具有保留的光學(xué)性質(zhì)的耐劃痕制品本申請(qǐng)依據(jù)35U.S.C.§119要求2014年8月7日提交的美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)序列號(hào)62/034480和2013年9月13提交的美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)序列號(hào)61/877568的優(yōu)先權(quán)，它們的內(nèi)容作為本申請(qǐng)的基礎(chǔ)，并通過(guò)引用全文納入本文。本申請(qǐng)是2014年5月1日提交的美國(guó)申請(qǐng)序列號(hào)14/267516的部分繼續(xù)申請(qǐng)并依據(jù)35U.S.C.§120要求其優(yōu)先權(quán)，美國(guó)申請(qǐng)序列號(hào)14/267516依據(jù)35U.S.C.§119要求2013年9月13日提交的美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)序列號(hào)61/877568和2013年5月7日提交的美國(guó)臨時(shí)申請(qǐng)序列號(hào)61/820407的優(yōu)先權(quán)，它們的內(nèi)容作為本申請(qǐng)的基礎(chǔ)，并通過(guò)引用全文納入本文背景本發(fā)明涉及用于顯示器蓋板玻璃應(yīng)用的具有耐劃痕性和保留的光學(xué)性質(zhì)的制品，更具體而言，本發(fā)明涉及包含光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的制品，所述光學(xué)膜結(jié)構(gòu)包含耐劃痕性，其中，所述制品在可見(jiàn)光譜中顯示出85％或更高的平均透光率。如本文所用，詞語(yǔ)“可見(jiàn)光譜”包括大約380nm～大約780nm的范圍內(nèi)的波長(zhǎng)。人們經(jīng)常使用蓋板制品來(lái)保護(hù)電子產(chǎn)品內(nèi)部的關(guān)鍵器件，以提供用于輸入和/或顯示的用戶界面，以及/或者提供許多其他的功能。這種產(chǎn)品包括移動(dòng)設(shè)備，例如智能手機(jī)、mp3播放機(jī)和平板電腦。蓋板制品還包括建筑制品、運(yùn)輸制品(例如汽車、火車、飛機(jī)、船舶等)、家用電器制品或任何需要一定程度的透明度、耐劃痕性、耐磨性或以上性質(zhì)的組合的制品。這些應(yīng)用常常需要耐劃痕性和強(qiáng)光學(xué)性能特征，即最大的透光性和最小的反射性。另外，一些蓋板應(yīng)用要求在反射和/或透射中顯示或看到的顏色不隨視角的改變而顯著變化。這是因?yàn)?，在顯示器應(yīng)用中，如果顏色在反射或透射中隨著視角的變化而發(fā)生可感知程度的變化，則產(chǎn)品的使用者會(huì)感覺(jué)到顯示器的顏色或亮度發(fā)生變化，這會(huì)降低顯示器的感官質(zhì)量。已知的蓋板制品在惡劣的操作條件下使用后往往會(huì)出現(xiàn)各種不同類型的劃痕。在一些例子中，這些劃痕中的很大一部分是微延展性(microductile)劃痕，其通常在材料中包含具有伸長(zhǎng)的長(zhǎng)度且深度在大約100nm～大約500nm范圍內(nèi)的單一凹槽。微延展性劃痕可伴隨其它類型的可見(jiàn)損傷一起出現(xiàn)，例如表面下破裂、摩擦破裂、碎片和/或磨耗。有證據(jù)暗示這些劃痕和其它可見(jiàn)損傷中的大部分是由在單一接觸事件中發(fā)生的尖銳接觸導(dǎo)致的。蓋板制品上一旦出現(xiàn)明顯劃痕，產(chǎn)品外觀就會(huì)變差，因?yàn)閯澓凼构馍⑸湓鰪?qiáng)，而這會(huì)導(dǎo)致顯示器圖像的亮度、清晰度和對(duì)比度顯著降低。明顯的劃痕還會(huì)影響觸敏顯示器的精度和可靠性。上述的這些劃痕和其它可見(jiàn)損傷中的一部分還可能是由多個(gè)接觸事件(包括往復(fù)磨損或磨耗)造成的。這些劃痕，甚至不那么明顯的劃痕，都有礙觀瞻，并且會(huì)影響產(chǎn)品性能。單一事件劃痕損傷可與磨損損傷形成對(duì)比。磨損損傷通常是由多個(gè)接觸事件造成的，例如來(lái)自于堅(jiān)硬相對(duì)面物體(例如例如砂子、礫石和砂紙)的往返滑動(dòng)。磨損損傷會(huì)產(chǎn)生熱量，這會(huì)削弱膜材料中的化學(xué)鍵，造成制品的剝落和其他類型的損傷。另外，由于磨損損傷通常比造成劃痕的單一事件經(jīng)歷更長(zhǎng)的時(shí)間，經(jīng)歷磨損損傷的膜材料還會(huì)發(fā)生氧化，這進(jìn)一步降低了膜的耐久性，從而降低制品的耐久性。造成劃痕的單一事件與造成磨損損傷的事件一般不涉及相同的條件，因此，通常用于防止磨損損傷的解決方案可能并不能防止制品中的劃痕。而且，已知的劃痕和磨損損傷解決方案還往往影響光學(xué)性質(zhì)。因此，需要新的制品及其制造方法，所述制品具有對(duì)于寬范圍的不同類型劃痕的耐劃痕性、耐磨性且具有良好的光學(xué)性能。發(fā)明概述本發(fā)明的第一方面涉及一種制品，該制品包含基材和光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，該基材具有相反主表面和相反次表面，該光學(xué)膜結(jié)構(gòu)設(shè)置于該基材的相反主表面中的至少一個(gè)之上，形成該制品的正面。根據(jù)一種或多種實(shí)施方式的制品在可見(jiàn)光譜(即380nm～780nm)內(nèi)，在制品的正面處測(cè)得85％或更高的平均透光率。在一種特定的實(shí)施方式中，制品在其正面測(cè)得的總反射率(包括鏡面反射和漫反射)等于或小于未在其上設(shè)置光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的基材的總反射率。一種或多種實(shí)施方式的制品顯示出在可見(jiàn)光譜內(nèi)在其正面測(cè)得的基本上平坦的透射光譜(或反射光譜)或基本上恒定的透射率(或反射率)。該制品還可在(L*,a*,b*)色度系統(tǒng)中展現(xiàn)出色彩，以使透射色彩或反射色彩離參照點(diǎn)的距離小于大約2。換言之，該制品可展現(xiàn)出在其正面測(cè)得的透射色彩(或透射色坐標(biāo))和/或反射色彩(或反射色坐標(biāo))相對(duì)于參照點(diǎn)具有小于大約2的色偏，如上文所定義的。在一種或多種實(shí)施方式中，參照點(diǎn)可以是L*a*b*色彩空間中的原點(diǎn)(0,0)(或色坐標(biāo)a*＝0,b*＝0)或基材的透射或反射色坐標(biāo)。在一種或多種實(shí)施方式中，基材可包括無(wú)定形基材、晶體基材或它們的組合。在使用無(wú)定形基材的實(shí)施方式中，無(wú)定形基材可包括經(jīng)過(guò)或未經(jīng)強(qiáng)化的玻璃基材。無(wú)定形基材的例子包括鈉鈣玻璃、堿金屬鋁硅酸鹽玻璃、含堿金屬的硼硅酸鹽玻璃和/或堿金屬鋁硼硅酸鹽玻璃。晶體基材的例子包括經(jīng)過(guò)強(qiáng)化的玻璃陶瓷基材、未經(jīng)強(qiáng)化的玻璃陶瓷基材、單晶基材(即例如藍(lán)寶石的單晶基材)或它們的組合。根據(jù)一種或多種實(shí)施方式，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)使制品具有耐劃痕性。例如，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可包含至少一個(gè)層，所述層具有大約12GPa或更大的最大硬度，所述最大硬度通過(guò)本文所述的布氏壓痕硬度測(cè)試沿著大約100nm或更深(例如大約100nm～大約300nm、大約100nm～大約400nm、大約100nm～大約500nm、或大約100nm～大約600nm)的壓痕深度測(cè)得。在一種或多種實(shí)施方式中，制品展現(xiàn)出大約12GPa或更大(例如16GPa或更大)的硬度，所述硬度通過(guò)布氏壓痕硬度測(cè)試沿著大約100nm或更深(例如大約100nm～大約300nm、大約100nm～大約400nm、大約100nm～大約500nm、或大約100nm～大約600nm)的壓痕深度測(cè)得。在其它實(shí)施方式中，當(dāng)相對(duì)于碳化硅球體相對(duì)表面進(jìn)行測(cè)量時(shí)，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可展現(xiàn)出小于0.3的摩擦系數(shù)。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可包含含硅的氧化物、含硅的氮化物、含鋁的氮化物(例如AlN和AlxSiyN)、含鋁的氮氧化物(例如AlOxNy和SiuAlvOxNy)、含鋁的氧化物或它們的組合。在一些實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)包含透明介電材料，例如SiO2、GeO2、Al2O3、Nb2O5、TiO2、Y2O3和其它類似的材料以及它們的組合。一種或多種實(shí)施方式的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可具有層狀結(jié)構(gòu)，或者更具體而言，可具有至少兩個(gè)層(例如第一層和第二層)，以使第一層設(shè)置于基材和第二層之間。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的第一層可包含含硅的氧化物、含硅的氮化物、含鋁的氧化物、含鋁的氮氧化物(例如AlOxNy和SiuAlvOxNy)、含鋁的氮化物(例如AlN和AlxSiyN)或它們的組合。具體而言，第一層可包含Al2O3、AlN、AlOxNy或它們的組合。在另一個(gè)選項(xiàng)中，第一層還可包含透明介電材料，例如SiO2、GeO2、Al2O3、Nb2O5、TiO2、Y2O3和其它類似的材料以及它們的組合。在光學(xué)膜結(jié)構(gòu)包含AlN或AlOxNy的實(shí)施方式中，AlN或AlOxNy可包含無(wú)定形結(jié)構(gòu)、微晶結(jié)構(gòu)或它們的組合。替代地或附加地，AlN或AlOxNy可包含多晶結(jié)構(gòu)。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可包含一種或多種改性劑?；蛘?，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可不含改性劑。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，至少一種改性劑可結(jié)合入使用AlN的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中。在這類實(shí)施方式中，AlN可用至少一種改性劑摻雜或與其形成合金。示例性的改性劑包括BN、Ag、Cr、Mg、C和Ca。在一種變化形式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)展現(xiàn)出導(dǎo)電性質(zhì)。在這類實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中可結(jié)合改性劑，所述改性劑包含Mg和/或Ca。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的第一層可包含第一亞層和第二亞層。在這類實(shí)施方式中，第一亞層可設(shè)置于第二亞層與基材之間。在一種變化形式中，第一亞層可包含Al2O3，第二亞層可包含AlN。在一種或多種實(shí)施方式中，第一亞層可包含AlOxNy，第二亞層可包含AlN。在另一種變化形式中，第一層包含三個(gè)亞層(例如第一亞層、第二亞層和第三亞層)。在這類實(shí)施方式中，第一亞層和第三亞層可包含AlN，第二亞層可包含透明介電材料，例如SiO2、GeO2、Al2O3、Nb2O5、TiO2、Y2O3和其它類似的材料以及它們的組合。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的第一層可包含組成梯度。組成梯度可包括含氧量梯度、含氮量梯度、含硅量梯度和/或含鋁量梯度。在一種或多種實(shí)施方式中，組成梯度可包括硅/鋁組成梯度，其中，硅和鋁的原子％沿著第一層的厚度各自獨(dú)立地或相互關(guān)聯(lián)地變化。在其它實(shí)施方式中，組成梯度可包括氧/氮組成梯度，其中，氧和氮的原子％沿著第一層的厚度各自獨(dú)立地或相互關(guān)聯(lián)地變化。在一種特定的實(shí)施方式中，第一層的含氧量和/或含硅量可沿著第一層的厚度向著遠(yuǎn)離基材的方向降低。在另一種實(shí)施方式中，含鋁量和/或含氮量的梯度可沿著第一層的厚度向著遠(yuǎn)離基材的方向升高。在一個(gè)或多個(gè)例子中，第一層可包含含氧量梯度且包含AlN。在這類實(shí)施方式中，毗鄰第二層的第一層可不含氧。在特定的例子中，第一層中的組成梯度沿著第一層的厚度恒定不變。在其它特定的例子中，第一層中的組成梯度沿著第一層的厚度發(fā)生變化。在其它更加特定的例子中，第一層中的組成梯度沿著第一層的厚度步進(jìn)式出現(xiàn)，且步進(jìn)式組成梯度可以是不變的或變化的。根據(jù)一種或多種實(shí)施方式，第一層包含折射率梯度。第一層的折射率可沿著第一層的厚度升高或降低或以其他方式變化，以改善光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和/或制品的本文所述的光學(xué)性質(zhì)。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的第二層包含透明介電材料，例如SiO2、GeO2、Al2O3、Nb2O5、TiO2、Y2O3和其它類似的材料以及它們的組合?？蛇x地，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可包含設(shè)置于光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的第二層上的附加膜或?qū)?。在一種變化形式中，制品可包含包裹膜。包裹膜可設(shè)置于基材的一個(gè)或多個(gè)相反次表面和/或一個(gè)或多個(gè)相反主表面上。在包裹膜設(shè)置于基材的一個(gè)或多個(gè)相反主表面上的實(shí)施方式中，包裹膜可設(shè)置于基材與光學(xué)膜結(jié)構(gòu)之間。包裹膜還可形成光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的一部分(例如光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的第一亞層)。制品可選擇性地包含鈍化膜或中間層。在一種或多種實(shí)施方式中，中間層可設(shè)置于光學(xué)膜結(jié)構(gòu)與基材之間。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，中間層可以是光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的一部分。例如，在一種或多種實(shí)施方式中，中間層可形成光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的第一層或第一亞層的一部分。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可具有至少大約1μm或至少大約2μm的厚度。在光學(xué)膜結(jié)構(gòu)包含層狀結(jié)構(gòu)的情況中，第一層的厚度可比光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的第二層的厚度厚。本發(fā)明的制品可包括具有顯示器的制品(或顯示器制品)(例如消費(fèi)電子產(chǎn)品，包括手機(jī)、平板電腦、電腦、導(dǎo)航系統(tǒng)及類似物)、建筑制品、運(yùn)輸制品(例如汽車、火車、飛機(jī)、船舶等)、家用電器制品或任何需要一定程度的透明度、耐劃痕性、耐磨性或以上性質(zhì)的組合的制品。本發(fā)明的第二方面涉及一種如本文所述的制品的形成方法。在一種或多種實(shí)施方式中，該方法包括提供如本文其它地方所提供的基材，并以大約0.5毫托～大約10毫托的壓力在該基材上設(shè)置低應(yīng)力光學(xué)膜結(jié)構(gòu)。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和/或制品可展現(xiàn)出大約12GPa或更大的硬度，所述硬度通過(guò)布氏壓痕硬度測(cè)試沿著大約50nm或更深或大約100nm或更深的壓痕深度(例如大約100nm～大約300nm、大約100nm～400nm、大約100nm～大約500nm、大約100nm～大約600nm、大約200nm～大約300nm、大約200nm～大約400nm、大約200nm～大約500nm、或大約200nm～大約600nm)測(cè)得。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可具有本文所述的層狀結(jié)構(gòu)。在一種或多種實(shí)施方式中，該方法包括使用真空沉積技術(shù)將光學(xué)膜結(jié)構(gòu)沉積在基材上。真空沉積技術(shù)可包括化學(xué)蒸氣沉積、物理蒸氣沉積、熱蒸發(fā)和/或原子層沉積。在一種或多種實(shí)施方式中，該方法還包括通過(guò)例如用改性劑對(duì)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)進(jìn)行摻雜來(lái)提高光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的導(dǎo)電性?？捎糜谔岣吖鈱W(xué)膜結(jié)構(gòu)導(dǎo)電性的示例性的改性劑包括Mg、Ca以及它們的組合。該方法的一種或多種實(shí)施方式可包括提高光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的潤(rùn)滑性。在特定的實(shí)施方式中，提高光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的潤(rùn)滑性包括將BN結(jié)合入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中。在一種或多種實(shí)施方式中，該方法可包括降低光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的應(yīng)力。在一種特定的實(shí)施方式中，該方法可包括通過(guò)將BN、Ag、Cr或它們的組合中的一種或多種結(jié)合入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中來(lái)降低光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的應(yīng)力。根據(jù)一種或多種實(shí)施方式，該方法可包括將氧和/或氮結(jié)合入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中。在一個(gè)例子中，該方法可選擇性地包括在光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中形成含氧量梯度和/或含氮量梯度。在一種變化形式中，含氧量梯度包括含氧量沿著光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的厚度向著遠(yuǎn)離基材的方向降低。在一種變化形式中，含氮量梯度包括含氮量沿著光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的厚度向著遠(yuǎn)離基材的方向升高。該方法還可包括形成含硅量梯度和/或含鋁量梯度。在一種或多種實(shí)施方式中，該方法可包括將一種或多種原材料(例如硅和/或鋁)沉積到基材上以形成光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，并改變一種或多種工藝條件(例如施加于一種或多種原材料上的功率)來(lái)在光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中形成含硅量梯度和/或含鋁量梯度。在一種或多種實(shí)施方式中，該方法包括在光學(xué)膜結(jié)構(gòu)與基材之間配置中間層，或者將中間層結(jié)合入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中。在以下的詳細(xì)描述中給出了本發(fā)明的其他特征和優(yōu)點(diǎn)，其中的部分特征和優(yōu)點(diǎn)對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，根據(jù)所作描述就容易看出，或者通過(guò)實(shí)施包括以下詳細(xì)描述、權(quán)利要求書(shū)以及附圖在內(nèi)的本文所述的各種實(shí)施方式而被認(rèn)識(shí)。應(yīng)理解，前面的一般性描述和以下的詳細(xì)描述都僅僅是示例性的，用來(lái)提供理解權(quán)利要求的性質(zhì)和特性的總體評(píng)述或框架。所附附圖提供了對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，附圖被結(jié)合在本說(shuō)明書(shū)中并構(gòu)成說(shuō)明書(shū)的一部分。附圖說(shuō)明了本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)實(shí)施方式，并與說(shuō)明書(shū)一起用來(lái)解釋各種實(shí)施方式的原理和操作。附圖的簡(jiǎn)要說(shuō)明圖1是一種或多種實(shí)施方式的制品的示意圖。圖2是一種或多種實(shí)施方式的制品的示意圖。