件32;指紋識(shí)別元件32設(shè)在開(kāi)關(guān)元件31和薄膜晶體管20的遠(yuǎn)離襯底10的一側(cè),且指紋識(shí)別元件32在襯底10上的正投影覆蓋開(kāi)關(guān)元件31和薄膜晶體管20在襯底10上的正投影;其中,指紋識(shí)別元件31的靠近襯底10的第一極的材料為金屬材料。

其中,開(kāi)關(guān)元件31分別連接控制線(xiàn)TL、讀取信號(hào)線(xiàn)RL和指紋識(shí)別元件32,用于在控制線(xiàn)TL的控制下開(kāi)啟,使指紋識(shí)別元件32與讀取信號(hào)線(xiàn)RL導(dǎo)通。此處,優(yōu)選每行的開(kāi)關(guān)元件31與一根控制線(xiàn)TL相連,每列的開(kāi)關(guān)元件31與一根讀取信號(hào)線(xiàn)RL相連。

薄膜晶體管20分別連接?xùn)啪€(xiàn)GL、數(shù)據(jù)線(xiàn)DL和像素電極22。此處,優(yōu)選每行的薄膜晶體管20與一根柵線(xiàn)GL相連,每列的薄膜晶體管20與一根數(shù)據(jù)線(xiàn)DL相連。

此處,薄膜晶體管20可以為非晶硅薄膜晶體管、金屬半導(dǎo)體氧化物晶體管、低溫多晶硅薄膜晶體管、有機(jī)薄膜晶體管等。開(kāi)關(guān)元件31的結(jié)構(gòu)可與薄膜晶體管20相同,具體在此不做限定。

需要說(shuō)明的是,第一,指紋識(shí)別元件32在襯底10上的正投影可以剛好覆蓋開(kāi)關(guān)元件31和薄膜晶體管20在襯底10上的正投影,也可以是指紋識(shí)別元件32在襯底10上的正投影面積大于開(kāi)關(guān)元件31和薄膜晶體管20在襯底10上的正投影面積。

考慮到制作陣列基板100過(guò)程中的膜層偏移,如圖1和圖2所示,優(yōu)選指紋識(shí)別元件32在襯底10上的正投影面積大于開(kāi)關(guān)元件31和薄膜晶體管20在襯底10上的正投影面積。

其中,本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該明白,當(dāng)指紋識(shí)別元件32在襯底10上的正投影面積大于開(kāi)關(guān)元件31和薄膜晶體管20在襯底10上的正投影面積時(shí),為了不影響陣列基板的開(kāi)口率,紋識(shí)別元件32在襯底10上的正投影應(yīng)稍微大于開(kāi)關(guān)元件31和薄膜晶體管20在襯底10上的正投影。

第二,不對(duì)指紋識(shí)別組件30中的開(kāi)關(guān)元件31和指紋識(shí)別元件32的具體結(jié)構(gòu)進(jìn)行限定,能夠使指紋識(shí)別組件30實(shí)現(xiàn)指紋檢測(cè)功能即可。

第三,不對(duì)指紋識(shí)別元件32的第一極的具體材料進(jìn)行限定,能起到遮光作用即可。

其中,為了降低外界環(huán)境光經(jīng)第一電極反射后對(duì)正常顯示造成影響,本發(fā)明實(shí)施例優(yōu)選第一電極為反射率較低的金屬材料。

