本發(fā)明涉及觸摸屏制造技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示屏及其偏光片。

背景技術(shù)：

液晶顯示器由于其優(yōu)良的圖像再現(xiàn)功能成為目前顯示器件的首選，但是由于液晶層、偏光片、色阻的濾光作用，使得液晶顯示器的整體穿透率僅有5％左右，這一點對于便攜式的手機、平板等需求是不可接受的。RGBW顯示技術(shù)通過在傳統(tǒng)RGB色阻排列的基礎(chǔ)上增加白色W畫素，由于通常白色畫素W采用高透過率的OC平坦層替代低透過率的色阻層，因而相對于RGB畫素排列具有高亮度、低功耗的優(yōu)勢。白色背光通過OC平坦層構(gòu)成的W畫素后，W畫素的白點色坐標(biāo)與通過RGB畫素合成的白點色坐標(biāo)會存在一定的差異，而顯示模組的白點色坐標(biāo)其實是W畫素與RGB畫素白點色坐標(biāo)的綜合結(jié)果。因此，采用傳統(tǒng)結(jié)構(gòu)的RGBW顯示器相對于RGB顯示器其白點色坐標(biāo)會存在明顯的差異，特別是隨著灰階的變化其色坐標(biāo)變化趨勢有所不同，這一點無疑對RGBW顯示器的色彩再現(xiàn)能力構(gòu)成更嚴(yán)重的劣勢，因而有必要采用適當(dāng)手段使得RGB子像素合成的白光色坐標(biāo)與W白光色坐標(biāo)相匹配。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

為了解決現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提出了一種顯示屏及其偏光片，能夠使得RGB子像素合成的白光色坐標(biāo)與W白光色坐標(biāo)相匹配。

本發(fā)明提出的具體技術(shù)方案為：提供一種偏光片，包括介質(zhì)層以及設(shè)置于所述介質(zhì)層上的線柵結(jié)構(gòu)陣列，所述線柵結(jié)構(gòu)陣列包括多個線柵結(jié)構(gòu)，每個線柵結(jié)構(gòu)包括三個第一線柵單元和一個第二線柵單元，所述第一線柵單元和所述第二線柵單元分別包括多個間隔設(shè)置的線柵，所述第一線柵單元和所述第二線柵單元用于將入射光轉(zhuǎn)換為線偏振光。

進(jìn)一步地，所述第一線柵單元和所述第二線柵單元的線柵周期分別為20nm～500nm；所述第一線柵單元和所述第二線柵單元的占空比分別為0.1～0.9。

進(jìn)一步地，所述線柵沿與所述介質(zhì)層及所述線柵垂直的方向上的截面的形狀為方形、梯形或三角形。

進(jìn)一步地，所述線柵的材質(zhì)為鋁、銀或金。

本發(fā)明還提供了一種顯示屏，包括背光模組以及依次設(shè)置于所述背光模組上的下基板、液晶層以及上基板，所述上基板包括色阻層以及位于所述色阻層上的上偏光片，所述下基板包括TFT陣列以及如權(quán)上所述的偏光片，所述偏光片設(shè)置于所述TFT陣列上，所述線柵陣列位于所述介質(zhì)層與所述背光模組之間，所述色阻層包括多個像素，每一像素包括R子像素單元、G子像素單元、B子像素單元和W子像素單元，所述R子像素單元、G子像素單元、B子像素單元分別對應(yīng)一個第一線柵單元，所述W子像素單元對應(yīng)第二線柵單元。

進(jìn)一步地，每個線柵結(jié)構(gòu)中任意兩個相鄰的線柵單元之間的距離相等。

進(jìn)一步地，所述色阻層還包括非像素單元，所述非像素單元上設(shè)置有位于所述R子像素單元、G子像素單元、B子像素單元以及W子像素單元之間的黑矩陣。

進(jìn)一步地，所述黑矩陣在所述偏光片上的投影位于兩個相鄰的線柵單元之間。

進(jìn)一步地，所述上基板還包括位于所述色阻層與所述液晶層之間的OC平坦化層以及位于所述色阻層與所述上偏光片之間的基底。

本發(fā)明提供的顯示屏及其偏光片，R子像素單元、G子像素單元以及B子像素單元分別對應(yīng)一個第一線柵單元，W子像素單元對應(yīng)一個第二線柵單元，通過改變R子像素、G子像素、B子像素以及W子像素單元對應(yīng)的第一線柵單元及第二線柵單元的線柵周期和占空比，能夠保證W子像素單元的白點色坐標(biāo)與R子像素單元、G子像素單元以及B子像素單元合成的白點色坐標(biāo)的一致性，從而改善RGBW顯示屏的白點漂移的現(xiàn)象。

附圖說明

下面結(jié)合附圖，通過對本發(fā)明的具體實施方式詳細(xì)描述，將使本發(fā)明的技術(shù)方案及其它有益效果顯而易見。

圖1為實施例1中顯示屏的偏光片的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為圖1中偏光片的線柵層的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為實施例1的顯示屏的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為實施例2的顯示屏的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實施方式

以下，將參照附圖來詳細(xì)描述本發(fā)明的實施例。然而，可以以許多不同的形式來實施本發(fā)明，并且本發(fā)明不應(yīng)該被解釋為限制于這里闡述的具體實施例。相反，提供這些實施例是為了解釋本發(fā)明的原理及其實際應(yīng)用，從而使本領(lǐng)域的其他技術(shù)人員能夠理解本發(fā)明的各種實施例和適合于特定預(yù)期應(yīng)用的各種修改。在附圖中，相同的標(biāo)號將始終被用于表示相同的元件。