圖3是一種或多種實(shí)施方式的制品的示意圖。圖4是一種或多種實(shí)施方式的制品的示意圖。圖4A顯示了圖4所示制品的一種特定實(shí)施方式。圖5是一種或多種實(shí)施方式的制品的示意圖。圖5A顯示了圖5所示制品的一種特定實(shí)施方式。圖6A是圖4和圖5所示制品的含氧量或含硅量的圖。圖6B是圖4和圖5所示制品的含氮量或含鋁量的圖。圖7是圖2的制品的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的厚度與折射率之間的關(guān)系圖。圖8是圖3的制品的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的厚度與折射率之間的關(guān)系圖。圖9是圖4的制品的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的厚度與折射率之間的關(guān)系圖。圖10A是圖5的制品的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的厚度與折射率之間的關(guān)系圖。圖10B是一種或多種替代性的實(shí)施方式的制品的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的厚度與折射率之間的關(guān)系圖。圖11是顯示實(shí)施例1的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的透射色彩的等值線圖。圖12是顯示實(shí)施例2的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的透射色彩的等值線圖。圖13是顯示實(shí)施例3的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的透射色彩的等值線圖。圖14是顯示實(shí)施例4的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的透射色彩的等值線圖。圖15是顯示實(shí)施例5的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的透射色彩的等值線圖。圖16是顯示實(shí)施例6的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的透射色彩的等值線圖。圖17是顯示實(shí)施例7的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的透射色彩的等值線圖。圖18是顯示實(shí)施例8的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的透射色彩的等值線圖。圖19A是實(shí)施例1中透射的發(fā)光度、L*的等值圖。圖19B是顯示實(shí)施例1中與SiO2和Al2O3膜厚度相對(duì)應(yīng)的透射中特定顏色點(diǎn)(a*,b*)的距離(d)的圖，所述膜厚度在L*a*b*色彩空間中以從原點(diǎn)(0,0)延伸的軸表示。圖19C是顯示實(shí)施例1中與SiO2和Al2O3膜厚度相對(duì)應(yīng)的透射中特定顏色點(diǎn)(a*,b*)的log10d的圖，所述膜厚度在L*a*b*色彩空間中以從原點(diǎn)(0,0)延伸的軸表示。圖20A是實(shí)施例2中透射的發(fā)光度、L*的等值圖。圖20B是顯示實(shí)施例2中與SiO2和Al2O3膜厚度相對(duì)應(yīng)的透射中特定顏色點(diǎn)(a*,b*)的距離(d)的圖，所述膜厚度在L*a*b*色彩空間中以從原點(diǎn)(0,0)延伸的軸表示。圖20C是顯示實(shí)施例2中與SiO2和Al2O3膜厚度相對(duì)應(yīng)的透射中特定顏色點(diǎn)(a*,b*)的log10d的圖，所述膜厚度在L*a*b*色彩空間中以從原點(diǎn)(0,0)延伸的軸表示。圖21A是實(shí)施例3中透射的發(fā)光度、L*的等值圖。圖21B是顯示實(shí)施例3中與SiO2和Al2O3膜厚度相對(duì)應(yīng)的透射中特定顏色點(diǎn)(a*,b*)的距離(d)的圖，所述膜厚度在L*a*b*色彩空間中以從原點(diǎn)(0,0)延伸的軸表示。圖21C是顯示實(shí)施例3中與SiO2和Al2O3膜厚度相對(duì)應(yīng)的透射中特定顏色點(diǎn)(a*,b*)的log10d的圖，所述膜厚度在L*a*b*色彩空間中以從原點(diǎn)(0,0)延伸的軸表示。圖22A是實(shí)施例4中透射的發(fā)光度、L*的等值圖。圖22B是顯示實(shí)施例4中與SiO2和Al2O3膜厚度相對(duì)應(yīng)的透射中特定顏色點(diǎn)(a*,b*)的距離(d)的圖，所述膜厚度在L*a*b*色彩空間中以從原點(diǎn)(0,0)延伸的軸表示。圖22C是顯示實(shí)施例4中與SiO2和Al2O3膜厚度相對(duì)應(yīng)的透射中特定點(diǎn)(a*,b*)的log10d的圖，所述膜厚度在L*a*b*色彩空間中以從原點(diǎn)(0,0)延伸的軸表示。圖23A是實(shí)施例5中透射的發(fā)光度、L*的等值圖。圖23B是顯示實(shí)施例5中與SiO2和Al2O3膜厚度相對(duì)應(yīng)的透射中特定顏色點(diǎn)(a*,b*)的距離(d)的圖，所述膜厚度在L*a*b*色彩空間中以從原點(diǎn)(0,0)延伸的軸表示。圖23C是顯示實(shí)施例5中與SiO2和Al2O3膜厚度相對(duì)應(yīng)的透射中特定顏色點(diǎn)(a*,b*)的log10d的圖，所述膜厚度在L*a*b*色彩空間中以從原點(diǎn)(0,0)延伸的軸表示。圖24A是實(shí)施例6中透射的發(fā)光度、L*的等值圖。圖24B是顯示實(shí)施例6中與SiO2和Al2O3膜厚度相對(duì)應(yīng)的透射中特定顏色點(diǎn)(a*,b*)的距離(d)的圖，所述膜厚度在L*a*b*色彩空間中以從原點(diǎn)(0,0)延伸的軸表示。圖24C是顯示實(shí)施例6中與SiO2和Al2O3膜厚度相對(duì)應(yīng)的透射中特定顏色點(diǎn)(a*,b*)的log10d的圖，所述膜厚度在L*a*b*色彩空間中以從原點(diǎn)(0,0)延伸的軸表示。圖25A是實(shí)施例7中透射的發(fā)光度、L*的等值圖。圖25B是顯示實(shí)施例7中與SiO2和Al2O3膜厚度相對(duì)應(yīng)的透射中特定顏色點(diǎn)(a*,b*)的距離(d)的圖，所述膜厚度在L*a*b*色彩空間中以從原點(diǎn)(0,0)延伸的軸表示。圖25C是顯示實(shí)施例7中與SiO2和Al2O3膜厚度相對(duì)應(yīng)的透射中特定顏色點(diǎn)(a*,b*)的log10d的圖，所述膜厚度在L*a*b*色彩空間中以從原點(diǎn)(0,0)延伸的軸表示。圖26A是實(shí)施例8中透射的發(fā)光度、L*的等值圖。圖26B是顯示實(shí)施例8中與SiO2和Al2O3膜厚度相對(duì)應(yīng)的透射中特定顏色點(diǎn)(a*,b*)的距離(d)的圖，所述膜厚度在L*a*b*色彩空間中以從原點(diǎn)(0,0)延伸的軸表示。圖26C是顯示實(shí)施例8中與SiO2和Al2O3膜厚度相對(duì)應(yīng)的透射中特定顏色點(diǎn)(a*,b*)的log10d的圖，所述膜厚度在L*a*b*色彩空間中以從原點(diǎn)(0,0)延伸的軸表示。圖27圖示了一種或多種實(shí)施方式的層在可見(jiàn)光譜內(nèi)的反射率％。圖28圖示了一種或多種實(shí)施方式的層在可見(jiàn)光譜內(nèi)的透射率％。圖29A是實(shí)施例11的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)反射中a*的等值圖。圖29B是實(shí)施例11的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材反射中a*的等值圖。圖29C是實(shí)施例11的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材反射中b*的等值圖。圖29D是實(shí)施例11的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材反射中b*的等值圖。圖29E是實(shí)施例11的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材在L*a*b*色彩空間中從原點(diǎn)(0,0)的反射中a*與b*距離的等值圖。圖29F是光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材從基材的色坐標(biāo)的反射中a*與b*距離的等值圖。圖30A是實(shí)施例11的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)透射中a*的等值圖。圖30B是實(shí)施例11的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材透射中a*的等值圖。圖30C是實(shí)施例11的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)透射中b*的等值圖。圖30D是實(shí)施例11的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材透射中b*的等值圖。圖30E是實(shí)施例11的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材在L*a*b*色彩空間中從原點(diǎn)(0,0)的透射中a*與b*距離的等值圖。圖30F是光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材從基材的色坐標(biāo)的透射中a*與b*距離的等值圖。圖31是顯示厚度不同的相同材料的四個(gè)層的硬度測(cè)量結(jié)果的圖。圖32是對(duì)圖31中所示的四個(gè)層的最大硬度值進(jìn)行比較的圖。圖33是顯示一種或多種實(shí)施方式的制品、裸露晶體基材和裸露玻璃基材的相對(duì)劃痕深度的圖。發(fā)明詳述下面將詳細(xì)說(shuō)明實(shí)施方式，這些實(shí)施方式的例子在附圖中示出。只要可能，在附圖中使用相同的附圖標(biāo)記表示相同或相似的組件。參考圖1，本發(fā)明的第一方面涉及一種制品100，其包含具有主相反面112、114以及相反次面116、118的基材110、和設(shè)置于基材110的相反主面之一112上的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)120。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)除了可設(shè)置于相反主面112上以外，還可以附加地或替代地設(shè)置于另外的相反主面114和/或相反次面116、118中的一者或兩者上。施用于本文所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的“膜”(術(shù)語(yǔ))可包括一個(gè)或多個(gè)通過(guò)本領(lǐng)域已知的任何方法形成的層，所述方法包括分散沉積法或連續(xù)沉積法。這種層可彼此直接接觸。這些層可由相同的材料或超過(guò)一種不同的材料形成。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，這種層之間可沉積有不同材料的中間層。在一種或多種實(shí)施方式中，膜可包含一個(gè)或多個(gè)連續(xù)且不間斷的層和/或一個(gè)或多個(gè)不連續(xù)而間斷的層(即由不同材料彼此毗鄰而形成的層)。如本文所用，術(shù)語(yǔ)“設(shè)置”包括利用本領(lǐng)域已知的任何方法將材料涂覆、沉積和/或形成到表面上。設(shè)置的材料可構(gòu)成本文所定義的層或膜。詞語(yǔ)“設(shè)置在……上”包括如下情形：將材料形成到表面上，以使材料直接接觸表面，還包括如下情形：使材料在表面上形成，在設(shè)置的材料與表面之間有一種或多種中間材料。中間材料可構(gòu)成本文所定義的層或膜。根據(jù)一種或多種實(shí)施方式，制品100在可見(jiàn)光譜內(nèi)具有85％或更高的平均透射率。在一種或多種實(shí)施方式中，制品100具有15％或更低的總反射率。如本文所用，術(shù)語(yǔ)“透射率”定義為給定波長(zhǎng)范圍內(nèi)的入射光功率穿過(guò)材料(例如制品、基材、光學(xué)膜結(jié)構(gòu)或其中的部分)的百分率。類似地，術(shù)語(yǔ)“反射率”定義為給定波長(zhǎng)范圍內(nèi)的入射光功率從材料(例如制品、基材、光學(xué)膜結(jié)構(gòu)或其中的部分)反射的百分率。透射率和反射率由特定的線寬測(cè)得。在一種或多種實(shí)施方式中，表征透射率和反射率的光譜分辨率小于5nm或0.02eV。在一個(gè)或多個(gè)特定的例子中，制品100在可見(jiàn)光譜內(nèi)的平均透射率可為大約85％或更高、大約85.5％或更高、大約86％或更高、大約86.5％或更高、大約87％或更高、大約87.5％或更高、大約88％或更高、大約88.5％或更高、大約89％或更高、大約89.5％或更高、大約90％或更高、大約90.5％或更高、大約91％或更高、大約91.5％或更高、大約92％或更高、大約92.5％或更高、大約93％或更高、大約93.5％或更高、大約94％或更高、大約94.5％或更高、大約95％或更高、大約96％或更高、大約97％或更高、大約98％或更高、大約99％或更高。在一個(gè)或多個(gè)其它例子中，制品的總反射率可為大約15％或更低、大約14％或更低、大約13％或更低、大約12％或更低、大約11％或更低、大約10％或更低、大約9％或更低、大約8％或更低、大約7％或更低、大約6％或更低。在一些特定的實(shí)施方式中，制品的總反射率為大約6.8％或更低、大約6.6％或更低、大約6.4％或更低、大約6.2％或更低、大約6％或更低、大約5.8％或更低、大約5.6％或更低、大約5.4％或更低、大約5.2％或更低、大約5％或更低、大約4.8％或更低、大約4.6％或更低、大約4.4％或更低、大約4.2％或更低、大約4％或更低、大約3.8％或更低、大約3.6％或更低、大約3.4％或更低、大約3.2％或更低、大約3％或更低、大約2.8％或更低、大約2.6％或更低、大約2.4％或更低、大約2.2％或更低、大約2％或更低、大約1.8％或更低、大約1.6％或更低、大約1.4％或更低、大約1.2％或更低、大約1％或更低、大約0.5％或更低。根據(jù)一種或多種實(shí)施方式，制品100的總反射率等于或小于基材110的總反射率。在其它實(shí)施方式中，制品的總反射率與基材的總反射率的差異小于大約20％或10％。根據(jù)一種或多種實(shí)施方式，制品100在可見(jiàn)光譜內(nèi)具有85％或更高的平均透光率。術(shù)語(yǔ)“透光率”是指光透過(guò)介質(zhì)的量。透光率的測(cè)量值是光入射到介質(zhì)上的量與光離開(kāi)介質(zhì)的量(未被介質(zhì)反射或吸收的量)之間的比值。換言之，透光率是指入射光未被介質(zhì)反射和吸收的部分。術(shù)語(yǔ)“平均透光率”是指透光率的光譜平均值乘以發(fā)光效率函數(shù)，如CIE標(biāo)準(zhǔn)觀察者所述。制品100在可見(jiàn)光譜內(nèi)的平均透光率可為85％或更高、85.5％或更高、86％或更高、86.5％或更高、87％或更高、87.5％或更高、88％或更高、88.5％或更高、89％或更高、89.5％或更高、90％或更高、90.5％或更高、91％或更高、91.5％或更高、92％或更高、92.5％或更高、93％或更高、93.5％或更高、94％或更高、94.5％或更高、95％或更高。制品100包含正面101和光學(xué)性質(zhì)，以使當(dāng)從垂直入射以外的角度從正面進(jìn)行觀察時(shí)，制品不提供反射色調(diào)、或者其提供的反射色調(diào)是中性的或無(wú)色的。換言之，當(dāng)從正面101的正前方以外的角度進(jìn)行觀察時(shí)，反射是無(wú)色的。附加地或替代地，即使視角發(fā)生變化，從制品反射的色彩也基本上不發(fā)生改變。在一種或多種實(shí)施方式中，對(duì)于透射光或反射光，在垂直入射下，制品在(L*,a*,b*)色度系統(tǒng)中展現(xiàn)出具有小于大約2的偏離參考點(diǎn)的色偏的透射色彩和/或反射色彩。如本文所用，詞語(yǔ)“色偏”是指在(L*,a*,b*)色度系統(tǒng)中，參考點(diǎn)與制品的透射色坐標(biāo)和/或反射色坐標(biāo)制品之間的距離。在一種或多種實(shí)施方式中，參照點(diǎn)可以是L*a*b*色彩空間中的原點(diǎn)(0,0)(或色坐標(biāo)a*＝0,b*＝0)或基材110的透射色坐標(biāo)或反射色坐標(biāo)。在制品的色偏是參照基材來(lái)定義的情況中，將制品的透射色坐標(biāo)與基材的透射色坐標(biāo)進(jìn)行比較，而將制品的反射色坐標(biāo)與基材的反射色坐標(biāo)進(jìn)行比較。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，透射色彩和/或反射色彩的色偏可小于1或甚至小于0.5。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，透射色彩和/或反射色彩的色偏可以是1.8、1.6、1.4、1.2、0.8、0.6、0.4、0.2、0以及它們之間的所有范圍和子范圍。在參考點(diǎn)是色坐標(biāo)a*＝0,b*＝0的情況中，色偏由下式算得：色坐標(biāo)距離＝√((a*)2+(b*)2)。在參考點(diǎn)是基材110的色坐標(biāo)的情況中，色偏由下式算得：色坐標(biāo)距離＝√((a*制品-a*基材)2+(b*制品-b*基材)2)?；娜鐖D1～圖5所示，基材110包含設(shè)置于相反主表面(112、114)中至少一個(gè)之上的光學(xué)膜系統(tǒng)120、220、320、420、520?；?10包含次表面116、118，這些表面可包含或不包含設(shè)置于其上的膜或材料。基材110可包含無(wú)定形基材、晶體基材或它們的組合。在一些實(shí)施方式中，基材110的特征在于其可以是無(wú)機(jī)的。在一種或多種實(shí)施方式中，無(wú)定形基材可包括玻璃基材，所述玻璃基材可經(jīng)過(guò)強(qiáng)化或未經(jīng)過(guò)強(qiáng)化。合適的玻璃基材的例子包括鈉鈣玻璃基材、堿金屬鋁硅酸鹽玻璃基材、含堿金屬的硼硅酸鹽玻璃基材和堿金屬鋁硼硅酸鹽玻璃基材。在一些變化形式中，玻璃基材可不含氧化鋰。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，基材110可包含例如玻璃陶瓷基材(可經(jīng)過(guò)強(qiáng)化或未經(jīng)過(guò)強(qiáng)化)的晶體基材，或者可包含例如藍(lán)寶石的單晶結(jié)構(gòu)。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，基材110包含無(wú)定形基底(例如玻璃)和晶體包層(例如藍(lán)寶石層、多晶氧化鋁層和/或尖晶石(MgAl2O4)層)。在一些實(shí)施方式中，基材110可以是有機(jī)的且具體來(lái)說(shuō)可以是聚合物。合適的聚合物的例子包括但不限于：熱塑性塑料，包括聚苯乙烯(PS)(包括苯乙烯的共聚物和混合物)、聚碳酸酯(PC)(包括共聚物和混合物)、聚酯(包括共聚物和混合物，包括聚對(duì)苯二甲酸乙二酯和聚對(duì)苯二甲酸乙二酯的共聚物)、聚烯烴(PO)和環(huán)聚烯烴(環(huán)-PO)、聚氯乙烯(PVC)、包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的丙烯酸聚合物(包括共聚物和混合物)、熱塑性氨基甲酸酯(TPU)、聚醚酰亞胺(PEI)以及這些聚合物之間的混合物。其它示例性的聚合物包括環(huán)氧樹(shù)脂、苯乙烯類樹(shù)脂、酚醛樹(shù)脂、三聚氰胺樹(shù)脂和有機(jī)硅樹(shù)脂?；?10可基本上是平面的，但其他實(shí)施方式可使用彎曲的或者經(jīng)過(guò)其他方式成形或雕刻的基材?；?10可基本上是光學(xué)澄清的、透明的以及不發(fā)生光散射的?；?00可具有在大約1.45～大約1.55范圍內(nèi)的折射率。如本文所用，折射率數(shù)值是相對(duì)于550nm波長(zhǎng)而言的。基材110的特征可在于具有在這種基材的一個(gè)或多個(gè)主相反表面112、114上測(cè)得的高平均彎曲強(qiáng)度(當(dāng)與未經(jīng)強(qiáng)化的基材進(jìn)行比較時(shí)，如本文所述)或高表面破裂應(yīng)變(當(dāng)與未經(jīng)強(qiáng)化的基材進(jìn)行比較時(shí)，如本文所述)。附加地或替代地，出于美觀和/或功能原因，基材110的厚度可沿著其一個(gè)或多個(gè)維度變化。例如，基材110的邊緣可比基材110更靠中心的區(qū)域更厚一些?；?10的長(zhǎng)度、寬度和厚度尺寸也可根據(jù)制品的應(yīng)用或用途而改變?；?10可采用各種不同的方法來(lái)提供。例如，當(dāng)基材110包含玻璃基材時(shí)，示例性的玻璃基材形成方法包括浮法玻璃法和下拉法，例如熔合拉制法和狹縫拉制法。通過(guò)浮法玻璃法制造的玻璃基材的特征在于可具有光滑的表面和均勻的厚度，可通過(guò)使熔融玻璃在熔融金屬(通常是錫)床上浮動(dòng)來(lái)制造。在一種示例性的方法中，將熔融玻璃進(jìn)料到熔融錫床表面上，形成浮動(dòng)玻璃帶。隨著玻璃帶沿著錫浴流動(dòng)，溫度逐漸降低直至玻璃帶固化成可從錫上提舉至輥上的固體玻璃基材。一旦離開(kāi)浴，可以對(duì)玻璃基材進(jìn)行進(jìn)一步冷卻和退火以降低內(nèi)應(yīng)力。下拉法生產(chǎn)的具有均勻厚度的玻璃基材具有相對(duì)完好的表面。