第四,如圖1所示,可以在每個(gè)子像素中均設(shè)置一個(gè)指紋識(shí)別組件30,也可以以N個(gè)子像素為一個(gè)重復(fù)單元,在一個(gè)重復(fù)單元中設(shè)置一個(gè)指紋識(shí)別組件30。其中,N為大于1的整數(shù)。圖2以?xún)蓚€(gè)子像素為一個(gè)重復(fù)單元進(jìn)行示意。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種陣列基板100,通過(guò)將指紋識(shí)別元件32設(shè)置在開(kāi)關(guān)元件31和薄膜晶體管20的上方,且使指紋識(shí)別元件32的靠近襯底10的第一極的材料設(shè)置為金屬材料,可以使指紋識(shí)別元件32在實(shí)現(xiàn)指紋識(shí)別的基礎(chǔ)上,充當(dāng)黑矩陣的效果,從而在陣列基板100應(yīng)用于顯示面板時(shí),可省略對(duì)盒基板上與開(kāi)關(guān)元件32和薄膜晶體管20對(duì)應(yīng)的黑矩陣。其中,由于指紋識(shí)別元件32與開(kāi)關(guān)元件32和薄膜晶體管20均設(shè)置在陣列基板上,因此指紋識(shí)別元件32與開(kāi)關(guān)元件32和薄膜晶體管20之間的膜層偏差幾乎可以忽略,基于此,通過(guò)采用指紋識(shí)別元件32的第一極來(lái)遮擋開(kāi)關(guān)元件32和薄膜晶體管20,可以提高顯示面板的開(kāi)口率。

優(yōu)選的,如圖3所示,指紋識(shí)別元件32在襯底10上的正投影還覆蓋沿第一方向延伸的信號(hào)線(xiàn)在襯底10上的正投影;所述信號(hào)線(xiàn)為柵線(xiàn)GL或數(shù)據(jù)線(xiàn)DL;其中,沿與第一方向交叉的第二方向,任一排子像素用于發(fā)同一種顏色的光。

需要說(shuō)明的是,第一,可以是數(shù)據(jù)線(xiàn)DL沿第一方向延伸,柵線(xiàn)GL沿第二方向延伸,指紋識(shí)別元件32在襯底10上的正投影覆蓋數(shù)據(jù)線(xiàn)DL在襯底10上的正投影。

在此基礎(chǔ)上,當(dāng)陣列基板100應(yīng)用于顯示面板時(shí),則對(duì)盒基板上與數(shù)據(jù)線(xiàn)DL對(duì)應(yīng)的位置處可不設(shè)置黑矩陣,與柵線(xiàn)GL對(duì)應(yīng)的位置處設(shè)置黑矩陣,用來(lái)避免發(fā)不同顏色光的相鄰子像素之間發(fā)生混光。

或者,柵線(xiàn)GL沿第一方向延伸,數(shù)據(jù)線(xiàn)DL沿第二方向延伸,指紋識(shí)別元件32在襯底10上的正投影覆蓋柵線(xiàn)GL在襯底10上的正投影。

在此基礎(chǔ)上,當(dāng)陣列基板100應(yīng)用于顯示面板時(shí),則對(duì)盒基板上與柵線(xiàn)GL對(duì)應(yīng)的位置處可不設(shè)置黑矩陣,與數(shù)據(jù)線(xiàn)DL對(duì)應(yīng)的位置處設(shè)置黑矩陣,用來(lái)避免發(fā)不同顏色光的相鄰子像素之間發(fā)生混光。

其中,若控制線(xiàn)TL和讀取信號(hào)線(xiàn)RL中的一者也沿第一方向延伸,則可將其靠近沿第一方向延伸的信號(hào)線(xiàn)設(shè)置,以使指紋識(shí)別元件32在襯底10上的正投影也同時(shí)覆蓋沿第一方向延伸的控制線(xiàn)TL或讀取信號(hào)線(xiàn)RL。

圖3中以柵線(xiàn)GL和控制線(xiàn)TL沿第一方向延伸,數(shù)據(jù)線(xiàn)DL和讀取信號(hào)線(xiàn)RL沿第二方向延伸進(jìn)行示意。

本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)使指紋識(shí)別元件32在襯底10上的正投影還覆蓋沿第一方向延伸的信號(hào)線(xiàn)在襯底10上的正投影,一方面,可以充當(dāng)黑矩陣的效果,從而在陣列基板100應(yīng)用于顯示面板時(shí),可省略對(duì)盒基板上與沿第一方向延伸的信號(hào)線(xiàn)對(duì)應(yīng)的黑矩陣,避免對(duì)盒偏差導(dǎo)致的開(kāi)口率減??;另一方面,可以增大指紋識(shí)別元件32的面積,提高指紋檢測(cè)的準(zhǔn)確度。

