1.一種光學(xué)相位差構(gòu)件，其具備：
透明基體，其具有凹凸圖案；
間隙部，其劃分于上述凹凸圖案的凸部之間；及
密閉層，其以連結(jié)上述凹凸圖案的凸部且密閉上述間隙部的方式設(shè)置于上述凹凸圖案的上部。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)相位差構(gòu)件，其中，上述凹凸圖案的上述凸部的剖面形狀為梯形狀。
3.如權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)相位差構(gòu)件，其中，上述間隙部具有上述凹凸圖案的上述凸部的高度以上的高度。
4.如權(quán)利要求1至3中任一權(quán)利要求所述的光學(xué)相位差構(gòu)件，其進(jìn)而具備被覆上述凹凸圖案的凹部及上述凸部的表面的被覆層。
5.如權(quán)利要求4所述的光學(xué)相位差構(gòu)件，其中，上述被覆層的折射率大于上述凹凸圖案的上述凸部的折射率。
6.如權(quán)利要求4或5所述的光學(xué)相位差構(gòu)件，其中，上述被覆層及上述密閉層是由相同材料形成。
7.如權(quán)利要求4或5所述的光學(xué)相位差構(gòu)件，其中，上述被覆層是由與上述密閉層不同的材料形成。
8.如權(quán)利要求4至7中任一權(quán)利要求所述的光學(xué)相位差構(gòu)件，其中，上述被覆層是由金屬、金屬氧化物、金屬氮化物、金屬硫化物、金屬氮氧化物、或金屬鹵化物構(gòu)成。
9.如權(quán)利要求1至8中任一權(quán)利要求所述的光學(xué)相位差構(gòu)件，其中，上述密閉層是由金屬、金屬氧化物、金屬氮化物、金屬硫化物、金屬氮氧化物、或金屬鹵化物構(gòu)成。
10.如權(quán)利要求1至9中任一權(quán)利要求所述的光學(xué)相位差構(gòu)件，其中，構(gòu)成上述凹凸圖案的材料為光硬化性樹脂或熱硬化性樹脂。
11.如權(quán)利要求1至9中任一權(quán)利要求所述的光學(xué)相位差構(gòu)件，其中，構(gòu)成上述凹凸圖案的材料為溶膠凝膠材料。
12.如權(quán)利要求1至11中任一權(quán)利要求所述的光學(xué)相位差構(gòu)件，其中，于上述間隙部存在空氣。
13.如權(quán)利要求1至12中任一權(quán)利要求所述的光學(xué)相位差構(gòu)件，其進(jìn)而具備保護(hù)構(gòu)件，上述保護(hù)構(gòu)件貼附于上述透明基體的形成有上述凹凸圖案的面的相反側(cè)的面及/或上述密閉層。
14.一種復(fù)合光學(xué)構(gòu)件，其具備：
權(quán)利要求1至12中任一權(quán)利要求所述的光學(xué)相位差構(gòu)件；及
光學(xué)構(gòu)件，其貼附于上述透明基體的形成有上述凹凸圖案的面的相反側(cè)的面或上述密閉層。
15.如權(quán)利要求14所述的復(fù)合光學(xué)構(gòu)件，其中，上述光學(xué)構(gòu)件為偏光板。
16.一種顯示裝置，其具備：
權(quán)利要求14或15所述的復(fù)合光學(xué)構(gòu)件；及
顯示元件，其貼附于上述透明基體的形成有上述凹凸圖案的面的相反側(cè)的面或上述密閉層。
17.一種光學(xué)相位差構(gòu)件的制造方法，其具有如下步驟：
準(zhǔn)備具有凹凸圖案的透明基體；及
以連結(jié)上述凹凸圖案的鄰接的凸部且密閉劃分于上述凸部間的間隙部的方式，于上述凹凸圖案上形成密閉層。
18.如權(quán)利要求17所述的光學(xué)相位差構(gòu)件的制造方法，其中，于上述密閉層形成步驟中，通過濺鍍、CVD、或蒸鍍而形成上述密閉層。
19.如權(quán)利要求17或18所述的光學(xué)相位差構(gòu)件的制造方法，其進(jìn)而具有形成被覆上述凹凸圖案的凹部及凸部的表面的被覆層的步驟。