本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種具有曝光補(bǔ)正的光罩。

背景技術(shù)：

當(dāng)前，液晶顯示器已經(jīng)廣泛的應(yīng)用在電子顯示產(chǎn)品上，如電視、計算機(jī)屏幕、筆記本電腦、移動電話等。

在液晶顯示器中，為保證液晶的偏轉(zhuǎn)角度，需要保證在面板中形成的電場強(qiáng)度。然而，在廣視角(FFS)顯示模式中，電場為橫向分布，從而更需要保證像素電極的曝光精度，從而得到均勻的電場，使液晶均勻偏轉(zhuǎn)。

在制作光罩的過程中，當(dāng)光罩上的尺寸小于曝光機(jī)的最小精度，由于曝光精度的限制，不能完全復(fù)制設(shè)計的圖形，假設(shè)如果是銳角，經(jīng)過曝光、蝕刻制作過程后，得到的光罩上的圖形會形成圓角，如果使用這樣的光罩，會使電場不均勻，影響液晶的偏轉(zhuǎn)，形成暗帶，從而影響產(chǎn)品的制作質(zhì)量，進(jìn)而影響到顯示器的顯示效果。

故，有必要提供一種光罩，以解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

為了避免由于曝光精度的限制，不能完全復(fù)制光罩設(shè)計的圖形，本發(fā)明提供一種具有曝光補(bǔ)正的光罩。

本發(fā)明提供一種具有曝光補(bǔ)正的光罩，包括遮光區(qū)域和被遮光區(qū)域包圍的曝光區(qū)域，所述曝光區(qū)域包括補(bǔ)正子區(qū)域以及曝光子區(qū)域，所述補(bǔ)正子區(qū)域設(shè)置在所述曝光子區(qū)域的銳角頂點(diǎn)周圍。在現(xiàn)有的光罩中，由于曝光精度的限制，該曝光區(qū)域中的銳角在曝光蝕刻后會變形成圓角形狀，這樣會導(dǎo)致電場不均勻，影響面板中的液晶偏轉(zhuǎn)，因此通過將補(bǔ)正子區(qū)域設(shè)置在在所述曝光子區(qū)域的銳角頂點(diǎn)周圍，且因?yàn)殇J角的尺寸小于曝光機(jī)的曝光最小精度以及補(bǔ)正子區(qū)域的寬度小于曝光機(jī)的曝光最小精度，這樣不會影響的曝光圖案，即當(dāng)光通過補(bǔ)正子區(qū)域，發(fā)生衍射，與通過銳角照射到光阻上的光相互增強(qiáng)，從而增加銳角頂點(diǎn)周圍的曝光強(qiáng)度，從而達(dá)到增加曝光能力，經(jīng)曝光蝕刻后得到想要的圖案，進(jìn)而使得電場分布均勻，提升液晶產(chǎn)品制作質(zhì)量，進(jìn)而提升顯示器的顯示效果。

在本發(fā)明中的具有曝光補(bǔ)正的光罩，所述補(bǔ)正子區(qū)域與所述曝光子區(qū)域連通。此為補(bǔ)正子區(qū)域的具體位置。

在本發(fā)明中的具有曝光補(bǔ)正的光罩，所述補(bǔ)正子區(qū)域包括但不限于類圓形區(qū)域。

在本發(fā)明中的具有曝光補(bǔ)正的光罩，當(dāng)所述補(bǔ)正子區(qū)域?yàn)閳A形區(qū)域時，所述圓形區(qū)域的直徑小于曝光機(jī)的曝光最小精度。通過對補(bǔ)正子區(qū)域的形狀及大小的限制，可以更加優(yōu)化補(bǔ)正效果，進(jìn)而提高顯示器的顯示效果。

在本發(fā)明中的具有曝光補(bǔ)正的光罩，當(dāng)所述補(bǔ)正子區(qū)域?yàn)闄E圓形區(qū)域時，所述橢圓形區(qū)域的長軸方向平行于所述銳角的中線且所述曝光橢圓形的短軸長小于曝光機(jī)的曝光最小精度。通過對補(bǔ)正子區(qū)域的形狀及大小的限制，可以更加優(yōu)化補(bǔ)正效果，進(jìn)而提高顯示器的顯示效果