因?yàn)椴ＡЩ牡钠骄鶑澢鷱?qiáng)度受到表面裂紋的量和尺寸的控制，因此接觸程度最小的完好表面具有更高的初始強(qiáng)度。當(dāng)進(jìn)一步對(duì)該高強(qiáng)度玻璃基材進(jìn)行強(qiáng)化(例如化學(xué)強(qiáng)化)時(shí)，所得到的強(qiáng)度可以高于表面已經(jīng)進(jìn)行過(guò)磨光和拋光的玻璃基材的強(qiáng)度?？蓪⑾吕ㄖ圃斓牟ＡЩ睦梁穸刃∮诖蠹s2mm。另外，下拉玻璃基材具有非常平坦、光滑的表面，其可用于其最終應(yīng)用而不需要進(jìn)行昂貴的打磨和拋光。例如，熔合拉制法使用拉制槽，所述拉制槽具有用來(lái)接收熔融玻璃原材料的通道。在通道的兩側(cè)沿著通道的長(zhǎng)度方向具有頂部開(kāi)放的堰。當(dāng)用熔融材料填充通道時(shí)，熔融玻璃從堰上溢流。在重力的作用下，熔融玻璃從拉制槽的外表面以兩股流動(dòng)玻璃膜的形式流下。拉制槽的這些外表面向下和向內(nèi)延伸，以使它們?cè)诶撇巯路降倪吘壧巺R合。兩股流動(dòng)玻璃膜在該邊緣處匯合并熔合以形成單個(gè)流動(dòng)玻璃基材。熔合拉制法的優(yōu)點(diǎn)在于：由于從通道溢流的兩股玻璃膜熔合在一起，因此所得到的玻璃基材的任一外表面都沒(méi)有與設(shè)備的任意部件相接觸。因此，熔合拉制玻璃基材的表面性質(zhì)不受到這種接觸的影響。狹縫拉制法與熔合拉制法不同。在狹縫拉制法中，向拉制容器提供熔融原材料玻璃。拉制容器的底部具有開(kāi)放狹縫，所述開(kāi)放狹縫具有沿著狹縫的長(zhǎng)度方向延伸的噴嘴。熔融玻璃流過(guò)狹縫/噴嘴，作為連續(xù)基材被向下拉制并進(jìn)入退火區(qū)。在一些實(shí)施方式中，用于玻璃基材的組成可配料有0～2摩爾％的選自Na2SO4、NaCl、NaF、NaBr、K2SO4、KCl、KF、KBr和SnO2中的至少一種澄清劑。一旦形成，可對(duì)基材進(jìn)行強(qiáng)化以形成強(qiáng)化玻璃基材。應(yīng)當(dāng)注意的是，玻璃陶瓷基材也可以通過(guò)與玻璃基材相同的方式被強(qiáng)化。如本文所用，術(shù)語(yǔ)“強(qiáng)化基材”可指已經(jīng)經(jīng)過(guò)化學(xué)強(qiáng)化的玻璃基材或玻璃陶瓷基材，例如通過(guò)離子交換將玻璃或玻璃陶瓷基材表面中較小的離子置換成較大的離子。然而，也可以使用本領(lǐng)域中已知的其它強(qiáng)化方法來(lái)形成強(qiáng)化玻璃基材，例如熱回火?？赏ㄟ^(guò)離子交換法對(duì)本文所述的強(qiáng)化基材進(jìn)行化學(xué)強(qiáng)化。在離子交換處理中，通常通過(guò)將玻璃或玻璃陶瓷基材在熔鹽浴中浸沒(méi)一段預(yù)定的時(shí)間，使得玻璃或玻璃陶瓷基材表面處或者表面附近的離子與來(lái)自鹽浴的更大的金屬離子發(fā)生交換。在一種實(shí)施方式中，熔鹽浴的溫度為大約400～430℃，預(yù)定的時(shí)間為大約4～大約8小時(shí)。將更大的離子結(jié)合入玻璃或玻璃陶瓷基材通過(guò)在基材的一個(gè)近表面區(qū)域或多個(gè)表面區(qū)域以及毗鄰基材表面的區(qū)域形成壓縮應(yīng)力來(lái)對(duì)基材進(jìn)行強(qiáng)化。在距離基材表面一定距離的一個(gè)或多個(gè)中心區(qū)域內(nèi)引發(fā)了相應(yīng)的拉伸應(yīng)力，以平衡該壓縮應(yīng)力。可將使用該強(qiáng)化方法的玻璃或玻璃陶瓷基材更加特定地描述為經(jīng)過(guò)化學(xué)強(qiáng)化或經(jīng)過(guò)離子交換的玻璃或玻璃陶瓷基材。在一個(gè)例子中，經(jīng)過(guò)強(qiáng)化的玻璃或玻璃陶瓷中的鈉離子可被熔浴(例如硝酸鉀鹽浴)中的鉀離子置換，但具有更大原子半徑的其他堿金屬離子(例如銣或銫)也可以置換玻璃中更小的堿金屬離子。根據(jù)具體的實(shí)施方式，玻璃或玻璃陶瓷中更小堿金屬離子可被Ag+離子置換。類似地，其它堿金屬鹽，例如但不限于硫酸鹽、磷酸鹽、鹵化物等，可被用于離子交換處理。在低于可使玻璃網(wǎng)絡(luò)松弛的溫度下，用更大的離子置換更小的離子會(huì)使強(qiáng)化基材的表面上形成離子分布，形成應(yīng)力曲線。進(jìn)入的離子的更大的體積在表面形成壓縮應(yīng)力(CS)，而在強(qiáng)化基材的中心之內(nèi)形成張力(中心張力，或者CT)。壓縮應(yīng)力與中心張力通過(guò)下式相關(guān)聯(lián)：其中，t是經(jīng)過(guò)強(qiáng)化的玻璃或玻璃陶瓷基材的總厚度，而壓縮層深度(DOL)是交換的深度。交換的深度可描述為經(jīng)過(guò)強(qiáng)化的玻璃或玻璃陶瓷基材內(nèi)的深度(即從玻璃基材的表面至玻璃或玻璃陶瓷基材的中心區(qū)域的距離)，在該深度處發(fā)生了離子交換處理所促進(jìn)的離子交換。在一種實(shí)施方式中，經(jīng)過(guò)強(qiáng)化的玻璃或玻璃陶瓷基材的表面壓縮應(yīng)力可為300MPa或更大，例如400MPa或更大、450MPa或更大、500MPa或更大、550MPa或更大、600MPa或更大、650MPa或更大、700MPa或更大、750MPa或更大或者800MPa或更大。經(jīng)過(guò)強(qiáng)化的玻璃或玻璃陶瓷基材的壓縮層深度可為15μm或更大、20μm或更大(例如25μm、30μm、35μm、40μm、45μm、50μm或更大)，并且/或者中心張力可為10MPa或更大、20MPa或更大、30MPa或更大、40MPa或更大(例如42MPa、45MPa或50MPa或更大)但小于100MPa(例如95、90、85、80、75、70、65、60、55MPa或更小)。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，經(jīng)過(guò)強(qiáng)化的玻璃或玻璃陶瓷基材具有以下各項(xiàng)中的一項(xiàng)或多項(xiàng)：大于500MPa的表面壓縮應(yīng)力、大于15μm的壓縮層深度和大于18MPa的中心張力。無(wú)意受限于理論，據(jù)信，表面壓縮應(yīng)力大于500MPa且壓縮層深度大于大約15μm的經(jīng)過(guò)強(qiáng)化的玻璃或玻璃陶瓷基材通常具有比未經(jīng)強(qiáng)化的玻璃或玻璃陶瓷基材(或換言之，未經(jīng)離子交換或其它強(qiáng)化的玻璃基材)更大的破裂應(yīng)變?？捎糜诨牡氖纠缘牟ＡЭ砂▔A金屬鋁硅酸鹽玻璃組合物或堿金屬鋁硼硅酸鹽玻璃組合物，但其他玻璃組合物也在構(gòu)思之列。這種玻璃組合物的特征在于可進(jìn)行離子交換。如本文所用，“可進(jìn)行離子交換”是指包含這種組合物的基材能夠通過(guò)尺寸更大或更小的同價(jià)態(tài)陽(yáng)離子來(lái)交換位于基材表面處或附近的陽(yáng)離子。一種示例性的玻璃組合物包含SiO2、B2O3和Na2O，其中，(SiO2+B2O3)≥66摩爾％，且Na2O≥9摩爾％。在一種實(shí)施方式中，玻璃組合物包含至少6重量％的氧化鋁。在另一種實(shí)施方式中，基材包括含有一種或多種堿土金屬氧化物的玻璃組合物，以使堿土金屬氧化物的含量至少為5重量％。在一些實(shí)施方式中，合適的玻璃組合物還包含K2O、MgO和CaO中的至少一種。在一種具體的實(shí)施方式中，基材中所使用的玻璃組合物可包含61～75摩爾％的SiO2；7～15摩爾％的Al2O3；0～12摩爾％的B2O3；9～21摩爾％的Na2O；0～4摩爾％的K2O；0～7摩爾％的MgO；以及0～3摩爾％的CaO。另一種適用于基材的示例性的玻璃組合物包含：60～70摩爾％的SiO2；6～14摩爾％的Al2O3；0～15摩爾％的B2O3；0～15摩爾％的Li2O；0～20摩爾％的Na2O；0～10摩爾％的K2O；0～8摩爾％的MgO；0～10摩爾％的CaO；0～5摩爾％的ZrO2；0～1摩爾％的SnO2；0～1摩爾％的CeO2；小于50ppm的As2O3和小于50ppm的Sb2O3，其中，12摩爾％≤(Li2O+Na2O+K2O)≤20摩爾％且0摩爾％≤(MgO+CaO)≤10摩爾％。另一種適用于基材的示例性的玻璃組合物包含：63.5～66.5摩爾％的SiO2；8～12摩爾％的Al2O3；0～3摩爾％的B2O3；0～5摩爾％的Li2O；8～18摩爾％的Na2O；0～5摩爾％的K2O；1～7摩爾％的MgO；0～2.5摩爾％的CaO；0～3摩爾％的ZrO2；0.05～0.25摩爾％的SnO2；0.05～0.5摩爾％的CeO2；小于50ppm的As2O3和小于50ppm的Sb2O3，其中，14摩爾％≤(Li2O+Na2O+K2O)≤18摩爾％且2摩爾％≤(MgO+CaO)≤7摩爾％。在一種具體的實(shí)施方式中，適用于基材的堿金屬鋁硅酸鹽玻璃組合物包含氧化鋁、至少一種堿金屬，且在一些實(shí)施方式中包含大于50摩爾％的SiO2，在其它實(shí)施方式中包含至少58摩爾％的SiO2，而在其他實(shí)施方式中包含至少60摩爾％的SiO2，其中比例((Al2O3+B2O3)/Σ改性劑)＞1，在該比例中，組分以摩爾％計(jì)且改性劑是堿金屬氧化物。在具體的實(shí)施方式中，該玻璃組合物包含：58～72摩爾％的SiO2；9～17摩爾％的Al2O3；2～12摩爾％的B2O3；8～16摩爾％的Na2O；和0～4摩爾％的K2O，其中比例((Al2O3+B2O3)/Σ改性劑)＞1。在另一種實(shí)施方式中，基材可包含堿金屬鋁硅酸鹽玻璃組合物，所述堿金屬鋁硅酸鹽玻璃組合物包含：64～68摩爾％的SiO2；12～16摩爾％的Na2O；8～12摩爾％的Al2O3；0～3摩爾％的B2O3；2～5摩爾％的K2O；4～6摩爾％的MgO；和0～5摩爾％的CaO，其中：66摩爾％≤SiO2+B2O3+CaO≤69摩爾％；Na2O+K2O+B2O3+MgO+CaO+SrO＞10摩爾％；5摩爾％≤MgO+CaO+SrO≤8摩爾％；(Na2O+B2O3)-Al2O3≤2摩爾％；2摩爾％≤Na2O-Al2O3≤6摩爾％；以及4摩爾％≤(Na2O+K2O)-Al2O3≤10摩爾％。在一種替代性的實(shí)施方式中，基材可包含堿金屬鋁硅酸鹽玻璃組合物，所述堿金屬鋁硅酸鹽玻璃組合物包含：2摩爾％或更多的Al2O3和/或ZrO2、或4摩爾％或更多的Al2O3和/或ZrO2。在基材110包含晶體基材的情況中，所述基材可包含單晶，所述單晶可包含Al2O3。這種單晶基材稱作藍(lán)寶石。適用于晶體基材的其他材料包括多晶氧化鋁層和/或尖晶石(MgAl2O4)?？蛇x地，晶體基材100可包含玻璃陶瓷基材，其可經(jīng)過(guò)強(qiáng)化或未經(jīng)強(qiáng)化。合適的玻璃陶瓷的例子可包括Li2O-Al2O3-SiO2系統(tǒng)(即LAS系統(tǒng))玻璃陶瓷、MgO-Al2O3-SiO2系統(tǒng)(即MAS系統(tǒng))玻璃陶瓷和/或包含以下主晶相的玻璃陶瓷，所述主晶相包括β-石英固溶體、β-鋰輝石固溶體、堇青石和二硅酸鋰?？衫帽景l(fā)明的玻璃基材強(qiáng)化方法對(duì)玻璃陶瓷基材進(jìn)行強(qiáng)化。在一種或多種實(shí)施方式中，可在Li2SO4熔鹽中對(duì)MAS體系玻璃陶瓷基材進(jìn)行強(qiáng)化，從而可發(fā)生兩個(gè)Li+交換Mg2+。根據(jù)一種或多種實(shí)施方式的基材110可具有大約100μm～大約5mm范圍內(nèi)的厚度。示例性的基材110的厚度在大約100μm～大約500μm的范圍內(nèi)(例如100、200、300、400或500μm)。另一些示例性的基材110的厚度在大約500μm～大約1000μm的范圍內(nèi)(例如500、600、700、800、900或1000μm)?；?10的厚度可大于大約1mm(例如大約2、3、4或5mm)。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，基材110可具有2mm或更小或者小于1mm的厚度。基材110可經(jīng)過(guò)酸拋光，或經(jīng)過(guò)其他方式的處理，以消除或降低表面缺陷的影響。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)在本文所述的一些實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)設(shè)置于基材110的主表面(112、114)上。在一些例子中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可設(shè)置于一個(gè)或多個(gè)次表面上(未示出)。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)形成可形成涂覆表面，該涂覆表面形成制品的正面101。本文所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)具有耐劃痕性，其可通過(guò)以下各項(xiàng)來(lái)表征：測(cè)得的包含光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的制品的硬度、測(cè)得的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)本身的硬度、和/或測(cè)得的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的一個(gè)或多個(gè)層的硬度。硬度可通過(guò)“布氏壓痕硬度測(cè)試”來(lái)測(cè)得，其包括通過(guò)利用金剛石布式硬度計(jì)壓頭對(duì)材料表面進(jìn)行壓刻，來(lái)測(cè)量材料表面的硬度。布氏壓痕硬度測(cè)試包括利用金剛石布氏硬度計(jì)壓頭對(duì)制品的正面101或光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的表面(或光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中任一層或多層的表面)進(jìn)行壓刻以形成壓痕深度在大約50nm～大約1000nm范圍內(nèi)(或者光學(xué)膜結(jié)構(gòu)或?qū)拥恼麄€(gè)厚度，取更小者)的壓痕，并測(cè)量從該壓痕沿著整個(gè)壓痕深度范圍或該壓痕深度的一個(gè)區(qū)段(例如在大約100nm～大約600nm的范圍內(nèi))的最大硬度，通常使用以下文獻(xiàn)中的方法：由Oliver,W.C.；Pharr,G.M.所著的《一種改進(jìn)的使用負(fù)荷和位移傳感凹痕實(shí)驗(yàn)測(cè)定硬度和彈性模量的技術(shù)》(Animprovedtechniquefordetermininghardnessandelasticmodulususingloadanddisplacementsensingindentationexperiments)J.Mater.Res.，第7卷，第6期，1992，1564～1583；和Oliver,W.C.；Pharr,G.M.所著的《利用儀器壓痕測(cè)量硬度和彈性模量：理解的進(jìn)展和方法的改進(jìn)》(MeasurementofHardnessandElasticModulusbyInstrumentIndentation:AdvancesinUnderstandingandRefinementstoMethodology)J.Mater.Res.，第19卷，第1期，2004，3～20。由制品的正面101、光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的表面和/或該光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中的任一層或更多層的表面來(lái)制造壓痕深度并對(duì)其進(jìn)行測(cè)量。如本文所用，“硬度”是指最大硬度而不是指平均硬度。特別是在對(duì)于比下方基材更硬的涂層所進(jìn)行的納米壓痕測(cè)試方法(例如通過(guò)使用布氏硬度計(jì)壓頭)中，由于在較淺的壓痕深度處形成了塑性區(qū)，因此所測(cè)得的硬度似在最初顯示為增加，然后增加并在更深的壓痕深度處達(dá)到最大值或平臺(tái)期。隨后，由于下方基材的影響，硬度在更深的壓痕深度處開(kāi)始下降。在基材相對(duì)于所使用的涂層具有增加的硬度的情況中，可以看到相同的效應(yīng)；但是，由于下方基材的影響，硬度在更深的壓痕深度處增加。對(duì)壓痕深度范圍和在某壓痕深度范圍內(nèi)的硬度值進(jìn)行選擇，以確定與光學(xué)膜結(jié)構(gòu)及其層相對(duì)應(yīng)的具體硬度，如本文所述，而不受下方基材的影響。當(dāng)利用布氏硬度計(jì)壓頭對(duì)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)(當(dāng)設(shè)置于基材上時(shí))的硬度進(jìn)行測(cè)量時(shí)，材料的永久形變區(qū)域(塑性區(qū))與材料的硬度相關(guān)聯(lián)。在壓刻過(guò)程中，彈性應(yīng)力場(chǎng)的范圍延伸大大超出該永久形變區(qū)域。隨著壓刻深度的增加，表觀硬度和模量受到應(yīng)力場(chǎng)與下方基材相互作用的影響?；膶?duì)硬度的影響發(fā)生于更深的壓痕深度處(例如，通常是在大于光學(xué)膜結(jié)構(gòu)或?qū)由疃鹊拇蠹s10％的深度)。另外，另一種同時(shí)出現(xiàn)的情況是硬度響應(yīng)需要某個(gè)最小負(fù)荷以在壓刻過(guò)程中形成完全的塑性。在達(dá)到該最小負(fù)荷前，硬度顯示出大體增加的趨勢(shì)。在小的壓刻深度處(也可被表征為小的負(fù)荷)(例如不超過(guò)大約100nm或小于大約70nm)，材料的表觀硬度顯示為相對(duì)于壓痕深度急劇增加。該小的壓刻深度區(qū)段不代表硬度的真實(shí)度量，而是反映出如上文所述的塑性區(qū)的形成，其與硬度計(jì)的曲率的有限半徑有關(guān)。在中間壓痕深度處，表觀硬度接近最大水平。在更深的壓痕深度處，隨著壓痕深度的增加，基材的影響更加顯著。一旦壓痕深度超過(guò)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)厚度或?qū)雍穸鹊拇蠹s30％，硬度就會(huì)開(kāi)始急劇減小。如圖31所示，在中間壓痕深度(硬度在此處接近并保持在最大水平)和更深的壓痕深度處測(cè)得的硬度取決于材料或?qū)拥暮穸?。圖31圖示了具有不同厚度的AlOxNy的四種不同層的硬度響應(yīng)。利用布氏壓痕硬度測(cè)試對(duì)各層的硬度進(jìn)行測(cè)量。厚度為500nm的層在大約100nm～180nm的壓痕深度處展現(xiàn)出最大硬度，接著該硬度在大約180nm～大約200nm的壓痕深度處急劇減小，這表明基材的硬度對(duì)硬度測(cè)量產(chǎn)生了影響。厚度為1000nm的層在大約100nm～大約300nm的壓痕深度處展現(xiàn)出最大硬度，接著該硬度在大于大約300nm的壓痕深度處急劇減小。厚度為1500nm的層在大約100nm～大約500nm的壓痕深度處展現(xiàn)出最大硬度，而厚度為2000nm的層在大約100nm～大約600nm的壓痕深度處展現(xiàn)出最大硬度。在一些實(shí)施方式中，該制品、光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和/或光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中的層在大于大約100nm或大于大約200nm的壓痕深度處展現(xiàn)出最大硬度，從而展現(xiàn)出足以提供耐劃痕性的硬度，其不受基材的影響。在一些實(shí)施方式中，制品、光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和/或光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中的層在這些壓痕深度處具有最大硬度，從而能夠耐受例如微延展性劃痕(其通常具有大約100nm～大約500nm或大約200nm～大約400nm的深度)的特定劃痕。例如，正面101(或光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的表面或光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的任一層或多個(gè)層)能夠耐受微延展性劃痕，因?yàn)樵撝破费刂囟ǖ膲汉凵疃日宫F(xiàn)出本文所述的硬度值，該硬度通過(guò)布氏壓痕硬度測(cè)試測(cè)得。另外，如圖32所述，可通過(guò)調(diào)整光學(xué)膜結(jié)構(gòu)或光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中的一層或多層的厚度來(lái)使測(cè)定的或表觀的硬度最大化。圖32顯示了圖31所示的層的測(cè)定的最大硬度值。對(duì)于厚度為500nm的層，在50nm處出現(xiàn)10％的壓痕深度閾值；然而，直到壓痕深度大于大約70nm前，并未出現(xiàn)完全形成的塑性區(qū)。結(jié)果是，厚度為500nm的層的表觀硬度明顯低于更厚的膜的硬度。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的硬度(在光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的表面測(cè)得，例如圖2中的221)為大約12GPa或更大、大約13GPa或更大、大約14GPa或更大、大約15GPa或更大、大約16GPa或更大、大約17GPa或更大、大約18GPa或更大、大約19GPa或更大、大約20GPa或更大、大約22GPa或更大、大約23GPa或更大、大約24GPa或更大、大約25GPa或更大、大約26GPa或更大、或大約27GPa或更大(不超過(guò)大約50GPa)，所述硬度通過(guò)布氏壓痕硬度測(cè)試測(cè)得。