技術(shù)總結(jié)
一種套刻測量裝置，包括：照明單元，適于產(chǎn)生照射光，對晶圓上形成的第一套刻標(biāo)記進行照明，第一套刻標(biāo)記在被照亮?xí)r產(chǎn)生反射光；第一測量單元，適于接收第一套刻標(biāo)記產(chǎn)生的反射光，使接收的反射光產(chǎn)生橫向偏移剪切干涉形成干涉光，并接收干涉光成第一圖像，并根據(jù)第一圖像判斷套刻是否存在偏移，以及獲得套刻的偏移量。本發(fā)明的裝置提高了套刻測量的精度。

技術(shù)研發(fā)人員：劉洋;伍強;岳力挽
受保護的技術(shù)使用者：中芯國際集成電路制造(上海)有限公司
文檔號碼：201510199057
技術(shù)研發(fā)日：2015.04.23
技術(shù)公布日：2016.11.23