在本發(fā)明中的具有曝光補(bǔ)正的光罩，所述補(bǔ)正子區(qū)域與所述曝光子區(qū)域通過所述遮光區(qū)域分離。此為補(bǔ)正子區(qū)域的另一種具體位置。

在本發(fā)明中的具有曝光補(bǔ)正的光罩，所述補(bǔ)正子區(qū)域包括但不限于類圓形區(qū)域、環(huán)形區(qū)域以及折線區(qū)域中一個。

在本發(fā)明中的具有曝光補(bǔ)正的光罩，當(dāng)所述補(bǔ)正子區(qū)域?yàn)閳A形區(qū)域時，所述圓形區(qū)域的直徑小于曝光機(jī)的曝光最小精度。通過對補(bǔ)正子區(qū)域的形狀及大小的限制，可以更加優(yōu)化補(bǔ)正效果，進(jìn)而提高顯示器的顯示效果

在本發(fā)明中的具有曝光補(bǔ)正的光罩，當(dāng)所述補(bǔ)正子區(qū)域?yàn)榄h(huán)形區(qū)域時，所述的環(huán)形區(qū)域的寬度小于曝光機(jī)的曝光最小精度。通過對補(bǔ)正子區(qū)域的形狀及大小的限制，可以更加優(yōu)化補(bǔ)正效果，進(jìn)而提高顯示器的顯示效果。

在本發(fā)明中的具有曝光補(bǔ)正的光罩，當(dāng)所述的補(bǔ)正子區(qū)域?yàn)檎劬€區(qū)域時，所述折線區(qū)域的寬度小于曝光機(jī)的曝光最小精度。通過對補(bǔ)正子區(qū)域的形狀及大小的限制，可以更加優(yōu)化補(bǔ)正效果，進(jìn)而提高顯示器的顯示效果。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的具有曝光補(bǔ)正功能的光罩中曝光子區(qū)域的銳角頂點(diǎn)周圍形成至少一補(bǔ)正子區(qū)域，該補(bǔ)正子區(qū)域取代了原有的銳角分頂點(diǎn)部分或補(bǔ)正子區(qū)域設(shè)置在銳角的周圍，因此通過將補(bǔ)正子區(qū)域設(shè)置在在所述曝光子區(qū)域的銳角頂點(diǎn)周圍，且因?yàn)殇J角的尺寸小于曝光機(jī)的曝光最小精度以及補(bǔ)正子區(qū)域的寬度小于曝光機(jī)的曝光最小精度，這樣不會影響的曝光圖案，即通過增加曝光面積，當(dāng)光通過補(bǔ)正子區(qū)域，發(fā)生衍射，與通過銳角照射到光阻上的光相互增強(qiáng)，從而增加銳角頂點(diǎn)周圍的曝光強(qiáng)度，從而達(dá)到增加曝光能力，經(jīng)曝光蝕刻后得到想要的圖案，進(jìn)而使得電場分布均勻，提升液晶產(chǎn)品制作質(zhì)量，進(jìn)而提升顯示器的顯示效果。

附圖說明

為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面對實(shí)施例中所需要使用的附圖作簡單的介紹。下面描述中的附圖僅為本發(fā)明的部分實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲取其他的附圖。

圖1為本發(fā)明中的光罩的實(shí)施例一中補(bǔ)正子區(qū)域?yàn)閳A形區(qū)域的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明中的光罩的實(shí)施例二中補(bǔ)正子區(qū)域?yàn)闄E圓形區(qū)域的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖3為本發(fā)明中的光罩的實(shí)施例三中補(bǔ)正子區(qū)域?yàn)閳A形區(qū)域的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖4為本發(fā)明中的光罩的實(shí)施例四中補(bǔ)正子區(qū)域?yàn)榄h(huán)形區(qū)域的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖5為本發(fā)明中的光罩的實(shí)施例五中補(bǔ)正子區(qū)域?yàn)檎劬€區(qū)域的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖6為本發(fā)明中的光罩的實(shí)施例五中補(bǔ)正子區(qū)域?yàn)檎劬€區(qū)域且該折線區(qū)域從該折線區(qū)域的交叉點(diǎn)沿兩端兩逐漸變窄的結(jié)構(gòu)示意圖。