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可沿著大約50nm或更大、或者大約100nm或更大(例如大約100nm～大約300nm、大約100nm～大約400nm、大約100nm～大約500nm、大約100nm～大約600nm、大約200nm～大約300nm、大約200nm～大約400nm、大約200nm～大約500nm、或者大約200nm～大約600nm)的壓痕深度展現(xiàn)出這些測(cè)得的硬度值。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)120可具有至少一個(gè)具有以下硬度的層(在該層的表面測(cè)得，例如圖2中的第二亞層228的表面229)：大約12GPa或更大、大約13GPa或更大、大約14GPa或更大、大約15GPa或更大、大約16GPa或更大、大約17GPa或更大、大約18GPa或更大、大約19GPa或更大、大約20GPa或更大、大約22GPa或更大、大約23GPa或更大、大約24GPa或更大、大約25GPa或更大、大約26GPa或更大、或大約27GPa或更大(不超過(guò)大約50GPa)，所述硬度通過(guò)布氏壓痕硬度測(cè)試測(cè)得。這種層的硬度可在大約18GPa～大約21GPa的范圍內(nèi)，所述硬度通過(guò)布氏壓痕硬度測(cè)試測(cè)得。至少一個(gè)層可沿著大約50nm或更大、或者大約100nm或更大(例如大約100nm～大約300nm、大約100nm～大約400nm、大約100nm～大約500nm、大約100nm～大約600nm、大約200nm～大約300nm、大約200nm～大約400nm、大約200nm～大約500nm、或者大約200nm～大約600nm)的壓痕深度展現(xiàn)出這些測(cè)得的硬度值。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)包含具有最大硬度的層，且這種層形成了光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的大約50體積％或更大。在一種或多種實(shí)施方式中，制品(在正面101上測(cè)量)的硬度可為大約12GPa或更大、大約13GPa或更大、大約14GPa或更大、大約15GPa或更大、大約16GPa或更大、大約17GPa或更大、大約18GPa或更大、大約19GPa或更大、大約20GPa或更大、大約22GPa或更大、大約23GPa或更大、大約24GPa或更大、大約25GPa或更大、大約26GPa或更大、或大約27GPa或更大(不超過(guò)大約50GPa)，所述硬度通過(guò)布氏壓痕硬度測(cè)試沿著大約50nm或更深、或者大約100nm或更深的壓痕深度測(cè)得。在一種或多種實(shí)施方式中，壓痕深度可在以下范圍內(nèi)：大約100nm～大約300nm、大約100nm～大約400nm、大約100nm～大約500nm、大約100nm～大約600nm、大約200nm～大約300nm、大約200nm～大約400nm、大約200nm～大約500nm、大約200nm～大約600nm。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)具有耐劃痕性，所述耐劃痕性通過(guò)劃痕深度的減小來(lái)測(cè)量。具體而言，當(dāng)與無(wú)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的基材110的劃痕深度相比較時(shí)，包含光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的制品可展現(xiàn)出劃痕深度的減小。當(dāng)使用布氏硬度計(jì)壓頭，利用160mN的負(fù)荷，以10μm/秒的速度，沿著制品的表面(在光學(xué)膜結(jié)構(gòu)側(cè))對(duì)具有設(shè)置在其上的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的制品進(jìn)行長(zhǎng)度至少為100μm的劃刻時(shí)，得到的劃痕的深度比按照相同方式(即使用相同的硬度計(jì)壓頭、負(fù)荷、速度和長(zhǎng)度)在基材110(無(wú)設(shè)置在其上的光學(xué)膜結(jié)構(gòu))上形成的劃痕的深度淺至少大約30％、至少大約31％、至少大約32％、至少大約33％、至少大約34％、至少大約35％、至少大約36％、至少大約37％、至少大約38％、至少大約39％、至少大約40％、至少大約41％、至少大約42％、至少大約43％、至少大約44％、至少大約45％、至少大約46％、至少大約47％、至少大約48％、至少大約49％、至少大約50％、至少大約51％、至少大約52％、至少大約53％、至少大約54％、至少大約55％、至少大約56％、至少大約57％、至少大約58％、至少大約59％、至少大約60％(以及它們之間的所有范圍和子范圍)。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的該耐劃痕性質(zhì)可在制品使用無(wú)定形基材(例如經(jīng)過(guò)強(qiáng)化的玻璃基材和/或未經(jīng)強(qiáng)化的玻璃基材)、晶體基材(例如經(jīng)過(guò)強(qiáng)化的玻璃陶瓷基材、未經(jīng)強(qiáng)化的玻璃陶瓷玻璃基材以及例如藍(lán)寶石的單晶基材)或它們的組合的情況中顯現(xiàn)。在一些實(shí)施方式中，耐劃痕性可在基材是聚合物的情況中顯現(xiàn)。另外，當(dāng)使用布氏硬度計(jì)壓頭以10μm/秒的速度對(duì)制品進(jìn)行長(zhǎng)度至少為1mm、至少為2mm、至少為3mm、至少為4mm或至少為5mm的劃刻時(shí)，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的這種耐劃痕性質(zhì)可顯現(xiàn)。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)具有耐劃痕性，以使當(dāng)使用布氏硬度計(jì)壓頭，利用160mN的負(fù)荷，以10μm/秒的速度，沿著制品的表面對(duì)包含光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的制品進(jìn)行長(zhǎng)度至少為100μm的劃刻時(shí)，得到的劃痕的劃痕深度小于250nm、小于240nm、小于230nm、小于220nm、或小于200nm。本文所述的劃痕深度可由光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的原始和未受干擾的表面測(cè)得。換言之，劃痕深度不包括任何數(shù)量的由于布氏硬度計(jì)壓頭刺入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)內(nèi)所導(dǎo)致的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)材料的位移而可能在劃痕邊緣周圍構(gòu)建的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)。當(dāng)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)設(shè)置于基材上時(shí)，其降低的劃痕深度示于圖33。圖33顯示了裸露的玻璃基材(以“G表示”)、裸露的藍(lán)寶石基材(以“S”表示)和具有設(shè)置在與G相同的玻璃基材上的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的制品(以“A”表示)的劃痕深度。A的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)具有與本文所述的圖2的結(jié)構(gòu)相同的結(jié)構(gòu)，其具有Al2O3第一亞層(具有大約115nm的厚度)、AlOxNy第二亞層(具有大約2000nm的厚度)和SiO2第二層(具有大約32nm的厚度)。在所有負(fù)荷下，制品與裸露的玻璃和裸露的藍(lán)寶石基材相比顯示出降低的劃痕深度。所以，本文所述的制品的實(shí)施方式顯示出耐劃痕性，以使當(dāng)利用布氏硬度計(jì)壓頭，使用30mN或60mN的負(fù)荷，以10μm/秒的速度，沿著制品的表面對(duì)正面101進(jìn)行長(zhǎng)度至少為100μm的劃刻時(shí)，得到的劃痕具有小于100nm或小于大約50nm的壓痕深度。類似地，當(dāng)利用布氏硬度計(jì)壓頭，使用125mN的負(fù)荷，以10μm/秒的速度，沿著制品的表面對(duì)正面101進(jìn)行長(zhǎng)度至少為100μm的劃刻時(shí)，得到的劃痕具有小于大約200nm、小于150nm或小于100nm的劃痕深度。在一種或多種實(shí)施方式中，當(dāng)與包含藍(lán)寶石的裸露基材110、或包含經(jīng)過(guò)化學(xué)強(qiáng)化的玻璃的裸露基材110進(jìn)行比較時(shí)，制品100展現(xiàn)出劃痕深度的減小。在一種或多種具體實(shí)施方式中，制品100的劃痕深度相對(duì)于包含經(jīng)過(guò)化學(xué)強(qiáng)化的玻璃的裸露基材110的劃痕深度的降幅比裸露的藍(lán)寶石基材的劃痕深度相對(duì)于裸露的經(jīng)過(guò)化學(xué)強(qiáng)化的玻璃基材的劃痕深度的降幅大至少兩倍。例如，當(dāng)與裸露的經(jīng)過(guò)強(qiáng)化的玻璃基材進(jìn)行比較時(shí)，裸露的藍(lán)寶石基材可展現(xiàn)出30％～40％的劃痕深度降幅；然而，當(dāng)與裸露的經(jīng)過(guò)強(qiáng)化的玻璃基材進(jìn)行比較時(shí)，本發(fā)明的制品可展現(xiàn)出60％～75％或更大的劃痕深度降幅。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，當(dāng)與包含經(jīng)過(guò)化學(xué)強(qiáng)化的玻璃的裸露基材110進(jìn)行比較時(shí)，制品100的劃痕深度的降幅至少為50％、至少為55％、至少為60％、至少為65％、至少為70％、至少為75％或至少為80％，以及它們之間的所有范圍和子范圍?？稍谙嗤破飞线M(jìn)行制品100與裸露基材的比較，其中，對(duì)涂覆表面101進(jìn)行測(cè)試以對(duì)制品的劃痕深度進(jìn)行評(píng)價(jià)，對(duì)基材的相反表面(例如圖1中的114)進(jìn)行測(cè)試以對(duì)裸露基材的劃痕深度進(jìn)行評(píng)價(jià)；可對(duì)得到的劃痕深度進(jìn)行比較以確定涂覆表面101相對(duì)于裸露基材的劃痕深度降幅。在一種或多種實(shí)施方式中，制品100與具有大約7GPa～大約8GPa的硬度的裸露基材相比，在劃痕深度上展現(xiàn)出改善的降低，所述硬度通過(guò)布氏壓痕硬度測(cè)試測(cè)得。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)展現(xiàn)出耐劃痕性，所述耐劃痕性通過(guò)劃痕寬度的減小來(lái)測(cè)量。具體而言，當(dāng)與無(wú)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的基材110的劃痕深度相比較時(shí)，包含光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的制品可展現(xiàn)出劃痕寬度的減小。當(dāng)使用布氏硬度計(jì)壓頭，利用160mN的負(fù)荷，以10μm/秒的速度，沿著制品的表面(在光學(xué)膜結(jié)構(gòu)側(cè))對(duì)具有如本文所述的設(shè)置于其上的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的制品進(jìn)行長(zhǎng)度至少為100μm的劃刻時(shí)，得到的劃痕的寬度比按照相同方式(即使用相同的硬度計(jì)壓頭、負(fù)荷、速度和長(zhǎng)度)在基材110(無(wú)設(shè)置在其上的光學(xué)膜結(jié)構(gòu))上形成的劃痕的寬度窄至少大約30％、至少大約31％、至少大約32％、至少大約33％、至少大約34％、至少大約35％、至少大約36％、至少大約37％、至少大約38％、至少大約39％、至少大約40％、至少大約41％、至少大約42％、至少大約43％、至少大約44％、至少大約45％(以及它們之間的所有范圍和子范圍)。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的該耐劃痕性質(zhì)可在制品使用無(wú)定形基材(例如經(jīng)過(guò)強(qiáng)化的玻璃基材和/或未經(jīng)強(qiáng)化的玻璃基材)、晶體基材(例如經(jīng)過(guò)強(qiáng)化的玻璃陶瓷基材、未經(jīng)強(qiáng)化的玻璃陶瓷玻璃基材以及例如藍(lán)寶石的單晶基材)或它們的組合的情況中顯現(xiàn)。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，耐劃痕性可在基材是聚合物的情況中顯現(xiàn)。另外，當(dāng)使用布氏硬度計(jì)壓頭以10μm/秒的速度對(duì)制品進(jìn)行長(zhǎng)度至少為1mm、至少為2mm、至少為3mm、至少為4mm或至少為5mm的劃刻時(shí)，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的這種耐劃痕性質(zhì)可顯現(xiàn)?？稍谙嗤破飞线M(jìn)行制品100與裸露基材的比較，其中，對(duì)涂覆表面101進(jìn)行測(cè)試以對(duì)制品的劃痕寬度進(jìn)行評(píng)價(jià)，對(duì)基材的相反表面(例如圖1中的114)進(jìn)行測(cè)試以對(duì)裸露基材的劃痕深度進(jìn)行評(píng)價(jià)；可對(duì)得到的劃痕寬度進(jìn)行比較以確定涂覆表面101相對(duì)于裸露基材的劃痕寬度降幅。在一種或多種實(shí)施方式中，制品100與具有大約7GPa～大約8GPa的硬度的裸露基材相比，在劃痕寬度上展現(xiàn)出改善的降低，所述硬度通過(guò)布氏壓痕硬度測(cè)試測(cè)得。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)具有耐劃痕性，以使當(dāng)使用布氏硬度計(jì)壓頭，利用160mN的負(fù)荷，以10μm/秒的速度，沿著制品的表面對(duì)包含光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的制品進(jìn)行長(zhǎng)度至少為100μm的劃刻時(shí)，得到的劃痕具有小于大約10μm的劃痕寬度。在一些實(shí)施方式中，得到的劃痕的劃痕寬度可在以下范圍以及它們之間的所有范圍和子范圍內(nèi)：大約1μm～大約10μm，大約2μm～大約10μm，大約3μm～大約10μm，大約4μm～大約10μm，大約5μm～大約10μm，大約1μm～大約9μm，大約1μm～大約8μm，大約1μm～大約7μm，大約1μm～大約6μm，大約2μm～大約8μm，大約2μm～大約6μm，大約2μm～大約5μm或大約2μm～大約4μm。本文所述的劃痕寬度可由光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的原始和未受干擾的表面測(cè)得。換言之，劃痕寬度不包括任何數(shù)量的由于布氏硬度計(jì)壓頭刺入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)內(nèi)所導(dǎo)致的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)材料的位移而可能在劃痕邊緣周圍累積的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)。在一些實(shí)施方式中，光學(xué)膜減少了(本文所述的)微延展性劃痕和/或橫向劃痕的形成、或?qū)⑺鼈兊男纬山档阶畹?。橫向劃痕是由于微延展性劃痕而形成的裂紋或劃痕。橫向劃痕在長(zhǎng)度上具有類似的延伸，但是從其形成的地方、從微延展性劃痕沿橫向取向形成。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)使正面101具有對(duì)摩擦損壞的耐受性。如本文所用，摩擦損壞包括可能伴隨微延展性劃痕一起出現(xiàn)的破碎、剝落和開(kāi)裂。然而，摩擦損壞可導(dǎo)致劃痕損傷可見(jiàn)性的增加，且會(huì)降低制品的光學(xué)性質(zhì)，即降低透射率和/或增加反射率或增加光散射。而且，摩擦損壞可導(dǎo)致光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的失效。無(wú)意受限于理論，硬度并不是涂層是否會(huì)經(jīng)歷摩擦損壞的唯一指標(biāo)。在一種或多種實(shí)施方式中，當(dāng)使用石榴石砂紙測(cè)試來(lái)進(jìn)行評(píng)估時(shí)，本文所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可展現(xiàn)出耐劃痕性。所述石榴石砂紙測(cè)試旨在重現(xiàn)或模擬當(dāng)本文所述的制品被結(jié)合入例如移動(dòng)電話的移動(dòng)電子裝置時(shí)的日常使用條件。手持150號(hào)石榴石砂紙(由3M提供)對(duì)表面進(jìn)行單次劃擦，然后用肉眼觀察，在本文所述的制品的表面上基本上觀察不到任何劃痕。在一種或多種實(shí)施方式中，具有本文所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的制品還展現(xiàn)出對(duì)劃痕以及由磨損(或多個(gè)接觸事件)形成的其它損壞的耐受性。各種形式的磨損測(cè)試在本領(lǐng)域中是已知的，例如ASTMD1044-99中所規(guī)定的方法，使用由泰伯爾工業(yè)(TaberIndustries)提供的磨損介質(zhì)。可通過(guò)利用不同類型的磨損介質(zhì)、研磨劑的幾何構(gòu)型和運(yùn)動(dòng)、壓力等來(lái)得到與ASTMD1044-99相關(guān)的修改的磨損方法，以提供可重復(fù)的和可測(cè)量的磨損或磨耗軌跡，從而有意義地區(qū)分不同樣品的耐磨性。例如，不同的測(cè)試條件通常適用于軟質(zhì)塑料對(duì)硬質(zhì)無(wú)機(jī)測(cè)試樣品的比較。本發(fā)明的實(shí)施方式所展示的耐劃痕性是通過(guò)在本文中被稱為泰伯爾測(cè)試(TaberTest)的ASTMD1044-99的一個(gè)特定的修改版本來(lái)測(cè)得的，其為主要包含硬質(zhì)無(wú)機(jī)材料的不同樣品之間提供了清晰且可重復(fù)的區(qū)分。這些測(cè)試方法可使微延展性劃痕與上述其它損壞模式組合出現(xiàn)，這取決于進(jìn)行測(cè)試的特定樣品。如本文所用，詞語(yǔ)“泰伯爾測(cè)試”是指使用由泰伯爾工業(yè)提供的泰伯爾線性研磨器5750(TLA5750)和附件、在大約22℃±3℃的溫度和不超過(guò)大約70％的相對(duì)濕度的環(huán)境下進(jìn)行的測(cè)試方法。TLA5750包括具有直徑為6.7mm的研磨頭的CS-17研磨器材料。按照泰伯爾測(cè)試使各樣品發(fā)生磨損，利用霧度和雙向透射分布函數(shù)(BTDF)測(cè)量以及其它方法對(duì)磨損損傷進(jìn)行評(píng)價(jià)。在泰伯爾測(cè)試中，使各樣品磨損的程序包括將TLA5750和一個(gè)平坦的樣品載具置于一個(gè)堅(jiān)硬而平坦的表面上，并將TLA5750和該樣品固定在該表面上。在使各樣品在泰伯爾測(cè)試中發(fā)生磨損前，使用粘合在玻璃上的嶄新的S-14磨刀條對(duì)研磨器材料(CS-17)進(jìn)行表面修整。使用25次循環(huán)/分鐘的循環(huán)速度和1英寸的沖程長(zhǎng)度，在不使用額外增加的負(fù)重(即表面修整過(guò)程中所使用的大約350g的總負(fù)重，這是固定研磨器的紡錘體和筒夾的總負(fù)重)的條件下，對(duì)研磨器進(jìn)行10個(gè)表面修整循環(huán)。然后，該程序包括操作TLA5750使樣品磨損，其中，樣品置于與研磨頭相接觸并承載施加到研磨頭上的負(fù)重的樣品載具中，使用25次循環(huán)/分鐘的循環(huán)速度和1英寸的沖程長(zhǎng)度，且向樣品施加的總負(fù)重為850g(即在紡錘體和筒夾的350g的總負(fù)重以外再施加500g附加負(fù)重)。該程序包括為了重復(fù)性而在各樣品上形成兩個(gè)磨耗軌跡，并且對(duì)各樣品上的兩個(gè)磨損軌跡中每一個(gè)進(jìn)行500次循環(huán)的磨損。在一種或多種實(shí)施方式中，制品的正面101按照上述泰伯爾測(cè)試而受到磨損，制品顯示出大約5％或更低的霧度，該霧度是使用BYK加德納(BYKGardner)提供的霧度計(jì)(商品名：Haze-Gard)在磨損表面上測(cè)得的，在源端口上使用孔，該孔的直徑為8mm。在一些實(shí)施方式中，泰伯爾測(cè)試后測(cè)得的霧度可為大約4％或更低、大約3％或更低、大約2％或更低、大約1％或更低、大約0.8％或更低、大約0.5％或更低、大約0.4％或更低、大約0.3％、大約0.2％或更低、或者大約0.1％或更低。在一種或多種實(shí)施方式中，制品的正面101在經(jīng)過(guò)泰伯爾測(cè)試的磨損后可展現(xiàn)出耐磨性，所述耐磨性通過(guò)光散射測(cè)量測(cè)量。在一種或多種實(shí)施方式中，光散射測(cè)量包括使用RadiantZemaxIS-SATM測(cè)試儀進(jìn)行的雙向反射分布函數(shù)(BRDF)或雙向透射分布函數(shù)(BTDF)測(cè)量。該儀器可靈活地使用反射中任何從垂直至大約85度的入射角作為輸入角度的光散射以及透射中任何從垂直至大約85度的入射角作為輸入角度的光散射進(jìn)行測(cè)量，同時(shí)，還能夠捕獲反射或透射中向2*Pi球面度(反射或折射中的完整半球)內(nèi)輸出的所有散射光。