實施例1

參照圖1、圖2，本實施例提供了一種偏光片1，其包括介質(zhì)層11以及設(shè)置于介質(zhì)層11上的線柵層12，線柵層12上設(shè)置有線柵結(jié)構(gòu)陣列，線柵結(jié)構(gòu)陣列包括多個線柵結(jié)構(gòu)12a，每個線柵結(jié)構(gòu)12a包括三個第一線柵單元120和一個第二線柵單元121，第一線柵單元120和第二線柵單元121分別包括多個間隔設(shè)置的線柵100，第一線柵單元120和第二線柵單元121用于將入射光轉(zhuǎn)換為線偏振光。

具體的，線柵層12包括透光區(qū)及非透光區(qū)12b，透光區(qū)呈陣列設(shè)置，線柵結(jié)構(gòu)12a設(shè)置于透光區(qū)中。線柵層12的材質(zhì)為具有較大折射率虛部的材料，例如為鋁、銀或金等，介質(zhì)層11的材質(zhì)為SiO₂、SiO、MgO、Si₃N₄、TiO₂、Ta₂O₅等。入射光入射到線柵層12上時，線柵結(jié)構(gòu)12a可以讓偏正方向垂直于線柵100的光通過，而將偏振方向平行于線柵100的光反射，從而將入射光轉(zhuǎn)換為線偏光。

其中，第一線柵單元120和第二線柵單元121的線柵周期分別為20nm～500nm；第一線柵單元120和第二線柵單元121的占空比分別為0.1～0.9，線柵周期表示的是每個線柵單元中兩個相鄰的線柵100的幾何中心之間的距離，占空比表示的是每個線柵單元中線柵100的寬度與線柵周期的比值，線柵100的厚度為10～500nm。三個第一線柵單元120和第二線柵單元121的線柵周期和占空比可以相等也可以不相等。線柵100為條狀，其沿與介質(zhì)層11及線柵100垂直的方向上的截面的形狀為方形、梯形或三角形。

通過改變每個線柵單元的線柵周期及占空比可以調(diào)節(jié)每個線柵單元對不同波長的光線的透光率。

參照圖3，本實施例還提供了一種顯示屏，其包括背光模組2以及依次設(shè)置于背光模組2上的下基板、液晶層4以及上基板，上基板包括色阻層5以及位于色阻層5上的上偏光片6，下基板包括TFT陣列3以及偏光片1，偏光片1位于TFT陣列3與背光模組2之間，其中，線柵層12位于介質(zhì)層11與背光模組2之間。上偏光片6的偏振方向與偏光片1的偏振方向垂直。其中，背光模組2為側(cè)入式背光模組結(jié)構(gòu)或者直下式背光模組結(jié)構(gòu)。

具體的，色阻層5包括多個間隔設(shè)置的像素，多個間隔設(shè)置的像素構(gòu)成顯示屏的顯示區(qū)域，每個像素對應(yīng)一個線柵結(jié)構(gòu)12a，每個線柵結(jié)構(gòu)12a中任意兩個相鄰的線柵單元之間的距離相等。其中，每個像素由間隔設(shè)置的R子像素單元、G子像素單元、B子像素單元和W子像素單元組成，每個子像素單元對應(yīng)一個線柵單元，其中，R子像素單元、G子像素單元、B子像素單元分別對應(yīng)一個第一線柵單元120，W子像素單元對應(yīng)一個第二線柵單元121。R子像素單元、G子像素單元、B子像素單元分別填充有不同顏色的色阻材料，用于分別顯示紅、綠、藍(lán)三種顏色，W子像素單元填充有OC材料，OC材料具有高穿透率特性，用于透過背光模組2發(fā)出的白光，其中，R子像素單元、G子像素單元、B子像素單元和W子像素單元的排列方式可以根據(jù)實際需要進(jìn)行設(shè)定，本實施例圖3中只是通過示例給出并不用于進(jìn)行限定。

色阻層5還包括非像素單元，非像素單元構(gòu)成顯示屏的非顯示區(qū)域，非像素單元上設(shè)置有黑矩陣51，黑矩陣51設(shè)置于R子像素單元、G子像素單元、B子像素單元以及W子像素單元之間，用于布設(shè)數(shù)據(jù)線以及掃描線(圖未示)，通過黑矩陣51還可以改善R子像素單元、G子像素單元、B子像素單元和W子像素單元邊緣的漏光現(xiàn)象。優(yōu)選的，黑矩陣51的寬度和與其對應(yīng)的非透光區(qū)12b的寬度相等即黑矩陣51在偏光片1上的投影位于兩個相鄰的線柵單元之間。除此之外，上基板還包括位于色阻層5與液晶層4之間的OC平坦化層7以及位于色阻層5與上偏光片6之間的基底8。

通過改變R子像素、G子像素、B子像素以及W子像素單元對應(yīng)的第一線柵單元120及第二線柵單元121的線柵周期和占空比以保證W子像素單元的白點色坐標(biāo)與R子像素單元、G子像素單元以及B子像素單元合成的白點色坐標(biāo)的一致性，從而改善RGBW顯示屏的白點漂移的現(xiàn)象。

實施例2

參照圖4，本實施例與實施1的不同之處在于，偏光片1位于TFT陣列3與液晶層4之間，線柵層12位于介質(zhì)層11與TFT陣列3之間。本實施例中的上偏光片6也可以為上述的偏光片1，通過改變R子像素、G子像素、B子像素以及W子像素單元對應(yīng)的第一線柵單元120及第二線柵單元121的線柵周期和占空比同樣可以使得W子像素單元的白點色坐標(biāo)與R子像素單元、G子像素單元以及B子像素單元合成的白點色坐標(biāo)保持一致，從而改善RGBW顯示屏的白點漂移的現(xiàn)象。

以上所述僅是本申請的具體實施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本申請原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本申請的保護(hù)范圍。