優(yōu)選的,如圖4所示,像素電極22與薄膜晶體管20的漏極通過(guò)第一過(guò)孔21電連接;所述陣列基板100還包括第一遮光圖案50,第一遮光圖案50設(shè)置在第一過(guò)孔21與襯底10之間,且與第一過(guò)孔21位置對(duì)應(yīng)。

其中,第一遮光圖案50與第一過(guò)孔21位置對(duì)應(yīng),即為:第一遮光圖案50在襯底10上的正投影覆蓋第一過(guò)孔21在襯底10上的正投影。

本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該明白,第一過(guò)孔21位置處的實(shí)際漏光面積大于第一過(guò)孔21在襯底10上的正投影的面積,因此,第一遮光圖案50的面積應(yīng)為第一過(guò)孔21在襯底10上的正投影面積加上第一過(guò)孔21處以外的漏光范圍內(nèi)的面積。

此外,為了降低外界環(huán)境光經(jīng)第一遮光圖案50反射后對(duì)正常顯示造成影響,本發(fā)明實(shí)施例優(yōu)選第一遮光圖案50為反射率較低的金屬材料。

本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)在襯底10與第一過(guò)孔21之間設(shè)置第一遮光圖案50,一方面,可以充當(dāng)黑矩陣的效果,從而在陣列基板100應(yīng)用于顯示面板時(shí),可省略對(duì)盒基板上與第一過(guò)孔21對(duì)應(yīng)位置處的黑矩陣,來(lái)增大指紋識(shí)別元件32的感光面積,提高指紋檢測(cè)的準(zhǔn)確度。另一方面,現(xiàn)有技術(shù)中在對(duì)盒基板上設(shè)置黑矩陣時(shí),由于對(duì)盒偏差的存在,黑矩陣的面積應(yīng)為第一過(guò)孔21在襯底10上正投影的面積加上第一過(guò)孔21處以外的漏光范圍內(nèi)的面積再加上對(duì)盒偏差,而本發(fā)明中第一遮光圖案50的面積只為第一過(guò)孔21在襯底10上正投影的面積加上第一過(guò)孔21處以外的漏光范圍內(nèi)的面積。因此,相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明實(shí)施例可進(jìn)一步提高顯示面板的開(kāi)口率。

優(yōu)選的,如圖5所示,所述陣列基板100還包括公共電極23;指紋識(shí)別元件32的遠(yuǎn)離襯底10的第二極322與公共電極23共用;第一極321與開(kāi)關(guān)元件31的漏極電連接。

其中,公共電極23的材料為透明導(dǎo)電材料,例如ITO(氧化銦錫)、IZO(銦鋅氧化物)等。

本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)將指紋識(shí)別元件32的第二極322與公共電極23分時(shí)共用,可以減少構(gòu)圖工藝次數(shù),并使陣列基板輕薄化。

進(jìn)一步優(yōu)選的,如圖5所示,指紋識(shí)別元件32還包括位于第一極321和第二極322之間的半導(dǎo)體層323,半導(dǎo)體層323與第二極322之間設(shè)置有樹(shù)脂層324;其中,樹(shù)脂層324上設(shè)置有第二過(guò)孔325,第二極322通過(guò)第二過(guò)孔325與半導(dǎo)體層323接觸。第一極321與半導(dǎo)體層323直接接觸。

本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)在第二極322和半導(dǎo)體層323之間設(shè)置一層樹(shù)脂層324,可以降低指紋識(shí)別元件32的內(nèi)部的勢(shì)壘電容,提高指紋識(shí)別元件32的性能。

基于上述,優(yōu)選的,如圖5和圖6所示,薄膜晶體管20和開(kāi)關(guān)元件31同步形成,且均為低溫多晶硅薄膜晶體管;陣列基板100還包括設(shè)置在襯底10與薄膜晶體管20之間,以及襯底10與開(kāi)關(guān)元件31之間的第二遮光圖案60。

