本發(fā)明屬于化學(xué)藥液噴灑工藝技術(shù)領(lǐng)域，具體地說是一種瀑布式顯影噴嘴。

背景技術(shù)：

現(xiàn)今半導(dǎo)體芯片制造工藝還以微影光刻工藝為主，即形成細(xì)小線路的方法還是通過勻膠、曝光、顯影工序，形成微小圖形后，進(jìn)行刻蝕或電鍍等工序，用以形成細(xì)小的金屬電路。

顯影是微電子芯片制造光刻工序必須的工藝步驟，隨著集成電路線寬越來越小，芯片制造工藝的進(jìn)步，線寬越來越小，光刻膠越來越薄，顯影工藝窗口越來越小，即要求噴灑顯影液并布滿晶片表面的時(shí)間越短約好。因膜變薄和線寬變小，即噴灑顯影液對光刻膠膜的沖擊也要求盡量的小。由于要求布滿時(shí)間短，就要求噴灑顯影液流量要大，流量大噴嘴孔徑就要大，過大回吸不好，會有余滴，流量大也會帶來沖擊力大的不良影響，這就需要流量大，沖擊小，回吸好無余滴的顯影噴嘴。顯影過程中，由于顯影液和光刻膠反應(yīng)會產(chǎn)生污物，污物一般漂浮于顯影液表面，近距離噴灑顯影液時(shí)污物不可避免的會沾污噴嘴，造成二次污染晶片，產(chǎn)生顯影不潔凈的不良顯影結(jié)果，故要求顯影噴嘴可方便清潔，杜絕二次污染晶片。

顯影工藝的步驟是先將顯影液均勻噴灑到晶片表面，在等待合適的反應(yīng)時(shí)間后，再用去離子水沖洗晶片表面，將反應(yīng)物清除干凈，高速甩干晶片后結(jié)束顯影工藝步驟。

顯影噴嘴是負(fù)責(zé)將顯影液均勻覆蓋到晶片表面的重要部件，顯影液一般經(jīng)過壓力裝置壓出，通過開閉回吸閥門控制。顯影液噴嘴有很多種，有單柱狀噴嘴，多柱狀噴嘴，扇形噴嘴，霧化噴嘴，排狀細(xì)孔噴嘴等，其中能夠一次覆蓋晶圓直徑的噴嘴僅也有排狀細(xì)孔噴嘴一種。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

針對上述問題，本發(fā)明的目的在于提供一種瀑布式顯影噴嘴。該瀑布式顯影噴嘴能快速在晶片表面布滿顯影液、并大大降低了顯影液噴灑沖擊力。

為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案：

一種瀑布式顯影噴嘴，包括分液管道、緩沖槽及瀑布成型柱，其中緩沖槽的一端設(shè)有開口，所述瀑布成型柱設(shè)置于緩沖槽的開口處、并與緩沖槽抵接，所述瀑布成型柱的高度低于緩沖槽的高度，所述分液管道的一端插設(shè)于緩沖槽內(nèi)，另一端與設(shè)置于緩沖槽外部的顯影液壓力供應(yīng)裝置連接，所述顯影液壓力供應(yīng)裝置將顯影液通過分液管道輸送至緩沖槽內(nèi)，當(dāng)緩沖槽內(nèi)的顯影液液面高度高出瀑布成型柱的頂端后，顯影液沿瀑布成型柱的外表面連續(xù)流出。

所述瀑布成型柱的位于外側(cè)的表面為斜面，顯影液由該斜面瀑布式的連 續(xù)流出。

所述瀑布成型柱的縱剖面為三角形、并位于內(nèi)側(cè)下方的一角與緩沖槽壓緊，以形成緩沖槽承載顯影液的空間。所述分液管道上設(shè)有開閉回吸閥。

所述瀑布式顯影噴嘴進(jìn)一步包括設(shè)置于所述緩沖槽外側(cè)的驅(qū)動機(jī)構(gòu)，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)與瀑布成型柱連接、并驅(qū)動瀑布成型柱貼合或遠(yuǎn)離緩沖槽。所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)為電動推桿或氣動推桿。

本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)及有益效果是：

1.本發(fā)明藥液供應(yīng)流量大而噴灑沖擊力小，保證顯影液最快速度鋪滿晶片，顯影液布滿晶片時(shí)間短，藥液噴灑連續(xù)，噴嘴可以方便清洗，吹干。典型應(yīng)用是在細(xì)線寬工藝的顯影步驟，及薄膠膜的顯影工藝步驟。

2.本發(fā)明由于顯影液先流到緩沖槽中，靠壓力供應(yīng)的顯影液沖擊力完全被消除。由于有緩沖槽，保證各點(diǎn)顯影液流量均等，以及因?yàn)閲娮炀哂虚_閉動作，可以保證顯影液噴灑后可以非常迅速的清潔干凈，等待下次使用。

