技術總結
本發(fā)明提供一種具有曝光補正的光罩，所述光罩包括遮光區(qū)域和被遮光區(qū)域包圍的曝光區(qū)域，所述曝光區(qū)域包括補正子區(qū)域以及曝光子區(qū)域，所述補正子區(qū)域設置在所述曝光子區(qū)域的銳角頂點周圍。本發(fā)明通過將補正子區(qū)域設置在所述曝光子區(qū)域的銳角頂點周圍，當光通過補正子區(qū)域，發(fā)生衍射，與通過銳角照射到光阻上的光相互增強，從而增加銳角頂點周圍的曝光強度，從而達到增加曝光能力，經(jīng)曝光蝕刻后得到想要的圖案，進而使得電場分布均勻，提升液晶產(chǎn)品制作質(zhì)量，進而提升到顯示器的顯示效果。

技術研發(fā)人員：張春倩;陳彩琴
受保護的技術使用者：武漢華星光電技術有限公司
文檔號碼：201610550097
技術研發(fā)日：2016.07.13
技術公布日：2016.12.07