具體實(shí)施方式

請參照附圖中的圖式，其中相同的組件符號代表相同的組件。以下的說明是基于所例示的本發(fā)明具體實(shí)施例，其不應(yīng)被視為限制本發(fā)明未在此詳述的其它具體實(shí)施例。

請參閱圖1，為本發(fā)明的一較佳實(shí)施例提供的具有曝光補(bǔ)正功能的光罩1。該光罩1包括遮光區(qū)域11和曝光區(qū)域12。其中該曝光區(qū)域12被該遮光區(qū)域11包圍。陰影部分為遮光區(qū)域11，空白部分為曝光區(qū)域12。

具體的，該遮光區(qū)域11包括本體111及自該本體111向外延伸而成的延伸部112。本實(shí)施例中，該本體111為矩形。該本體111包括一底邊1111?？梢岳斫獾?，其他實(shí)施例中該本體111的形狀可以根據(jù)實(shí)際需求進(jìn)行適應(yīng)性調(diào)整，如方形、多邊形等。

本實(shí)施例中，所述延伸部112自該本體111的底邊1111斜向外延伸而成。該延伸部112大致呈U行結(jié)構(gòu)。本實(shí)施例中，該延伸部112的首尾與該本體111的底邊1111連接形成所述曝光區(qū)域20。可以理解的，其他實(shí)施例中，所述延伸部112的形狀及數(shù)量根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行適應(yīng)性調(diào)整，只有能夠與本體111連接配合形成所述曝光區(qū)域12即可。

該曝光區(qū)域12包括曝光子區(qū)域122和補(bǔ)正子區(qū)域121。具體的，本實(shí)施例中，該曝光子區(qū)域122大致呈菱形。也即所述延伸部112與該本體111配合形成的曝光區(qū)域12大致呈菱形。該曝光區(qū)域12位于該延伸部112與本體111連接的臨界位置形成至少一銳角頂點(diǎn)區(qū)域。該補(bǔ)正子區(qū)域121設(shè)置形成在該銳角頂點(diǎn)區(qū)域。也即該補(bǔ)正子區(qū)域121設(shè)置在該曝光子區(qū)域122的銳角頂點(diǎn)周圍。

具體的，該補(bǔ)正子區(qū)域121與該曝光子區(qū)域122連通。優(yōu)選的，該補(bǔ)正子區(qū)域包括但不限于類圓形區(qū)域。本實(shí)施例中，所述補(bǔ)正子區(qū)域121為圓形區(qū)域，該圓形區(qū)域121的直徑小于曝光機(jī)的曝光最小精度。為了達(dá)到更加的補(bǔ)正效果，通過多次實(shí)驗(yàn)可以得出，當(dāng)該圓形區(qū)域121的圓心設(shè)置在銳角頂點(diǎn)區(qū)域的對角線上，可以使補(bǔ)正效果更佳，即更好的還原銳角圖案，這樣可以避免原銳角，因?yàn)槠毓饩鹊南拗?，在曝光、蝕刻之后會形成圓角形狀導(dǎo)致電場不均勻的情況。

請參閱圖2，為本發(fā)明的一較佳實(shí)施例二提供的具有曝光補(bǔ)正功能的光罩2。該光罩2包括遮光區(qū)域21和曝光區(qū)域22。其中該曝光區(qū)域22被該遮光區(qū)域21包圍。陰影部分為遮光區(qū)域21，空白部分為曝光區(qū)域22。該曝光區(qū)域22包括曝光子區(qū)域222和補(bǔ)正子區(qū)域221。該光罩的基本結(jié)構(gòu)與實(shí)施例一中的相同，這里不一一詳細(xì)描述，與實(shí)施例一不同之處在于該補(bǔ)正子區(qū)域221為橢圓形區(qū)域，所述橢圓形區(qū)域221的短軸長小于曝光機(jī)的曝光最小精度，為了達(dá)到更加的補(bǔ)正效果，更好的還原銳角圖案，所述橢圓形區(qū)域221的長軸平行于所述銳角頂點(diǎn)區(qū)域的對角線。上述結(jié)論是通過多次實(shí)驗(yàn)可以得出，這樣可以更好的避免原銳角因?yàn)槠毓饩鹊南拗?，在曝光、蝕刻之后會形成圓角形狀導(dǎo)致電場不均勻的情況。