在一種實(shí)施方式中，制品100展現(xiàn)出耐磨性，使用BTDF在垂直入射下進(jìn)行測(cè)量，并在選定的角度范圍內(nèi)對(duì)透射的散射光進(jìn)行分析，例如在大約10°～大約80°的極角以及其間的任何角度范圍內(nèi)?？蓪?duì)角度的完整方位角范圍進(jìn)行分析和整合、或者可選擇具體的方位角的區(qū)間(slice)，例如方位角上從大約0°至90°。在線性磨損的情況中，可使用與磨損方向基本上正交的方位角方向，以增加光學(xué)散射測(cè)量的信噪比。在一種或多種實(shí)施方式中，該制品在經(jīng)過(guò)泰伯爾測(cè)試之后在正面101處測(cè)得的散射光強(qiáng)度可為大約小于大約0.1、大約0.05或更小、大約0.03或更小、大約0.02或更小、大約0.01或更小、大約0.005或更小、或大約0.003或更小(單位為l/球面度)，所述散射光強(qiáng)度的測(cè)試?yán)镁哂?mm孔的RadiantZemaxIS-SA工具進(jìn)行，模式為CCBTDF，以垂直入射進(jìn)行透射，且將單色儀設(shè)定在600nm波長(zhǎng)處，并且在大約15°～大約60°(例如，特定地，為大約20°)的極散射角范圍內(nèi)進(jìn)行評(píng)價(jià)。以垂直入射進(jìn)行透射也可以稱為以0度進(jìn)行透射，其可被儀器軟件表示為180°入射。在一種或多種實(shí)施方式中，可沿著與被泰伯爾測(cè)試磨損的樣品的磨損方向基本上正交的方位角方向?qū)ι⑸涔鈴?qiáng)度進(jìn)行測(cè)量。這些光強(qiáng)數(shù)值也可相當(dāng)于小于散射入大于大約5度、大于大約10度、大于大約30度或大于大約45度的極散射角的入射光強(qiáng)度的大約1％、大約0.5％、大約0.2％或大約0.1％。通常，本文所述的垂直入射下的BTDF測(cè)試與透射霧度測(cè)量緊密相關(guān)，體現(xiàn)在它們都是對(duì)光線透射穿過(guò)樣品(或者，在本發(fā)明的制品的情況中，在使正面101磨損后)后散射的量進(jìn)行測(cè)量。BTDF測(cè)量相比于霧度測(cè)量能夠提供更高的靈敏度以及更詳細(xì)的角度信息。BTDF允許對(duì)形成不同極角度和方位角度的散射進(jìn)行測(cè)量，例如允許我們有選擇性地對(duì)形成基本上與線性泰伯爾測(cè)試中的磨損方向正交的方位角度(這些角度是從線性磨損散射出的光最強(qiáng)的角度)的散射進(jìn)行評(píng)價(jià)。透射霧度基本上是所有進(jìn)入極角大于大約+/-2.5度的整個(gè)半球的通過(guò)垂直入射BTDF測(cè)得的散射光的積分。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可包含一個(gè)或多個(gè)層，如圖1～圖5所示。這些層中的一個(gè)或多個(gè)層可使光學(xué)膜結(jié)構(gòu)具有耐劃痕性，進(jìn)而使制品100具有耐劃痕性，同時(shí)還提供光學(xué)管理功能(例如提供抗反射性質(zhì)和/或無(wú)色透射性質(zhì))。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中最厚的層使光學(xué)膜結(jié)構(gòu)具有耐劃痕性，進(jìn)而使制品具有耐劃痕性?？筛淖児鈱W(xué)膜結(jié)構(gòu)的層的厚度以調(diào)節(jié)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和/或制品的耐劃痕性。附加地或替代地，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的一個(gè)或多個(gè)層可包含特定的材料和/或材料性質(zhì)，以調(diào)節(jié)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和/或制品的光學(xué)性質(zhì)。例如，這種層可包含透明介電材料，例如SiO2、GeO2、Al2O3、Nb2O5、TiO2、Y2O3和其它類似的材料以及它們的組合。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可具有1μm或更厚的厚度。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的厚度可為大約2μm或更厚。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的厚度可在以下所有范圍或它們的子范圍內(nèi)：大約1μm～大約20μm、大約1μm～大約15μm、大約1μm～大約10μm、大約1μm～大約8μm、大約1μm～大約5μm、大約1.5μm～大約20μm、大約2μm～大約20μm、大約2.5μm～大約20μm、大約3μm～大約20μm。在一些實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可具有大約0.5μm～大約5μm或大約1μm～大約3μm范圍內(nèi)的厚度。特定的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)120的厚度可為大約1.1μm、大約1.3μm、大約1.4μm、大約1.5μm、大約1.6μm、大約1.7μm、大約1.8μm、大約1.9μm、大約2.1μm、大約2.2μm、大約2.3μm、大約2.4μm、大約2.5μm、大約2.6μm、大約2.7μm、大約2.8μm、大約2.9μm、大約3.0μm、大約4μm、大約5μm、大約6μm、大約7μm、大約8μm、大約9μm、大約10μm、大約15μm、或大約20μm。根據(jù)一種或多種實(shí)施方式的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可在可見(jiàn)光譜內(nèi)是基本上澄清或透明的。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)維持或降低了制品100的反射率且不包含任何旨在增加制品100的反射率的材料。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)具有大約1.8～2.2范圍內(nèi)的平均折射率。在一些實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)(包括本文所述的第一層和/或第二層)展現(xiàn)出在400nm處測(cè)得的大約小于或等于大約10-4的消光系數(shù)。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可包含以下材料中的一種或多種：含硅的氧化物、含硅的氮化物、含硅的氮氧化物、含鋁的氮化物(例如AlN和AlxSiyN)、含鋁的氮氧化物(例如AlOxNy和SiuAlvOxNy，其中x和y大于0)和含鋁的氧化物。在一種或多種實(shí)施方式中，含鋁的氮氧化物材料可包含不超過(guò)大約60原子％的鋁、不超過(guò)大約20原子％的氧以及不超過(guò)大約40原子％的氮。在一些實(shí)施方式中，含鋁的氮氧化物材料可包含大約45原子％～大約55原子％范圍內(nèi)的量(例如大約50原子％)的鋁、大約12原子％～大約20原子％范圍內(nèi)的量(例如大約15原子％～大約17原子％)的氧、和大約30原子％～大約35原子％范圍內(nèi)的量(例如大約32原子％或大約33原子％)的氮。在一些例子中，可改變含鋁的氮氧化物中氧的量以提供所需的結(jié)晶度或晶體粒度(粒度范圍)。在一些實(shí)施方式中，可將晶體粒度限制為小于大約50nm、小于大約20nm或小于大約10nm。在一些例子中，晶體粒度可在大約4nm～大約8nm的范圍內(nèi)。可控制氮的量以提供所需的硬度，所述硬度通過(guò)布氏壓痕硬度測(cè)試測(cè)得。氮的量相對(duì)于氧的量的增加可提供含鋁的氮氧化物層，進(jìn)而提供包含該鋁的氮氧化物層的制品，它們的硬度比包含氮的量少于氧的量的層或制品的硬度更大。另外，氮相對(duì)于氧的量會(huì)改變折射率，進(jìn)而會(huì)影響該制品的透射和色偏?？蓪⑸鲜鰧?duì)組成的改變應(yīng)用至包含氧和/或氮的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)所使用的任何材料中。在一種或多種實(shí)施方式中，SiuAlvOxNy包含(u+v)＝1且(x+y)＝1的組成。在一種或多種實(shí)施方式中，AlOxNy包含x+y＝1且x<0.5的組成。合適的含鋁的氧化物的一個(gè)例子包含Al2O3。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)包含單一層，所述單一層包含AlOxNy或SiuAlvOxNy。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可包含AlOxNy或SiuAlvOxNy，其中x可在大約0～大約1的范圍內(nèi)。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)還可包含其它金屬氧化物、金屬氮化物、金屬氮氧化物、金屬碳化物、金屬硼化物、類金剛石碳材料和/或它們的組合。除了鋁和硅以外的示例性的金屬包括B、Ti、V、Cr、Y、Zr、Nb、Mo、Sn、Hf、Ta和W。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可包含AlN、AlOxNy、SiAlN、SiuAlvOxNy和氧化鋁中的至少一種和/或氧化硅。可選地，包含AlN和氧化鋁的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可不含含鋁的氮氧化物。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可包含AlN和含鋁的氮氧化物?？蛇x地，包含AlN和含鋁的氮氧化物的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可不含含鋁的氧化物。在特定的實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可包含鋁的氮氧化物，可改變其中氧和氮的量，以使含鋁的氧化物、AlN和含鋁的氮氧化物這三種材料都存在于光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可包含硅，以使光學(xué)膜結(jié)構(gòu)包含SiO2、SiOxNy、AlxSiyN、SiuAlvOxNy和Si3N4中的一種或多種，且可改變氧、氮、硅和/或鋁的量以提供這些材料中的任一種、多種或全部。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中所使用的材料可以是介電的(即不導(dǎo)電的)。例如，在一些實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可基本上由介電材料組成。在其它實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的特征在于其可以是無(wú)機(jī)的，其基本上由無(wú)機(jī)材料組成(即基本上不含有機(jī)材料)。在一些例子中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可不含IR反射材料或?qū)?例如基本上不含金屬層)，并且/或不含熱解沉積材料。在其它例子中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可基本上的不含透明導(dǎo)電的氧化物材料。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可基本上不含微粒材料。在一種或多種實(shí)施方式中，可對(duì)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中所使用的材料進(jìn)行選擇以使光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的光學(xué)性質(zhì)最優(yōu)化。例如，可在光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中使用Al2O3、SiO2、SiOxNy、SiuAlvOxNy和AlOxNy以將制品從制品的正面101的反射色坐標(biāo)和/或透射色坐標(biāo)隨著視角從垂直入射(即0度)變?yōu)閮A斜入射的變化降到最低。傾斜入射可在大于0度～小于90度的范圍內(nèi)(例如10度或更大、20度或更大、30度或更大、40度或更大、50度或更大、60度或更大、70度或更大、75度或更大、80度或更大、85度或更大、86度或更大、87度或更大、88度或更大、89度或更大或89.5度或更大)。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，可調(diào)節(jié)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中氧和/或氮的量或光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的一個(gè)或多個(gè)層中氧和/或氮的量，以使光學(xué)膜結(jié)構(gòu)在大約500nm的波長(zhǎng)處具有大于1.9的折射率。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，可調(diào)節(jié)含氧量和/或含氮量，以使光學(xué)膜結(jié)構(gòu)或光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的一個(gè)或多個(gè)層在大約500nm的波長(zhǎng)處的折射率為1.92或更大、1.94或更大、1.96或更大、1.98或更大、2.0或更大、2.2或更大、2.4或更大或2.5或更大?？蓪?duì)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中特定層的含氧量和/或含氮量進(jìn)行調(diào)節(jié)。例如，可按照上述方式對(duì)含有AlOxNy、SiOxNy和/或AlxSiyN的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的層的含氧量和/或含氮量進(jìn)行調(diào)節(jié)。在一種或多種實(shí)施方式中，可對(duì)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中所使用的材料進(jìn)行選擇以使光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的耐劃痕性最優(yōu)化。例如，Si3N4和/或AlN可包含至少50重量％的用于光學(xué)膜結(jié)構(gòu)120中的材料。Si3N4和/或AlN可選擇性地包含55重量％或更多、60重量％或更多、65重量％或更多、70重量％或更多或75重量％或更多的用于光學(xué)膜結(jié)構(gòu)120中的材料。附加地或替代地，可改變含氧量以調(diào)節(jié)硬度，并且/或者可使用摻雜劑和合金以改變光學(xué)膜結(jié)構(gòu)120的潤(rùn)滑性。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)所選用的材料可帶來(lái)離子擴(kuò)散屏障性質(zhì)。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可提供針對(duì)鈉離子和/或鉀離子從基材110擴(kuò)散入設(shè)置在基材上的其它膜或?qū)?例如光學(xué)膜結(jié)構(gòu)自身或任何透明導(dǎo)電氧化物層、抗反射層或其它這種層)中的擴(kuò)散屏障。在一種或多種實(shí)施方式種，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可包含具有小顆粒多晶結(jié)構(gòu)的AlN。在一種或多種具體實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可包含具有無(wú)定形和/或微晶結(jié)構(gòu)的AlN。無(wú)意受限于理論，據(jù)信，在光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中包含至少一些無(wú)定形結(jié)構(gòu)帶來(lái)了各向同性機(jī)械性質(zhì)，其可防止在光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中形成裂紋，以及/或者使來(lái)自裂紋或由裂紋導(dǎo)致的作用力的能量消散。在圖2所圖示的實(shí)施方式中，制品200包含設(shè)置在基材110的相反主表面112、114中的一個(gè)上的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)220。圖2中所示的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)220包含表面221、第一層222和第二層224。第一層222包含第一亞層226和(具有第二亞層表面229的)第二亞層228，以使第一亞層226設(shè)置在基材110與第二亞層228之間。在一種或多種實(shí)施方式中，第一層222可包含含鋁的氧化物、含鋁的氮氧化物、AlN或它們的組合，而第二層224可包含透明介電材料，例如SiO2、GeO2、Al2O3、Nb2O5、TiO2、Y2O3和其它類似的材料以及它們的組合。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，第一層222可包含Al2O3、AlN、AlOxNy、SiAlN、SiuAlvOxNy或它們的組合。在一種變化形式中，第一亞層226可包含Al2O3。在另一種變化形式中，第一亞層可包含AlOxNy。在另一種變化形式中，第二亞層228包含AlN。在一種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)220包含第一層222和第二層224，第一層222包含第一亞層226和第二亞層228，第一亞層226包含Al2O3，第二亞層228包含AlN；第二層224包含透明介電材料(例如SiO2、GeO2、Al2O3、Nb2O5、TiO2、Y2O3和其它類似的材料以及它們的組合)。在另一種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)220包含第一層222和第二層224，第一層222包含第一亞層226和第二亞層228，第一亞層226包含AlOxNy，第二亞層228包含AlN；第二層224包含透明介電材料(例如SiO2、GeO2、Al2O3、Nb2O5、TiO2、Y2O3和其它類似的材料以及它們的組合)。第二層的硬度可在大約7GPa～大約10GPa的范圍內(nèi)，所述硬度通過(guò)布氏壓痕硬度測(cè)試測(cè)得。在第二層224中使用Al2O3的實(shí)施方式中，可改變氮?dú)夂脱鯕獾臐舛纫孕纬葾l2O3、AlOxNy和/或AlN來(lái)形成光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的層。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，第二亞層228可包含AlN、AlOxNy、SiAlN、SiuAlvOxNy或它們的組合，且第二亞層228比第一亞層226和/或第二層224要厚或厚得多。在一種或多種實(shí)施方式中，第二亞層228的厚度比第一亞層226和第二層224的厚度和還要厚或厚得多。在一種變化形式中，第二亞層228可具有1μm或更厚的厚度。例如，第二亞層228的厚度可在大約1μm～大約3μm的范圍內(nèi)，更具體而言，可在大約2μm～大約3μm的范圍內(nèi)。特定的實(shí)施方式可包含第二亞層228，第二亞層228的厚度可為大約1.1μm或更厚、大約1.2μm或更厚、大約1.3μm或更厚、大約1.4μm或更厚、大約1.5μm或更厚、大約1.6μm或更厚、大約1.7μm或更厚、大約1.8μm或更厚、大約1.9μm或更厚、大約2μm或更厚、大約2.1μm或更厚、大約2.2μm或更厚、大約2.3μm或更厚、大約2.4μm或更厚、大約2.5μm或更厚、大約2.6μm或更厚、大約2.7μm或更厚、大約2.8μm或更厚、大約2.9μm或更厚或大約3μm或更厚。在第二亞層228包含AlN的實(shí)施方式中，第二亞層的厚度可為大約2μm或更厚。例如，第二亞層的厚度可為大約2.2μm或更厚、大約2.3μm或更厚、大約2.4μm或更厚、大約2.5μm或更厚、大約2.6μm或更厚、大約2.7μm或更厚、大約2.8μm或更厚、大約2.9μm或更厚，或大約3μm或更厚。第一亞層226和第二層224的示例性的厚度示于本文的實(shí)施例中，且可以改變這些厚度以提供本文所述的光學(xué)性質(zhì)。在一些實(shí)施方式中，第二層224可具有小于大約200nm的厚度(例如在以下范圍內(nèi)：大約1nm～大約200nm、大約10nm～大約200nm、大約20nm～大約200nm、大約40nm～大約200nm、大約50nm～大約200nm、大約60nm～大約200nm、大約1nm～大約180nm、大約1nm～大約160nm、大約1nm～大約140nm、大約1nm～大約120nm、大約1nm～大約100nm或大約10nm～大約150nm)。在一些例子中，第二層224可以是光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的最外層，而在一些情況中，其可以是本文所述的制品的最外層(進(jìn)而形成制品的正面101)。在一些情況中，第二層224降低了正面101受到磨損后的光散射，且降低了任何磨損損壞的可見(jiàn)性。無(wú)意受限于理論，第二層224可包含下文中詳述的低折射率材料，其降低了光散射，進(jìn)而降低了劃痕或損傷的可見(jiàn)性。