3.本發(fā)明具有結(jié)構(gòu)簡單，制作簡單，成本低，自動清除氣泡，避免余滴影響，容易清潔清洗等優(yōu)點(diǎn)。

附圖說明

圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為本發(fā)明中瀑布成型柱和緩沖槽分離的狀態(tài)示意圖。

其中：1、分液管道，2、緩沖槽，3、瀑布成型柱，4、驅(qū)動機(jī)構(gòu)，5、清洗裝置，6、吹干裝置，7、顯影液，8、開閉回吸閥，9、顯影液壓力供應(yīng)裝置，10、晶片。

具體實(shí)施方式：

下面結(jié)合附圖對本發(fā)明作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。

如圖1所示，本發(fā)明包括分液管道1、緩沖槽2及瀑布成型柱3，其中緩沖槽2的一端設(shè)有開口，所述瀑布成型柱3設(shè)置于緩沖槽2的開口處、并與緩沖槽2抵接，所述瀑布成型柱3的高度低于緩沖槽2的高度，所述分液管道1的一端插設(shè)于緩沖槽2內(nèi)，另一端與設(shè)置于緩沖槽2外部的顯影液壓力供應(yīng)裝置9連接，所述分液管道1上設(shè)有開閉回吸閥8。所述顯影液壓力供應(yīng)裝置9將顯影液7通過分液管道1輸送至緩沖槽2內(nèi)，當(dāng)緩沖槽2內(nèi)的顯影液液面高度高出瀑布成型柱3的頂端后，顯影液依靠重力沿瀑布成型柱3的外表面流出。

所述瀑布成型柱3的位于外側(cè)的表面為斜面，顯影液由該斜面瀑布式的連續(xù)流出。

所述瀑布成型柱3的縱剖面為三角形、并位于內(nèi)側(cè)下方的一角與緩沖槽2壓緊，以形成緩沖槽2承載顯影液的空間。所述緩沖槽2用于承載顯影液，并減緩顯影液從管道噴出后的沖擊力，及讓顯影液中氣泡浮起，氣泡置于大氣中會很快破裂，有效的減少氣泡對顯影工藝的影響。瀑布成型柱3是為了讓顯影液從緩沖槽2內(nèi)溢出后以最小的沖擊力流到晶片10的表面，并且瀑布成型柱3的形狀可以保證顯影液在瀑布成型柱3的側(cè)面流動過程中是連續(xù)的。

所述瀑布式顯影噴嘴進(jìn)一步包括設(shè)置于緩沖槽2外側(cè)的驅(qū)動機(jī)構(gòu)4，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)4與瀑布成型柱3連接、并驅(qū)動瀑布成型柱3貼合或遠(yuǎn)離緩沖槽2。所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)4為電動推桿或氣動推桿，驅(qū)動機(jī)構(gòu)4是為了控制瀑布成型柱3的移動，將緩沖槽2中顯影液放掉，漏出單獨(dú)的瀑布成型柱3，以利于清潔，如圖2所示。

本發(fā)明的工作過程是：

當(dāng)需要噴灑顯影液時(shí)，瀑布式顯影噴嘴會先移動到晶片10遠(yuǎn)端的邊緣外側(cè)，打開分液管道1上的開閉回吸閥8，顯影液就會在顯影液壓力供應(yīng)裝置9的壓力的作用下由供應(yīng)管道供應(yīng)到分液管道1內(nèi)，分液管道1將顯影液分流到緩沖槽2中，緩沖槽2中的顯影液7逐漸增多，液面變高，液面逐漸高出瀑布成型柱3的最高點(diǎn)，顯影液由于重力作用溢出緩沖槽2，沿著瀑布成型柱3的外表面流下，瀑布式顯影噴嘴向晶片10方向移動，顯影液7流到晶片10表面，隨著瀑布式顯影噴嘴的移動，持續(xù)供應(yīng)的顯影液就會很快的布滿整個(gè)晶片10表面，當(dāng)瀑布式顯影噴嘴移動到晶片近端邊緣一側(cè)外后，關(guān)閉顯影液的開閉回吸閥8，驅(qū)動裝置4驅(qū)動瀑布成型柱3移動，放掉緩沖槽2中的顯影液，完成顯影液噴灑過程。瀑布式顯影噴嘴繼續(xù)移動到清洗裝置5中，驅(qū)動機(jī)構(gòu)驅(qū)動瀑布成型柱3和緩沖槽2分離，清洗裝置5對瀑布成型柱3進(jìn)行沖洗清潔，清潔結(jié)束后吹干裝置6將瀑布成型柱3吹干，驅(qū)動機(jī)構(gòu)4驅(qū)動瀑布成型柱3和緩沖槽2貼合，待下一次的顯影工藝步驟。