可以理解的，所述補(bǔ)正子區(qū)域的相關(guān)形狀設(shè)計只要能夠?qū)崿F(xiàn)增加曝光區(qū)域銳角頂點(diǎn)區(qū)域的曝光面積即可，具體的位置以及大小可以由曝光機(jī)等其他條件計算得出。

請參閱圖3，為本發(fā)明一較佳實(shí)施例三提供的具有曝光補(bǔ)正功能的光罩3。該光罩3包括遮光區(qū)域31和曝光區(qū)域32。其中該曝光區(qū)域32被該遮光區(qū)域31包圍。陰影部分為遮光區(qū)域31，空白部分為曝光區(qū)域32。該曝光區(qū)域32包括曝光子區(qū)域322和補(bǔ)正子區(qū)域321。該光罩3的結(jié)構(gòu)與前述光罩1的結(jié)構(gòu)基本相同。不同之處在于，所述補(bǔ)正子區(qū)域321設(shè)置在該曝光子區(qū)域322的銳角頂點(diǎn)周圍，并與該曝光子區(qū)域322間隔設(shè)置，即該補(bǔ)正子區(qū)域321與曝光子區(qū)域322通過所述的遮光區(qū)域間隔開。具體的，該補(bǔ)正子區(qū)域321對應(yīng)設(shè)置在遮光區(qū)域的本體上。其中補(bǔ)正子區(qū)域包括但不限于類圓形區(qū)域、環(huán)形區(qū)域以及折線區(qū)域中一個。

本實(shí)施例中，該補(bǔ)正子區(qū)域321為圓形區(qū)域。該圓形區(qū)域321的直徑小于曝光機(jī)的曝光最小精度。優(yōu)選的，圓形區(qū)域321的中心在銳角的對角線的延長線上。當(dāng)光透過圓形區(qū)域后，發(fā)生衍射，與通過銳角部分照射到光阻上的光線相互增強(qiáng)，增加銳角處的曝光強(qiáng)度，從而達(dá)到增加曝光能力，進(jìn)而增大曝光精度的目的，從而可以更好的還原銳角圖案，即可以更好的避免原銳角因?yàn)槠毓饩鹊南拗疲谄毓?、蝕刻之后會形成圓角形狀導(dǎo)致電場不均勻的情況。該圓形區(qū)域的邊緣與銳角的頂點(diǎn)有一定的距離，此距離是通過曝光機(jī)根據(jù)光的波長，光源位置等條件設(shè)置的，對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，是可以理解并計算出來的。

請參閱圖4，為本發(fā)明一較佳實(shí)施例四提供的具有曝光補(bǔ)正功能的光罩4。該光罩4包括遮光區(qū)域41和曝光區(qū)域42。其中該曝光區(qū)域42被該遮光區(qū)域41包圍。陰影部分為遮光區(qū)域41，空白部分為曝光區(qū)域42。該曝光區(qū)域42包括曝光子區(qū)域422和補(bǔ)正子區(qū)域421。當(dāng)所述補(bǔ)正子區(qū)域421為環(huán)形區(qū)域時，所述的環(huán)形區(qū)域421的寬度小于曝光機(jī)的曝光最小精度，優(yōu)選的，當(dāng)該環(huán)形區(qū)域421的中心在銳角的對角線的延長線上。當(dāng)光透過環(huán)形區(qū)域421后，發(fā)生衍射，與通過銳角部分照射到光阻上的光線相互增強(qiáng)，增加銳角處的曝光強(qiáng)度，從而達(dá)到增加曝光能力，進(jìn)而增大曝光精度的目的，從而可以更好的還原銳角圖案。即可以更好的避免原銳角因?yàn)槠毓饩鹊南拗疲谄毓?、蝕刻之后會形成圓角形狀導(dǎo)致電場不均勻的情況。另外該環(huán)形區(qū)域距離銳角頂點(diǎn)有一定距離，此距離是通過曝光機(jī)根據(jù)光的波長，光源位置等條件設(shè)置的，對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，是可以理解并計算出來的。