在一些實(shí)施方式中，第二層224與光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中的其它層相比可具有降低的硬度，并可抑制一些損傷模式，例如可能與單一接觸事件或多次接觸事件的劃痕損傷有關(guān)的摩擦破裂。在一些實(shí)施方式中，使用更厚的第二亞層228(例如具有大于大約5μm或大于大約10μm的厚度)提供了增強(qiáng)的光學(xué)性質(zhì)。例如，在一些例子中，使用更厚的亞層228降低或消除了角同色異譜。角同色異譜導(dǎo)致了當(dāng)視角為傾斜入射時(shí)，透射或反射中出現(xiàn)可感知的色彩變化。在光學(xué)膜的一些設(shè)計(jì)中，反射譜或透射譜在可見(jiàn)光譜內(nèi)包含振幅。在某些條件下，當(dāng)視角從垂直入射變?yōu)閮A斜入射時(shí)，這些振幅會(huì)發(fā)生位移。當(dāng)光源的線寬很窄時(shí)(例如F02光源中光譜分量的線寬)，振幅的這種位移以色彩變化(在透射和反射中)的形式更易被感知(進(jìn)而存在角同色異譜)。當(dāng)光源的線寬更寬時(shí)(例如D65光源中光譜分量的線寬)，振幅的這種位移以色彩變化(在透射和反射中)的形式不易被感知或不被感知(進(jìn)而降低或消除了角同色異譜)。無(wú)意受限于理論，據(jù)信，使用更厚的第二亞層至少降低或甚至消除了在所有或特定光源下的角同色異譜。這種光源可包括CIE確定的標(biāo)準(zhǔn)光源，例如A光源(代表鎢絲照明設(shè)備)、B光源(日光模擬光源)、C光源(日光模擬光源)、D系列光源(代表自然日光)和F系列光源(代表各種類型的熒光照明設(shè)備)。在特定的實(shí)施方式中，使用更厚的第二亞層可降低或消除F02光源下的角同色異譜。當(dāng)視角相對(duì)于垂直入射為以下范圍及它們之間的所有范圍和子范圍內(nèi)的傾斜入射時(shí)，通過(guò)使用更厚的第二亞層，角同色異譜可被降低或甚至消除：大約0度～大約80度、大約0度～大約75度、大約0度～大約70度、大約0度～大約65度、大約0度～大約60度、大約0度～大約55度、大約0度～大約50度、大約0度～大約45度、大約0度～大約40度、大約0度～大約35度、大約0度～大約30度、大約0度～大約25度、大約0度～大約20度、大約0度～大約15度、大約5度～大約80度、大約5度～大約80度、大約5度～大約70度、大約5度～大約65度、大約5度～大約60度、大約5度～大約55度、大約5度～大約50度、大約5度～大約45度、大約5度～大約40度、大約5度～大約35度、大約5度～大約30度、大約5度～大約25度、大約5度～大約20度、大約5度～大約15度。光學(xué)膜可在相對(duì)于垂直入射為大約0度～大約80度范圍內(nèi)的所有傾斜入射下展現(xiàn)出降低的角同色異譜。第一亞層226的折射率可在大約1.45～大約1.8的范圍內(nèi)。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，第一亞層226的折射率可在大約1.6～大約1.75的范圍內(nèi)。例如，第一亞層226的折射率可包含1.45、1.46、1.47、1.48、1.49、1.5、1.51、1.52、1.53、1.54、1.55、1.56、1.57、1.58、1.59、1.60、1.61、1.62、1.63、1.64、1.65、1.66、1.67、1.68、1.69、1.70、1.71、1.72、1.73、1.74、1.76、1.77、1.78、1.79、1.8以及它們之間的所有范圍和子范圍，其可存在于沿著第一亞層的位置。第二亞層228的折射率可在大約1.8～大約2.2的范圍內(nèi)。在一種或多種實(shí)施方式中，第二亞層的折射率可在大約2.0～大約2.15的范圍內(nèi)。例如第二亞層228的折射率可包含1.8、1.82、1.84、1.86、1.88、1.90、1.92、1.94、1.96、1.98、1.99、2.0、2.02、2.04、2.06、2.08、2.1、2.12、2.14、2.15、2.16、2.18、2.2以及它們之間的所有范圍或子范圍，其可存在于沿著第二亞層的位置。第二層224的折射率可在大約1.4～大約1.6的范圍內(nèi)(例如大約1.46±0.03)。在特定的實(shí)施方式中，第二層224可具有在大約1.45～大約1.55范圍內(nèi)的折射率。例如，第二層224的折射率可包含1.4、1.42、1.44、1.46、1.48、1.50、1.52、1.54、1.56、1.58、1.6以及它們之間的所有范圍和子范圍，其可存在于沿著第二層的位置。圖7大致圖示了圖2所示的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)220的光學(xué)性質(zhì)。圖中，x軸上的厚度值顯示了光學(xué)膜結(jié)構(gòu)220在遠(yuǎn)離基材110的方向上的厚度。y軸上提供了光學(xué)膜結(jié)構(gòu)220的折射率值，顯示了折射率沿著光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的厚度發(fā)生的變化。圖7的圖并未考慮基材110(或任何其它位于基材110與光學(xué)膜結(jié)構(gòu)220之間的層)或空氣(或任何其它設(shè)置于光學(xué)膜結(jié)構(gòu)220之上的層)的折射率?；?10與第一亞層226之間的界面以標(biāo)記600表示，第一亞層226與第二亞層228之間的界面以標(biāo)記610表示，第二亞層228與第二層224之間的界面以標(biāo)記620表示，而第二層224與空氣之間的界面以標(biāo)記630表示。如圖7所示，第一亞層226與第二層224的折射率比第二亞層228的折射率小。在一種具體的實(shí)施方式中，第一亞層226具有大約1.75的折射率，第二亞層具有大約2.1的折射率，而第二層224具有大約1.5的折射率。圖7中，第二亞層228的厚度比第一亞層226和第二層224的厚度厚。在圖3所示的實(shí)施方式中，制品300包含設(shè)置在基材110的相反主表面112、114中的一個(gè)上的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)320。圖3所示的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)320包含第一層322和第二層324。第一層322包含第一亞層326、第二亞層328和第三亞層330。在圖3所示的實(shí)施方式中，在第一層320中，第二亞層328位于第一亞層326與第三亞層330之間。第一亞層326設(shè)置在基材110與第二亞層328之間，而第三亞層330設(shè)置在第二亞層328與第二層324之間。在一種或多種實(shí)施方式中，第一層322可包含含鋁的氧化物、含鋁的氮氧化物、AlN或它們的組合，且還可包含透明介電材料(例如SiO2、GeO2、Al2O3、Nb2O5、TiO2、Y2O3和其它類似的材料以及它們的組合)。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，第一層322可包含Al2O3、AlN、AlOxNy或它們的組合，且還可包含透明介電材料(例如SiO2、GeO2、Al2O3、Nb2O5、TiO2、Y2O3和其它類似的材料以及它們的組合)。第二層324可包含透明介電材料(例如SiO2、GeO2、Al2O3、Nb2O5、TiO2、Y2O3和其它類似的材料以及它們的組合)。在一種變化形式中，第一亞層326可包含AlN，第二亞層328可包含SiO2，而第三亞層330可包含AlN。在另一種變化形式中，第一亞層326可包含AlN，第二亞層328可包含Al2O3，而第三亞層330可包含AlN。在第二亞層328和第二層324中使用Al2O3的實(shí)施方式中，可改變氮?dú)夂脱鯕獾臐舛纫孕纬葾l2O3或AlN來(lái)形成光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的層。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，第一亞層326和第三亞層330各自的厚度或它們的厚度之和可比第二亞層328或第二層324的厚度要厚或厚得多。在一種或多種實(shí)施方式中，第一亞層326和第三亞層330各自的厚度或它們的厚度之和可比第二亞層328與第二層324的厚度之和還要厚或厚得多。在一種變化形式中，第一亞層326和/或第三亞層330各自的厚度或它們的厚度之和可為大約1μm或更厚。例如，第一亞層326和/或第三亞層330各自的厚度或它們的厚度之和可為大約1.1μm或更厚、大約1.2μm或更厚、大約1.3μm或更厚、大約1.4μm或更厚、大約1.5μm或更厚、大約1.6μm或更厚、大約1.7μm或更厚、大約1.8μm或更厚、大約1.9μm或更厚，或大約2μm或更厚。在第一亞層326和/或第三亞層330包含AlN的實(shí)施方式中，這些亞層326、328各自的厚度或它們的厚度之和可為大約2μm或更厚。例如，第一亞層326和/或第三亞層328各自的厚度或它們的厚度之和可為大約2.1μm或更厚、大約2.2μm或更厚、大約2.3μm或更厚、大約2.4μm或更厚、大約2.5μm或更厚、大約2.6μm或更厚、大約2.7μm或更厚、大約2.8μm或更厚、大約2.9μm或更厚，或大約3μm或更厚。在一種或多種實(shí)施方式中，第一亞層326的厚度可與第三亞層330的厚度相同或不同。第一亞層326的厚度可比第三亞層330的厚度厚或薄。在一種或多種實(shí)施方式中，第二亞層328的厚度和第二層324的厚度可以相同。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)320具有厚/薄/厚/薄的厚度區(qū)段，其中，第一和第三亞層326、330是厚的，而第二亞層328和第二層324相對(duì)于第一和第三亞層326、330而言是薄的。第一亞層326的折射率可在大約1.7～大約2.1的范圍內(nèi)。例如，第一亞層326的折射率可包含1.70、1.72、1.74、1.76、1.78、1.80、1.82、1.84、1.86、1.88、1.90、1.92、1.94、1.96、1.98、2.0、2.1以及它們之間的所有范圍和子范圍。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，折射率與第一亞層326的硬度的增大相關(guān)。第三亞層330的折射率可在大約1.7～大約2.1的范圍內(nèi)。在一種或多種實(shí)施方式中，第三亞層330的折射率可在大約2.0～大約2.1的范圍內(nèi)。例如，第三亞層330的折射率可包含1.70、1.72、1.74、1.76、1.78、1.80、1.82、1.84、1.86、1.88、1.90、1.92、1.94、1.96、1.98、2.0、2.1以及它們之間的所有范圍和子范圍。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，折射率與第一亞層326的硬度的增大相關(guān)。第二亞層328的折射率可在大約1.45～大約1.8的范圍內(nèi)。在一種或多種實(shí)施方式中，第二亞層328的折射率可在大約1.65～大約1.75的范圍內(nèi)。例如，第二亞層328的折射率可為1.45、1.46、1.48、1.50、1.52、1.54、1.56、1.58、1.60、1.62、1.64、1.65、1.66、1.67、1.68、1.69、1.70、1.71、1.72、1.73、1.74、1.75、1.76、1.78、1.8以及它們之間的所有范圍和子范圍。第二層324的折射率可在大約1.45～大約1.8的范圍內(nèi)。在一種或多種實(shí)施方式中，第二亞層328的折射率可在大約1.45～大約1.55的范圍內(nèi)。例如，第二亞層328的折射率可為1.45、1.46、1.47、1.48、1.49、1.50、1.51、1.52、1.53、1.54、1.55、1.56、1.58、1.60、1.62、1.64、1.65、1.66、1.67、1.68、1.69、1.70、1.71、1.72、1.73、1.74、1.75、1.76、1.78、1.8以及它們之間的所有范圍和子范圍。圖8大致圖示了圖3所示的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)320的光學(xué)性質(zhì)。圖中，x軸上的厚度值顯示了光學(xué)膜結(jié)構(gòu)320在遠(yuǎn)離基材110的方向上的厚度。y軸上提供了光學(xué)膜結(jié)構(gòu)320的折射率值，顯示了折射率沿著光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的厚度發(fā)生的變化。圖8中，該圖并未考慮基材110(或任何其它位于基材110與光學(xué)膜結(jié)構(gòu)320之間的層)或空氣(或任何其它設(shè)置于光學(xué)膜結(jié)構(gòu)320之上的層)的折射率。基材110與第一亞層326之間的界面以標(biāo)記700表示，第一亞層326與第二亞層328之間的界面以標(biāo)記710表示，第二亞層328與第三亞層330之間的界面以標(biāo)記720表示，第三亞層330與第二層324之間的界面以標(biāo)記730表示，而第二層324與空氣之間的界面以標(biāo)記740表示。如圖8所示，第一亞層326和第三亞層330的折射率比第二亞層328和第二層324的折射率大。在圖8所示的實(shí)施方式中，所示的第一亞層326和第三亞層330的折射率彼此相等，而所示的第二亞層328和第二層324的折射率彼此相等。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，第一亞層326的折射率可與第三亞層330的折射率不同，而第二亞層328的折射率可與第二層324的折射率不同。圖8中，所示的第一和第三亞層326、330的厚度比第二亞層328和第二層324的厚度厚。另外，所示的第三亞層330的厚度比第一亞層324的厚度厚；但是第一亞層324也可能具有比第三亞層330更厚的厚度。在圖4所示的實(shí)施方式中，制品400包含設(shè)置在基材110的相反主表面112、114中的一個(gè)上的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)420。圖4所示的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)420包含第一層422和第二層424。第一層422包含含硅的氧化物、含硅的氮氧化物、含硅的氮化物、含鋁的氧化物、含鋁的氮氧化物(例如AlOxNy和SiuAlvOxNy)、含鋁的氮化物(例如AlN和AlxSiyN)或它們的組合。第二層424可包含透明介電材料(例如SiO2、GeO2、Al2O3、Nb2O5、TiO2、Y2O3和其它類似的材料以及它們的組合)。第一層422可包含含氧量梯度、含氮量梯度、含硅量梯度和含鋁量梯度以及它們的各種組合之中的至少一項(xiàng)。如本文所用，術(shù)語(yǔ)“梯度”是指元素的原子％在層的組成中的變化。元素的原子％的變化可在層的多個(gè)亞層之間發(fā)生。在一些例子中，可使用不超過(guò)10、20、30、40、50、60、70、80、90、100、110、120或甚至130個(gè)同一種元素彼此之間具有不同的原子％的亞層來(lái)形成一個(gè)具有梯度的層。在包含氧梯度的層中，在層與基材110的界面處或接近該界面處，層組成中氧的量(原子％)可與在層與另一個(gè)層(例如第一層和第二層)之間的界面處或接近該界面處以及它們之間的其它區(qū)域內(nèi)的層的組成中氧的量(原子％)有所不同。在一種或多種實(shí)施方式中，組成梯度可包括硅/鋁組成梯度，其中，硅和鋁的原子％沿著第一層的厚度各自獨(dú)立地或相互關(guān)聯(lián)地變化。在其它實(shí)施方式中，組成梯度可包括氧/氮組成梯度，其中，氧和氮的原子％沿著第一層的厚度各自獨(dú)立地或相互關(guān)聯(lián)地變化。在一種或多種實(shí)施方式中，基材110與第一層422之間的界面處或接近該界面處的氧:氮的比值可大于第一層422與第二層424之間的界面處或接近該界面處的氧:氮的比值。例如，在基材110與第一層422之間的界面處或接近該界面處，第一層422中可以存在很少的氮或不存在氮，并且/或者在第一層422與第二層424之間的界面處或接近該界面處，第一層422中可以存在很少的氧或不存在氧。在一種或多種實(shí)施方式中，基材110與第一層422之間的界面處或接近該界面處的硅:鋁的比值可大于第一層422與第二層424之間的界面處或接近該界面處的硅:鋁的比值。例如，在基材110與第一層422之間的界面處或接近該界面處，第一層422中可以存在很少的鋁或不存在鋁，并且/或者在第一層422與第二層424之間的界面處或接近該界面處，第一層422中可以存在很少的硅或不存在硅。在一種或多種實(shí)施方式中，含氧量梯度和/或含氮量的梯度可通過(guò)控制沉積過(guò)程中(例如通入將光學(xué)膜結(jié)構(gòu)沉積于基材之上的沉積室中)通入的氧氣和/或氮?dú)獾牧魉賮?lái)控制。為了增加氧或氮的含量、可提高氧氣或氮?dú)獾牧魉佟Ｔ谝恍?shí)施方式中，鋁和/或硅的梯度可以通過(guò)控制導(dǎo)向鋁和/硅的原材料上的功率來(lái)控制(例如在使用濺射法形成光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的場(chǎng)合，控制導(dǎo)向鋁和/或硅濺射靶上的功率)。為了增加鋁和硅的含量，可提高施加于鋁和/硅的原材料上的功率。第一層422中的含氧量和/或含硅量可沿著第一層422的厚度t，朝著厚度t遠(yuǎn)離基材110的方向降低，如圖6A所示。含氧量梯度和/或含硅量梯度可沿著第一層422的整個(gè)厚度t延伸。在另一種變化形式中，含氧量梯度和/或含硅量梯度可沿著第一層422的厚度t的一部分延伸，而第一層422的剩余部分則可不包含含氧量梯度和/或含硅量梯度，進(jìn)而可具有恒定的含氧量和/或含硅量(可包括無(wú)氧和/或硅的情況)。例如，含氧量梯度和/或含硅量梯度可持續(xù)至光學(xué)膜結(jié)構(gòu)與基材110之間的界面處、或基材110與包含含氧量梯度和/或含硅量梯度的層之間的任何其他層處，例如將在下文詳述的中間層?；蛘撸趿刻荻群?或含硅量梯度可在距離基材110或設(shè)置于基材110與第一層422之間的中間層一段距離處停止。在一種或多種實(shí)施方式中，第一層422的含氧量和/或含硅量可在光學(xué)膜結(jié)構(gòu)420與基材110之間的界面處最高，且在至少接近第一層422與第二層424之間的界面處最低。在一種或多種實(shí)施方式中，第一層422的組成可取決于第一層422的含氧量和/或含硅量。例如，第一層422可在第一層422毗鄰基材110的區(qū)域內(nèi)具有最高的含氧量和/或含硅量。第一層422可在第一層422毗鄰第二層424的區(qū)域內(nèi)包含最低的含氧量和/或含硅量，例如圖5所示的實(shí)施方式。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，第一層422毗鄰基材110的區(qū)域可包含最高的含氧量且無(wú)含氮量(即y＝0)。在一種這樣的特定的實(shí)施方式中，第一層422毗鄰基材110的區(qū)域可包含Al2O3、SiO2或它們的組合。在一種或多種實(shí)施方式中，第一層422可包含含鋁量梯度和/或含氮量梯度。第一層422中的含鋁量和/或含氮量可沿著第一層422的厚度t，朝著厚度t遠(yuǎn)離基材110的方向增加，如圖6B所示。含鋁量梯度和/或含氮量梯度可沿著第一層422的整個(gè)厚度t延伸。在另一種變化形式中，含鋁量梯度和/或含氮量梯度可沿著第一層422的厚度t的一部分延伸，而第一層422的剩余部分則可不包含含鋁量梯度和/或含氮量梯度，進(jìn)而可具有恒定的含鋁量和/或含氮量(可包括無(wú)鋁和/或氮的情況)。例如，含鋁量梯度和/或含氮量梯度可持續(xù)至光學(xué)膜結(jié)構(gòu)與基材110之間的界面處、或基材110與包含含鋁量梯度和/或含氮量梯度的層之間的任何其他層處，例如將在下文詳述的中間層?；蛘?，含鋁量梯度和/或含氮量梯度可在距離基材110或設(shè)置于基材110與第一層422之間的中間層一段距離處停止。在一種或多種實(shí)施方式中，第一層422的含鋁量和/或含氮量可在光學(xué)膜結(jié)構(gòu)420與基材110之間的界面處最低，且在接近第一層422與第二層424之間的界面處最高。圖6B顯示了第一層424的相對(duì)含鋁量和/或含氮量。在一種或多種實(shí)施方式中，第一層422包含氧化硅、氮氧化硅、氮化硅、含鋁的氧化物、含鋁的氮氧化物(例如AlOxNy和SiuAlvOxNy)或含鋁的氮化物(例如AlN和AlxSiyN)，這取決于第一層422的含硅量、含氧量、含鋁量和/或含氮量。例如，第一層422可在第一層422毗鄰第二層424的區(qū)域內(nèi)包含最低的含硅量和/或含氧量，如圖6A所示。如圖6A所示，第一層422可在第一層422毗鄰基材110的區(qū)域內(nèi)包含最高的含硅量和/或含氧量。圖4A顯示了一種實(shí)施方式，其中，第一層422包含硅梯度、鋁梯度、氧梯度和氮梯度。在圖4A中，含硅量和含氧量沿著厚度、朝著遠(yuǎn)離基材110的方向降低，而含鋁量和含氮量沿著厚度、朝著遠(yuǎn)離基材110的方向升高。硅、鋁、氧和氮的相對(duì)量示于圖4A；但是應(yīng)當(dāng)注意的是，硅、鋁、氧和氮的量的變化可以不是線性或恒定的，且SiO2、SiOxNy、SiuAlvOxNy、AlxSiyN和AlN的混合物可存在于第一層422的各種厚度中。在毗鄰基材110的區(qū)域與毗鄰第二層424的區(qū)域之間，第一層422可包含AlOxNy，其中x和y取決于存在的氮的量，其可隨著含氮量沿著厚度t、朝著遠(yuǎn)離基材110的方向的升高而改變。而且，在毗鄰基材110的區(qū)域與毗鄰第二層424的區(qū)域之間，第一層422可包含SiuAlvOxNy(其中(u+v)＝1且(x+y)＝1)或SiOxNy，其中x和y取決于存在的氮和/或鋁的量，其可隨著含氮量和/或含鋁量沿著厚度t、朝著遠(yuǎn)離基材110的方向的升高而改變。在另一種實(shí)施方式中，第一層包含SiuAlvOxNy和/或SiOxNy，其中，在第一層422沿著厚度t的至少一個(gè)區(qū)域內(nèi)，x或y可等于0。