其中,第二遮光圖案60與薄膜晶體管20和開(kāi)關(guān)元件31的溝道區(qū)對(duì)應(yīng)。

本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)將薄膜晶體管20與開(kāi)關(guān)元件31同步形成,可減少構(gòu)圖工藝次數(shù)。此外,將薄膜晶體管20與開(kāi)關(guān)元件31均設(shè)置為低溫多晶硅薄膜晶體管,可提高電子的遷移率,縮短充電時(shí)間,使得該陣列基板的性能更好。其中,在襯底10與薄膜晶體管20和開(kāi)關(guān)元件31之間設(shè)置第二遮光圖案60,可避免薄膜晶體管20和開(kāi)關(guān)元件31因入射光照射而產(chǎn)生漏電流。

進(jìn)一步優(yōu)選的,如圖5所示,第一遮光圖案50和第二遮光圖案60同層設(shè)置。

其中,第一遮光圖案50和第二遮光圖案60同層設(shè)置,即為兩者通過(guò)同一次構(gòu)圖工藝形成。

此外,第一遮光圖案50和第二遮光圖案60可以獨(dú)立設(shè)置,也可以連接為一體。圖5以第一遮光圖案50和第二遮光圖案60獨(dú)立設(shè)置進(jìn)行示意。

本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)將第一遮光圖案50和第二遮光圖案60同層設(shè)置,可以減少構(gòu)圖工藝次數(shù),并使陣列基板輕薄化。

本發(fā)明實(shí)施例還提供一種顯示面板,如圖7和圖8所示,包括上述陣列基板100和對(duì)盒基板200;對(duì)盒基板200包括黑矩陣70,所述黑矩陣70用于防止發(fā)不同顏色光的相鄰子像素之間的混光。

具體的,如圖7所示,陣列基板100上的柵線(xiàn)GL和控制線(xiàn)TL沿第一方向延伸,數(shù)據(jù)線(xiàn)DL和讀取信號(hào)線(xiàn)RL沿第二方向延伸,沿第二方向的任一排子像素(圖中虛線(xiàn)框所示)用于發(fā)同一種顏色的光。對(duì)盒基板200上的黑矩陣70設(shè)置在相鄰排子像素之間且也沿第二方向延伸,用于防止發(fā)不同顏色光的相鄰子像素之間的混光。

本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示面板進(jìn)行指紋識(shí)別的原理為:如圖9所示,在顯示階段,柵線(xiàn)GL依次打開(kāi),數(shù)據(jù)線(xiàn)DL向像素電極22輸入數(shù)據(jù)信號(hào),顯示面板正常顯示。在指紋識(shí)別階段,利用光的折射和反射原理,當(dāng)手指接觸顯示面板表面時(shí),顯示面板發(fā)出的光照射到手指指紋的谷線(xiàn)和脊線(xiàn)上,由于谷線(xiàn)和脊線(xiàn)折射的角度及反射回去的光線(xiàn)強(qiáng)度不同,將其投射在指紋識(shí)別元件32上產(chǎn)生的電流也不同,通過(guò)對(duì)指紋識(shí)別元件32上的電流進(jìn)行判斷,來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)手指指紋的谷線(xiàn)和脊線(xiàn)的識(shí)別。

其中,當(dāng)手指接觸顯示面板時(shí),指紋的脊線(xiàn)更容易與顯示面板接觸,照射到手指指紋脊線(xiàn)上的光線(xiàn)發(fā)生全反射后到達(dá)指紋識(shí)別元件32上的光線(xiàn)強(qiáng)度較強(qiáng),而經(jīng)指紋的谷線(xiàn)到達(dá)指紋識(shí)別元件32上的光線(xiàn)強(qiáng)度較弱。