請參閱圖5，為本發(fā)明一較佳實(shí)施例五提供的具有曝光補(bǔ)正功能的光罩5。該光罩5包括遮光區(qū)域51和曝光區(qū)域52。其中該曝光區(qū)域52被該遮光區(qū)域51包圍。陰影部分為遮光區(qū)域51，空白部分為曝光區(qū)域52。該曝光區(qū)域52包括曝光子區(qū)域522和補(bǔ)正子區(qū)域521。，當(dāng)所述補(bǔ)正子區(qū)域?yàn)檎劬€區(qū)域521時，具體的，該折線區(qū)域521包括第一折板5211和第二折板5212，且第一折板521的一端與第二折板5212一端連接形成一個交叉點(diǎn)，在本實(shí)施例中，該折線區(qū)域的第一折板5211的寬度與第二折板5212的寬度均勻且一致的。具體的，該折線區(qū)域521的寬度小于曝光機(jī)的曝光最小精度。優(yōu)選的，該折線區(qū)域的彎折點(diǎn)在銳角的對角線的延長線上。當(dāng)光通過折線區(qū)域后，發(fā)生衍射，與通過銳角照射到光阻上的光相互增強(qiáng)，增加銳角處的曝光強(qiáng)度，從而達(dá)到增加曝光能力，進(jìn)而增大曝光精度的目的，更好的還原銳角圖案。這種補(bǔ)正使銳角處各個方向照射到的光強(qiáng)更加均勻。另外，該折線區(qū)域的邊緣與銳角的邊緣有一定的距離，此距離是通過曝光機(jī)根據(jù)光的波長，光源位置等條件設(shè)置的，對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，是可以理解并計算出來的。

可以理解的，在圖5的基礎(chǔ)上結(jié)合圖6，圖6中折線區(qū)域523的寬度也可以是漸變的，具體的，第一折板5231的寬度與第二折板的寬度5232分別從的交叉點(diǎn)沿兩端兩逐漸變窄，且所述折線區(qū)域的最大寬度小于曝光機(jī)的曝光最小精度。

可以理解的是，上述實(shí)施例中的補(bǔ)正子區(qū)域的相關(guān)形狀設(shè)計不局限于上述所描述的形狀，可以使其他的結(jié)構(gòu)，這里不一一舉例描述。

與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明提供的具有曝光補(bǔ)正功能的光罩中曝光子區(qū)域的銳角頂點(diǎn)周圍形成至少一補(bǔ)正子區(qū)域，該補(bǔ)正子區(qū)域取代了原有的銳角分頂點(diǎn)部分或補(bǔ)正子區(qū)域設(shè)置在銳角的頂點(diǎn)周圍，因此通過將補(bǔ)正子區(qū)域設(shè)置在在所述曝光子區(qū)域的銳角頂點(diǎn)周圍，且因?yàn)殇J角的尺寸小于曝光機(jī)的曝光最小精度以及補(bǔ)正子區(qū)域的寬度小于曝光機(jī)的曝光最小精度，這樣不會影響的曝光圖案，即通過增加曝光面積，當(dāng)光通過補(bǔ)正子區(qū)域，發(fā)生衍射，與通過銳角照射到光阻上的光相互增強(qiáng)，從而增加銳角頂點(diǎn)周圍的曝光強(qiáng)度，從而達(dá)到增加曝光能力，經(jīng)曝光蝕刻后得到想要的圖案，進(jìn)而使得電場分布均勻，提升液晶產(chǎn)品制作質(zhì)量，進(jìn)而提升顯示器的顯示效果。

綜上所述，雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實(shí)施例揭露如上，但上述優(yōu)選實(shí)施例并非用以限制本發(fā)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，均可作各種更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍以權(quán)利要求界定的范圍為準(zhǔn)。