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，第一層422毗鄰基材110的區(qū)域可無(wú)含氮量且包含最高的含氧量(即y＝0)。在一種這樣的特定的實(shí)施方式中，第一層422毗鄰基材110的區(qū)域可包含SiO2。在另一種特定的實(shí)施方式中，第一層422毗鄰第二層424的區(qū)域可包含最高的含氮量和/或最高的含鋁量、以及最低的含氧量和/或最低的含硅量。在這類實(shí)施方式中，第一層422毗鄰第二層424的區(qū)域可包含AlN、Si3N4或AlxSiyN。在一種或多種實(shí)施方式中，第一層422包含毗鄰基材110的SiO2、或可富含硅和/或氧以及可以鋁和/或氮不足或缺乏鋁和/或氮。在一種或多種實(shí)施方式中，第一層422包含毗鄰第二層424的AlN、或可富含鋁和/或氮以及可以硅和/或氧不足或缺乏硅和/或氧。在另一種實(shí)施方式中，第一層包含AlOxNy，其中，在第一層422沿著厚度t的至少一個(gè)區(qū)域內(nèi)，y可等于0。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，第一層422毗鄰基材110的區(qū)域可包含最高的含氧量且無(wú)含氮量(即y＝0)。在一種這類特定的實(shí)施方式中，第一層422毗鄰基材110的區(qū)域可包含Al2O3。在一種或多種實(shí)施方式中，可調(diào)節(jié)層422的組成以使反射色彩點(diǎn)隨著視角從垂直入射(即0度)變?yōu)閮A斜入射的改變降到最低。在這類實(shí)施方式中，對(duì)層422的組成進(jìn)行分級(jí)，以使第一層422與第二層424之間的界面附近的組成、第一層包含AlN、AlxSiyN、Si3N4、SiuAlvOxNy(其中x＜0.1)或AlOxNy(其中x＜0.1)。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，第一層422的厚度比第二層424的厚度厚或厚得多。在一種變化形式中，第一層422可具有1μm或更厚的厚度。例如，第一層422的厚度可為1.1μm或更厚、1.2μm或更厚、1.3μm或更厚、1.4μm或更厚、1.5μm或更厚、1.6μm或更厚、1.7μm或更厚、1.8μm或更厚、1.9μm或更厚、2μm或更厚、2.1μm或更厚、2.2μm或更厚、2.3μm或更厚、2.4μm或更厚、2.5μm或更厚、2.6μm或更厚、2.7μm或更厚、2.8μm或更厚、2.9μm或更厚、3μm或更厚。在圖4所示的實(shí)施方式中，第一層422的折射率可在大約1.6～大約2.1的范圍內(nèi)。例如，第一層422的折射率可包含1.6、1.62、1.64、1.66、1.68、1.70、1.72、1.74、1.76、1.78、1.80、1.82、1.84、1.86、1.88、1.90、1.92、1.94、1.96、1.98、2.0、2.1以及它們之間的所有范圍和子范圍。第二層424的折射率可在大約1.45～大約1.55的范圍內(nèi)。例如，第二層424的折射率可包含1.45、1.46、1.47、1.48、1.49、1.50、1.51、1.52、1.53、1.54、1.55以及它們之間的所有范圍和子范圍。如下文詳述，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)420的第一層422可具有折射率梯度。在第二層424中使用Al2O3的實(shí)施方式中，可改變氮?dú)夂脱鯕獾臐舛纫孕纬扇魏蜛l2O3、AlOxNy和/或AlN來(lái)形成光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的層。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)420可不包含第二層424，而只包含第一層422。圖9大致圖示了圖4所示的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)420的光學(xué)性質(zhì)。圖中，x軸上的厚度值顯示了光學(xué)膜結(jié)構(gòu)420在遠(yuǎn)離基材110的方向上的厚度。y軸上提供了光學(xué)膜結(jié)構(gòu)420的折射率值，顯示了折射率沿著光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的厚度發(fā)生的變化。圖9中，該圖并未考慮基材110(或任何其它位于基材110與光學(xué)膜結(jié)構(gòu)420之間的層)或空氣(或任何其它設(shè)置于光學(xué)膜結(jié)構(gòu)420之間的層)的折射率。基材110與第一層422之間的界面以標(biāo)記800表示，第一層422與第二層424之間的界面以標(biāo)記810表示，第二層424與空氣之間的界面以820表示。如圖9所示，第一層422的折射率沿著厚度朝著遠(yuǎn)離基材110(或基材-第一層的界面800)的方向升高。在一種或多種實(shí)施方式中，折射率隨著第一層422中的含氧量改變。圖9中，第一層422中折射率比第二層424的折射率高的部分占第一層422的更大比例。換言之，第一層422的更大一部分具有比第二層424更高的折射率。圖9中，所示的第一層422的厚度大于第二層424的厚度。在圖5顯示了一種制品500，其包含設(shè)置在基材110的相反主表面112、114中的一個(gè)上的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)520。圖5所示的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)520包含第一層522和第二層524。第一層522包含含硅的氧化物、含硅的氮氧化物、含氮化硅、含鋁的氧化物、含鋁的氮氧化物(例如AlOxNy和SiuAlvOxNy)、含鋁的氮化物(例如AlN和AlxSiyN)或它們的組合。第二層524可包含透明介電材料(例如SiO2、GeO2、Al2O3、Nb2O5、TiO2、Y2O3和其它類似的材料以及它們的組合)或它們的組合。第一層522包含第一亞層526和第二亞層528。第一亞層526可包含含氧量梯度、含氮量梯度、含硅量梯度和含鋁量梯度以及它們的各種組合，如參考光學(xué)膜結(jié)構(gòu)420所做的描述所述。在一種或多種實(shí)施方式中，第一亞層526包含含硅的氧化物、含硅的氮氧化物、氮化硅、含鋁的氧化物、含鋁的氮氧化物(例如AlOxNy和SiuAlvOxNy)、含鋁的氮化物(例如AlN和AlxSiyN)和/或它們的組合，這取決于第一亞層526的含氧量、含硅量、含氮量和/或含鋁量。在一種特定的實(shí)施方式中，第一亞層526可不含AlN和/或Si3N4。換言之，一種或多種特定的實(shí)施方式的第一亞層526在整個(gè)厚度t中包含氧，但是含氧量沿著厚度t變化。第二亞層528可包含AlN和/或Si3N4。在一種或多種實(shí)施方式中，第二亞層528可不含任何有意包含的氧。所以，在一種或多種實(shí)施方式中，第一層522的含氧量梯度可只沿著第一亞層526的厚度t延伸，而第二亞層528可不含氧。圖5A顯示了一種實(shí)施方式，其中，第一亞層526包含硅梯度、鋁梯度、氧梯度和氮梯度。在圖5A中，含硅量和含氧量沿著厚度、朝著遠(yuǎn)離基材110的方向降低，而含鋁量和含氮量沿著厚度、朝著遠(yuǎn)離基材110的方向升高。顯示了硅、鋁、氧和氮各自的相對(duì)量；但是應(yīng)當(dāng)注意的是，硅、鋁、氧和氮的量的變化可以不是線性或恒定的，且SiO2、SiOxNy、SiuAlvOxNy、AlxSiyN和AlN的混合物可存在于第一亞層526的各種厚度中。在一種或多種實(shí)施方式中，第一亞層可不含AlN，且可只包含SiO2、SiOxNy、SiuAlvOxNy和/或AlxSiyN，而第二亞層可包含AlN。在一種或多種實(shí)施方式中，含氧量、含硅量、含鋁量和/或含氮量沿著第一層422或第一亞層526的厚度t、朝著遠(yuǎn)離基材110的方向的降低或升高可以是恒定的。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，氧、硅、鋁和/或氮的減少或增加是不恒定的。在這類氧、硅、鋁和/或氮的減少或增加是不恒定的實(shí)施方式中，應(yīng)當(dāng)理解的是，硅、鋁和/或氮會(huì)沿著厚度t的一部分、朝著遠(yuǎn)離基材110的方向減少或保持不變；但是第一層422或第一亞層526中各含氧量、含硅量、含鋁量和/或含氮量會(huì)呈大趨勢(shì)地沿著厚度t、朝著遠(yuǎn)離基材110的方向降低或升高。例如，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中具有本文所述的含氧量梯度的層不包括含氧量沿著厚度t、朝著遠(yuǎn)離基材110的方向升高。在含氧量沿著第一層422或第一亞層526的厚度t的一些部分降低或保持不變的實(shí)施方式中，該含氧量梯度稱為“步進(jìn)式(step-wise)”含氧量梯度或可描述成沿著第一層422或第一亞層526的厚度步進(jìn)式降低的含氧量。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，含氧量可沿著第一層422或第一亞層526更接近基材110的部分的厚度以更緩慢的速度降低，而沿著第一層422或第一亞層526更接近第二層424或第二亞層528的部分的厚度以更快速的速度降低。換言之，含氧量沿著第一層422或第一亞層526的厚度變化的速度可朝著遠(yuǎn)離基材110的方向增加。所以，含氧量可沿著厚度t、朝著遠(yuǎn)離基材的方向線性地或非線性地上升。這些類型的梯度(即步進(jìn)的、恒定的、更快的/更慢的速率、線性的和非線性的)同樣適用于本文所述的含硅量梯度、含鋁量梯度、含氮量梯度，其中，含硅量、含鋁量和/或含氮量沿著第一層422或第一亞層526的厚度上升和下降。在一種或多種實(shí)施方式中，第二亞層528具有經(jīng)過(guò)調(diào)節(jié)的厚度，以使光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的硬度最優(yōu)化。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，可相對(duì)第一亞層526對(duì)第二亞層528的厚度進(jìn)行調(diào)節(jié)。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，第二亞層528比第一亞層526或第二層524厚或厚得多。在一種或多種實(shí)施方式中，第二亞層528的厚度比第一亞層526和第二層524的厚度之和還要厚或厚得多。在一種變化形式中，第二亞層528可具有1μm或更厚的厚度。例如，第二亞層528的厚度可在大約1μm～大約3μm的范圍內(nèi)，或更具體而言，可在大約2μm～大約3μm的范圍內(nèi)。第二亞層528的特定的實(shí)施方式的厚度可為大約1.1μm或更厚、大約1.2μm或更厚、大約1.3μm或更厚、大約1.4μm或更厚、大約1.5μm或更厚、大約1.6μm或更厚、大約1.7μm或更厚、大約1.8μm或更厚、大約1.9μm或更厚、大約2μm或更厚、大約2.1μm或更厚、大約2.2μm或更厚、大約2.3μm或更厚、大約2.4μm或更厚、大約2.5μm或更厚、大約2.6μm或更厚、大約2.7μm或更厚、大約2.8μm或更厚、大約2.9μm或更厚，或大約3μm或更厚。在第二亞層528包含AlN的實(shí)施方式中，第二亞層的厚度可為2μm或更厚。例如，第二亞層528的厚度可為大約2.2μm或更厚、大約2.3μm或更厚、大約2.4μm或更厚、大約2.5μm或更厚、大約2.6μm或更厚、大約2.7μm或更厚、大約2.8μm或更厚、大約2.9μm或更厚，或大約3μm或更厚。第一亞層526的折射率可在大約1.6～大約2.1的范圍內(nèi)。例如，第一亞層326的折射率可包括1.6、1.62、1.64、1.66、1.68、1.70、1.72、1.74、1.76、1.78、1.80、1.82、1.84、1.86、1.88、1.90、1.92、1.94、1.96、1.98、2.0、2.1以及它們之間的所有范圍和子范圍。第二亞層528的折射率可在大約2.0～大約2.1的范圍內(nèi)。例如，第二亞層的折射率可包括2.0、2.01、2.02、2.03、2.04、2.05、2.06、2.07、2.08、2.09、2.1以及它們之間的所有范圍和子范圍。第二層524的折射率可在大約1.45～大約1.55的范圍內(nèi)。例如，第二層524的折射率可包括1.45、1.46、1.47、1.48、1.49、1.50、1.51、1.52、1.53、1.54、1.55以及它們之間的所有范圍和子范圍。如下文詳述，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)520的第一層522可具有折射率梯度。在第二層524中使用Al2O3的實(shí)施方式中，可改變氮?dú)夂脱鯕獾臐舛纫孕纬扇魏蜛l2O3、AlOxNy和/或AlN來(lái)形成光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的層。圖10A大致圖示了圖5所示的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)520的光學(xué)性質(zhì)。圖中，x軸上的厚度值顯示了光學(xué)膜結(jié)構(gòu)520在遠(yuǎn)離基材110的方向上的厚度。y軸上提供了光學(xué)膜結(jié)構(gòu)520的折射率值，顯示了折射率沿著光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的厚度發(fā)生的變化。圖10A中，該圖并未考慮基材110(或任何其它位于基材110與光學(xué)膜結(jié)構(gòu)520之間的層)或空氣(或任何其它設(shè)置于光學(xué)膜結(jié)構(gòu)520之上的層)的折射率?；?10與第一亞層526之間的界面以標(biāo)記900表示，第一亞層526與第二亞層528之間的界面以標(biāo)記910表示，第二亞層528與第二層524之間的界面以標(biāo)記920表示，而第二層524與空氣之間的界面以標(biāo)記930表示。如圖10A所示，第一亞層526的折射率沿著第一亞層526的厚度、朝著遠(yuǎn)離基材110(或基材-第一亞層526的界面900)的方向升高。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，第一亞層526的折射率隨著第一亞層526中的含氧量的改變而改變。另外，第一亞層526沿著第一亞層526的大部分厚度的折射率大于第二層524的折射率。第二亞層沿著第二亞層的整個(gè)厚度的折射率大于第二層524的折射率。圖10A中，所示的第一層和第二亞層526、528的厚度大于第二層524的厚度。另外，所示的第一和第二亞層526、528的厚度大致相等；但是在一些實(shí)施方式中，第一和第二亞層526、528中的一個(gè)的厚度可比另一個(gè)厚。圖10B大致圖示了圖5所示的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的一種替代性的實(shí)施方式的光學(xué)性質(zhì)。在圖10B所示的實(shí)施方式中，第二亞層528具有與第二層524相同的折射率。在一種或多種實(shí)施方式中，第二亞層528可在組成上與第二層524的至少一部分相似或相同。在圖10B所示的圖中，x軸上的厚度值顯示了光學(xué)膜結(jié)構(gòu)520在遠(yuǎn)離基材110的方向上的厚度。y軸上提供了光學(xué)膜結(jié)構(gòu)520的折射率值，顯示了折射率沿著光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的厚度發(fā)生的變化。圖10B中，該圖并未考慮基材110(或任何其它位于基材110與光學(xué)膜結(jié)構(gòu)520之間的層)或空氣(或任何其它設(shè)置于光學(xué)膜結(jié)構(gòu)520之上的層)的折射率。基材110與第一亞層526之間的界面以標(biāo)記1000表示，第一亞層526與第二亞層528之間的界面以標(biāo)記1010表示，第二亞層528與第二層524之間的界面以標(biāo)記1020表示，而第二層524與空氣之間的界面以標(biāo)記1030表示。如圖10AB所示，第一亞層526的折射率沿著第一亞層526的厚度、朝著遠(yuǎn)離基材110(或基材-第一亞層526的界面900)的方向升高。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，第一亞層526的折射率隨著第一亞層526中的含氧量的改變而改變。另外，第一亞層526沿著第一亞層526的至少一部分厚度的折射率小于第二層524的折射率。第二亞層沿著第二亞層的整個(gè)厚度的折射率等于第二層524的折射率。圖10B中，所示的第一和第二亞層526、528的厚度大于第二層524的厚度；但是，第一亞層526、第二亞層528和第二層524的厚度可彼此相等或有薄有厚，以提供所需的耐劃痕性和光學(xué)性質(zhì)。另外，所示的第一和第二亞層526、528的厚度大致相等；但是在一些實(shí)施方式中，第一和第二亞層526、528中的一個(gè)的厚度可比另一個(gè)厚。在圖4和圖5所示的實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的第一層422、522可具有折射率梯度。該折射率梯度可與第一層422、522中含氧量和/或含氮量梯度有關(guān)，或可由第一層422、522中的組成梯度導(dǎo)致。圖2和圖3中所示的第一層222、322也可以具有折射率梯度。在這類實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的第一層的折射率可沿著厚度t、朝著遠(yuǎn)離基材110的方向升高。例如，該折射率梯度可在大約1.45～大約2.2的范圍內(nèi)，或者更具體而言，在大約1.7～大約2.1的范圍內(nèi)。在使用含氧量梯度的實(shí)施方式中，可調(diào)整含氧量以使沿著可見(jiàn)光譜的光學(xué)性質(zhì)最優(yōu)化。類似地，在使用含氮量梯度的實(shí)施方式中，可調(diào)整含氮量以使沿著可見(jiàn)光譜的光學(xué)性質(zhì)最優(yōu)化。在一種或多種實(shí)施方式中，第一層222、322、422、522不含硅或不含鋁。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，第一層222、322、422、522包含AlN或Si3N4，但是在第一層222、322、422、522和基材110中的AlN或Si3N4之間設(shè)置一種氧化物?？蓪?duì)該氧化物進(jìn)行選擇以調(diào)整光學(xué)性質(zhì)，以使制品在可見(jiàn)光譜內(nèi)展現(xiàn)出大約85％或更高的平均透射率，如本文的其它部分所述。在一種或多種實(shí)施方式中，可對(duì)該氧化物進(jìn)行選擇以調(diào)整光學(xué)性質(zhì)，以使制品在可見(jiàn)光譜內(nèi)的總反射率等于或小于本文所述的無(wú)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的基材110的總反射率。在一種或多種實(shí)施方式中，可對(duì)該氧化物進(jìn)行選擇以調(diào)整光學(xué)性質(zhì)，以使制品的透射色彩、反射色彩或這兩者展現(xiàn)出本文所述的色偏值。在一種或多種實(shí)施方式中，本文所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)不含納米結(jié)構(gòu)或有意添加的納米結(jié)構(gòu)，例如微粒。有意添加的納米結(jié)構(gòu)是指為了這類納米結(jié)構(gòu)的性質(zhì)(例如為了增加光學(xué)膜結(jié)構(gòu)或其中任意層的表面積，以提供防眩光性質(zhì)等)而故意引入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中的微粒。在一種或多種實(shí)施方式中，本文所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)不含多孔層或被有意添加孔隙率的層。有意填加的孔隙率包括對(duì)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理以提供或增加孔隙率、向光學(xué)膜結(jié)構(gòu)內(nèi)加入孔形成材料以提供或增加孔隙率。在一種或多種實(shí)施方式中，第二層224、324、424、524不包含鋁或鋁的氮氧化物。在一種或多種實(shí)施方式中，本文所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可包含增強(qiáng)或抑制一種或多種性質(zhì)的改性劑。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，改性劑可結(jié)合入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中以增強(qiáng)該光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的導(dǎo)電性。在這類實(shí)施方式中，可對(duì)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)進(jìn)行改性或利用Mg和/或Ca對(duì)其進(jìn)行摻雜以控制導(dǎo)電性。其它例如Si和/或Ge的改性劑摻雜劑可結(jié)合入本文所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中，具體而言結(jié)合入包含AlN的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的層中。在一種或多種實(shí)施方式中，Si和/或Ge改性劑或摻雜劑的使用允許對(duì)折射率進(jìn)行控制，而無(wú)需改變本文所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的給定層的含氧量或含氮量。