本發(fā)明實(shí)施例提供一種顯示面板,通過(guò)將陣列基板100上的指紋識(shí)別元件32設(shè)置在開(kāi)關(guān)元件31和薄膜晶體管20的上方,且使指紋識(shí)別元件32的靠近所述襯底10的第一極321的材料設(shè)置為金屬材料,可以使指紋識(shí)別元件32在實(shí)現(xiàn)指紋識(shí)別的基礎(chǔ)上,充當(dāng)黑矩陣70的效果,從而可省略對(duì)盒基板200上與開(kāi)關(guān)元件32和薄膜晶體管20對(duì)應(yīng)的黑矩陣70。其中,由于指紋識(shí)別元件32與開(kāi)關(guān)元件32和薄膜晶體管20均設(shè)置在陣列基板100上,因此指紋識(shí)別元件32與開(kāi)關(guān)元件32和薄膜晶體管20之間的膜層偏差幾乎可以忽略,基于此,通過(guò)采用指紋識(shí)別元件32的第一極321來(lái)遮擋開(kāi)關(guān)元件32和薄膜晶體管20,可以提高顯示面板的開(kāi)口率。

優(yōu)選的,如圖8所示,在陣列基板包括第一過(guò)孔21的情況下,黑矩陣70在襯底10上的正投影與第一過(guò)孔21在襯底10的正投影不重疊。

即,在對(duì)盒基板200上,與第一過(guò)孔21對(duì)應(yīng)的位置處不設(shè)置黑矩陣70。

本發(fā)明實(shí)施例通過(guò)在陣列基板100上的襯底10與第一過(guò)孔21之間設(shè)置第一遮光圖案50,一方面,可以充當(dāng)黑矩陣70的效果,從而在陣列基板100應(yīng)用于顯示面板時(shí),可省略對(duì)盒基板200上與第一過(guò)孔21對(duì)應(yīng)位置處的黑矩陣70,來(lái)增大指紋識(shí)別元件32的感光面積,提高指紋檢測(cè)的準(zhǔn)確度。另一方面,現(xiàn)有技術(shù)中在對(duì)盒基板200上設(shè)置黑矩陣70時(shí),由于對(duì)盒偏差的存在,黑矩陣70的面積應(yīng)為第一過(guò)孔21在襯底10上正投影的面積加上第一過(guò)孔21處以外的漏光范圍內(nèi)的面積再加上對(duì)盒偏差,而本發(fā)明中第一遮光圖案50的面積只為第一過(guò)孔21在襯底10上正投影的面積加上第一過(guò)孔21處以外的漏光范圍內(nèi)的面積。因此,相對(duì)于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明實(shí)施例可進(jìn)一步提高顯示面板的開(kāi)口率。

基于上述,優(yōu)選的,如圖10所示,對(duì)盒基板200還包括彩色濾光層80,彩色濾光層80包括第一基色濾光圖案81、第二基色濾光圖案82、以及第三基色濾光圖案83;沿第一方向,第一基色濾光圖案81、第二基色濾光圖案82、第三基色濾光圖案83依次排列;第一基色濾光圖案81、第二基色濾光圖案82、第三基色濾光圖案83均沿第二方向延伸。

此處,第一基色濾光圖案81、第二基色濾光圖案82和第三基色濾光圖案83的顏色各不相同,只要三者的顏色為三基色即可。

其中,第一基色、第二基色和第三基色可以互為紅色、藍(lán)色和綠色,例如,第一基色為紅色、第二基色為黃色、第三基色為紅色,當(dāng)然也可以是其他組合。或者,第一基色、第二基色和第三基色也可以互為青色、品紅和黃色,例如,第一基色為青色、第二基色為品紅、第三基色為黃色,當(dāng)然也可以是其他組合。

以上所述,僅為本發(fā)明的具體實(shí)施方式,但本發(fā)明的保護(hù)范圍并不局限于此,任何熟悉本技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明揭露的技術(shù)范圍內(nèi),可輕易想到變化或替換,都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。因此,本發(fā)明的保護(hù)范圍應(yīng)以所述權(quán)利要求的保護(hù)范圍為準(zhǔn)。

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