換言之，Si和/或Ge的使用允許對(duì)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)內(nèi)給定層的折射率進(jìn)行控制，而無(wú)需改變含氧量或含氮量。而且，當(dāng)少量使用Si時(shí)，其還能夠增強(qiáng)AlN的硬度(即提供AlNxSiy，其中y＜0.1，且x+y＝1)。還可使硼與任何適合設(shè)置于此的材料形成合金。例如，可使AlN與硼形成合金以提供AlxByN，其中x+y＝1。少量硼的引入可使光學(xué)膜結(jié)構(gòu)內(nèi)的特定層或光學(xué)膜結(jié)構(gòu)整體具有改善的潤(rùn)滑性。少量硼的引入還可使光學(xué)膜結(jié)構(gòu)內(nèi)的特定層或光學(xué)膜結(jié)構(gòu)整體具有改善增加的硬度。包含氮或氮化物的本文所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的層可選擇性地包含碳改性劑或摻雜劑。在一種或多種實(shí)施方式中，碳改性劑或摻雜劑可作為合金使用以在光學(xué)膜結(jié)構(gòu)內(nèi)形成碳化物?；蛘?，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可不含改性劑或摻雜劑或可不含有意添加的改性劑或摻雜劑。在一種或多種替代性的實(shí)施方式中，包含六方BN的改性劑或摻雜劑可結(jié)合入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中以改善光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的光學(xué)性質(zhì)。例如，六方BN可結(jié)合入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中以提高該光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的一個(gè)或多個(gè)層的折射率。以這種方式改性或摻雜的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的層可包含AlN、Si3N4、SiOxNy、SiuAlvOxNy、AlxSiyN或AlOxNy。可選地，包含六方BN、Ag、Cr和/或其它更大原子的改性劑可結(jié)合入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中以改善該光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的機(jī)械性質(zhì)。具體而言，包含六方BN、Ag、Cr和/或其它更大原子的改性劑的使用可結(jié)合入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中以管理該光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中的應(yīng)力。無(wú)意受限于理論，利用某些原子對(duì)AlN、Si3N4、SiOxNy、SiuAlvOxNy、AlxSiyN或AlOxNy層的摻雜可允許膜松弛并具有更小的應(yīng)力。松弛的膜在受到例如單一事件劃刻的作用力時(shí)沒(méi)有剝落的傾向，這防止了劃痕損傷，還防止了光學(xué)損傷。示例性的原子包括銀(Ag)、釔(Y)、銦(In)和錫(Sn)和元素周期表第五周期的其它元素。另外，含磷物質(zhì)作為摻雜劑的使用也可提供光學(xué)膜結(jié)構(gòu)以松弛效果。松弛的膜還能抵御在導(dǎo)致劃痕的滑動(dòng)接觸事件中出現(xiàn)的作用力的拉拽。所以，將某些原子引入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中允許膜具有所需的硬度，而不包含不希望的張力或壓縮。同樣地，某些原子的引入提供了用于調(diào)整光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的光學(xué)性質(zhì)的額外的自由度。在一種或多種實(shí)施方式中，六方BN改性劑可結(jié)合入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中以使該光學(xué)膜結(jié)構(gòu)具有潤(rùn)滑性。六方BN可具有與石墨烯類似的片狀結(jié)構(gòu)。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的摩擦系數(shù)可小于其它包含AlN、Si3N4、SiOxNy、SiuAlvOxNy、AlxSiyN或AlOxNy但未將六方BN改性劑結(jié)合入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的摩擦系數(shù)。例如，當(dāng)使用碳化硅球體相對(duì)表面進(jìn)行測(cè)量時(shí)，包含AlN、Si3N4、SiOxNy、SiuAlvOxNy、AlxSiyN或AlOxNy并結(jié)合有六方BN改性劑的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可具有小于大約0.3的摩擦系數(shù)。在一種或多種實(shí)施方式中，摩擦系數(shù)可為大約0.28或更小、大約0.26或更小、大約0.24或更小、大約0.22或更小、大約0.20或更小、大約0.18或更小、大約0.16或更小、大約0.14或更小、大約0.12或更小，或大約0.1或更小。在一種或多種實(shí)施方式中，改性劑可結(jié)合入包含AlN、Si3N4、SiOxNy、SiuAlvOxNy、AlxSiyN或AlOxNy的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的層中。例如，在圖2所示的實(shí)施方式中，改性劑可結(jié)合入包含AlN或AlOxNy的第二亞層226中。在圖3所示的實(shí)施方式中，第一亞層326和/或第三亞層330可包含改性劑。在圖4所示的實(shí)施方式中，第一層422可包含改性劑。在圖5所示的實(shí)施方式中，第一亞層526或第二亞層528可包含改性劑。在一種或多種實(shí)施方式中，包含氟的改性劑可結(jié)合入本文所述的第二層224、324、424、524中。在這類實(shí)施方式中，氟改性劑降低了第二層的摩擦系數(shù)，進(jìn)而降低了光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的摩擦系數(shù)。氟改性劑可結(jié)合入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的其它層中。在一種或多種實(shí)施方式中，本文所述的第二層包含SiO2和包含氟的改性劑。一種或多種實(shí)施方式的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可包含或具有傳感功能，或者包含或具有一種或多種使其能夠傳感的性質(zhì)。如本文所用，傳感可包含光學(xué)傳感、電傳感、磁傳感、機(jī)械傳感或它們的組合。傳感功能可包括電容傳感、電阻傳感、感應(yīng)傳感、表面聲波傳感、光電傳感、或其它已知的傳感功能。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的一部分(例如一個(gè)單一層或一個(gè)或多個(gè)選定層)可具有這種傳感功能或一種或多種使其能夠傳感的性質(zhì)。在一種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)或其部分可具有壓電性質(zhì)、熱電性質(zhì)或它們的組合。在一些實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可具有壓電性質(zhì)但基本上無(wú)熱電性質(zhì)，反之亦然。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中的一個(gè)或多個(gè)壓電層可包含晶體或多晶材料，且還可具有本文所述的硬度和/或低光學(xué)吸收(和/或高光學(xué)透明度)。在一些實(shí)施方式中，壓電性質(zhì)可存在于光學(xué)膜中的一個(gè)或多個(gè)氮化鋁或氧摻雜的氮化鋁層中。在一些實(shí)施方式中，這些光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可感應(yīng)作用力或壓力的大小、可感應(yīng)聲學(xué)信號(hào)、以及/或者感應(yīng)加速度。這類實(shí)施方式可被描述成具有包含傳感器或傳感層的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可包含或可就一個(gè)或多個(gè)導(dǎo)電層、透明導(dǎo)體層(例如光學(xué)透明和導(dǎo)電的層)和/或光學(xué)波導(dǎo)層使用，以實(shí)現(xiàn)這些傳感功能。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可與信號(hào)檢測(cè)器、電極或信號(hào)處理器相連，以捕獲、儲(chǔ)存或解讀傳感功能的輸出。在一種或多種實(shí)施方式中，本文所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)不含紅外反射層或材料。光學(xué)膜結(jié)構(gòu)還可不含具有特別調(diào)整至紅外區(qū)段的光學(xué)性質(zhì)的層或材料。如圖1所示，基材110包含相反次表面116、118。在一種或多種實(shí)施方式中，基材100可包含包裹膜(未示出)，該包裹膜可設(shè)置于相反次表面116、118和/或相反主表面112、114之上。在這類實(shí)施方式中，包裹膜可設(shè)置在基材110與光學(xué)膜結(jié)構(gòu)120、220、320、420、520之間?；蛘?，包裹膜可形成第一層222、322、422、522的全部或部分。在一種特定的實(shí)施方式中，包裹膜可形成第一亞層226、326、526的全部或部分。包裹膜可包含Al2O3。包裹膜可為本文所述的第一亞層226、326、526和第一層424提供成核層。成核層可對(duì)第一亞層226、326和526或第一層424中最初的少數(shù)幾個(gè)原子層中原子的原子排布產(chǎn)生效果(即成核層離第一亞層226、326、526或第一層424與包裹膜之間界面的距離小于10nm)。本文所述的制品可包含設(shè)置于其上的附加的膜或?qū)?。例如，制品可包含抗反射膜?或鈍化膜。示例性的抗反射膜可包含單一層或多層(例如4層膜、6層膜等)。在使用具有多層的抗反射膜的情況中，各層可具有不同的折射率，且可包含具有高折射率(H)和低折射率(L)的層，其中“高”和“低”是彼此相對(duì)而言，而且在用于抗反射膜的已知范圍內(nèi)?？蓪?duì)各層進(jìn)行排布以使高折射率和低折射率的層交替配置。在一種或多種實(shí)施方式中，中間層可設(shè)置于基材110與本文所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)之間。在一種特定的實(shí)施方式中，中間層可包含有機(jī)材料、無(wú)機(jī)材料或它們的組合的膜或?qū)樱跃S持制品的平均彎曲強(qiáng)度。中間層可包含若干層的復(fù)合體，這些層可彼此具有相同或不同的組成。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，中間層包含聚合物。示例性的聚合物包括聚酰亞胺、聚硅氧烷、聚醚砜、聚砜、聚乙基醚酮、聚對(duì)二甲苯、聚四氟乙烷等。中間層還可包含類金剛石碳。中間層可具有平均破裂應(yīng)變、斷裂韌度或模量性質(zhì)，這些性質(zhì)能夠防止在光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中發(fā)源的裂紋橋接進(jìn)入基材中。在一種或多種實(shí)施方式中，中間層可形成本文所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的第一亞層。在這類實(shí)施方式中，包含中間層的第一亞層可具有大約300nm的厚度。應(yīng)當(dāng)理解的是，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的其他層可具有大于300nm的厚度，以使光學(xué)膜結(jié)構(gòu)作為一個(gè)整體具有本文其它部分所述的厚度。在中間層作為光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的隔離層或作為光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的部分而被引入的情況中，可對(duì)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)(和/或其中的任何層)進(jìn)行調(diào)整以改變?cè)摻Y(jié)構(gòu)的光學(xué)性質(zhì)。本文所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可利用真空沉積技術(shù)沉積材基材110上，例如化學(xué)氣相沉積(例如等離子體強(qiáng)化的化學(xué)氣相沉積)、物理氣相沉積(例如反應(yīng)或非反應(yīng)濺射或激光燒蝕)、熱蒸發(fā)或電子束蒸發(fā)和/或原子層沉積?？筛淖冇糜谠O(shè)置本文所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的處理?xiàng)l件，以調(diào)整光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的機(jī)械性質(zhì)或光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的一個(gè)或多個(gè)特定層的機(jī)械性質(zhì)。例如，在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)在升高的壓力下沉積，以降低光學(xué)膜結(jié)構(gòu)內(nèi)的應(yīng)力。示例性的升高的壓力包括在大約0.5毫托～大約50毫托(例如大約1毫托)范圍內(nèi)的壓力。在一種或多種實(shí)施方式中，升高的壓力包括10毫托。在一種或多種實(shí)施方式中，包含AlN的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的層在高壓下設(shè)置。在特定的實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的其它層，例如那些不含AlN的層可在低壓下設(shè)置。低壓的例子包括在大約2毫托～大約20毫托范圍內(nèi)的壓力。本發(fā)明的制品可包括具有顯示器的制品(或顯示器制品)(例如消費(fèi)電子產(chǎn)品，包括手機(jī)、平板電腦、電腦、導(dǎo)航系統(tǒng)及類似物)、建筑制品、運(yùn)輸制品(例如汽車、火車、飛機(jī)、船舶等)、家用電器制品或任何需要一定程度的透明度、耐劃痕性、耐磨性或以上性質(zhì)的組合的制品。本發(fā)明的第二方面涉及一種本文所述的制品的形成方法。在一種或多種實(shí)施方式中，該方法包括提供基材，該基材可以是如本文所述的經(jīng)過(guò)強(qiáng)化的玻璃基材、未經(jīng)強(qiáng)化的玻璃基材、經(jīng)過(guò)強(qiáng)化的玻璃陶瓷基材或未經(jīng)強(qiáng)化的玻璃陶瓷基材，這些基材具有相反主表面，以及在該基材的相反主表面的一個(gè)上設(shè)置光學(xué)膜結(jié)構(gòu)。在一種或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)在大約0.5毫托～大約20毫托范圍內(nèi)的壓力下設(shè)置于基材之上，以提供比在更低壓力下沉積的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)具有更低應(yīng)力的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)在大約3毫托的壓力下設(shè)置?？梢允褂玫膲毫梢宰兓?。請(qǐng)注意，這些是例子，它們的實(shí)際值可隨著所使用的反應(yīng)器、所反應(yīng)器改裝設(shè)計(jì)(例如反應(yīng)器形狀、尺寸、載氣、產(chǎn)量等)而改變。沉積溫度可在大約100℃～大約200℃的范圍內(nèi)。該方法可包括使以下工藝氣體中的任一種或多種流動(dòng)：N2、O2和氬氣?？梢栽黾友鯕獾牧魉僖孕纬筛驼凵渎实膶印Ｔ谝环N或多種實(shí)施方式中，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可通過(guò)真空沉積技術(shù)設(shè)置在基材上。示例性的真空沉積技術(shù)包括化學(xué)氣相沉積；等離子體強(qiáng)化的化學(xué)氣相沉積；物理氣相沉積，例如濺射、反應(yīng)濺射；熱蒸發(fā)和原子層沉積。在一種或多種實(shí)施方式中，該方法包括改變光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的一種或多種性質(zhì)。所述一種或多種性質(zhì)可包括導(dǎo)電性、潤(rùn)滑性、應(yīng)力、折射率、硬度、厚度、沉積速度和環(huán)境下的膜活性以及它們的組合。對(duì)導(dǎo)電性、潤(rùn)滑性、應(yīng)力和折射率性質(zhì)中的一種或多種的改變可包括將一種或多種本文所述的改性劑結(jié)合入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中。在一種或多種實(shí)施方式中，該方法可包括增加光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的導(dǎo)電性。在一種特定的實(shí)施方式中，增加光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的導(dǎo)電性包括利用改性劑或摻雜劑對(duì)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)進(jìn)行摻雜，所述改性劑或摻雜劑可包含Mg、Ca或它們的組合。根據(jù)一種或多種實(shí)施方式的方法可包括提高光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的潤(rùn)滑性。在一種或多種特定的實(shí)施方式中，提高光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的潤(rùn)滑性包括將BN結(jié)合入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中。在一種或多種實(shí)施方式中，該方法包括降低光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中的應(yīng)力。在這類實(shí)施方式中，降低應(yīng)力包括將BN、Ag、Cr或它們的組合中的一種或多種結(jié)合入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中。在一種或多種實(shí)施方式中，該方法包括將氧引入光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中。氧的引入可改變光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的折射率。在一種或多種實(shí)施方式中，該方法可包括在光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中形成含氧量梯度，如本文其它部分所述。實(shí)施例通過(guò)以下實(shí)施例對(duì)各種實(shí)施方式作進(jìn)一步闡述。對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，顯而易見(jiàn)的是可以在不偏離權(quán)利要求的精神和范圍的情況下對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種修改和變動(dòng)。實(shí)施例1～8在以下實(shí)施例中，設(shè)計(jì)了三層式光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，且使用各種模型在可見(jiàn)光譜內(nèi)對(duì)這些樣品的透射率進(jìn)行評(píng)價(jià)。使用橢圓光度法對(duì)三層式光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中各層的折射率和消光系數(shù)進(jìn)行表征。在已知建模工具(例如薄膜設(shè)計(jì)代碼(thinfilmdesigningcode))中使用各層的折射率和消光系數(shù)信息，以確定實(shí)施例1～8所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的光學(xué)特性。上述表征和建模可用于本文所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的雙層式、四層式或其它層構(gòu)型。實(shí)施例1～8所使用的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)是通過(guò)在寬度和長(zhǎng)度尺寸為大約2"×2"的經(jīng)過(guò)強(qiáng)化的玻璃基材上使用離子束濺射法來(lái)形成的，從這些光學(xué)膜結(jié)構(gòu)上測(cè)得折射率和消光系數(shù)信息。玻璃基材包含具有以下組成的堿金屬鋁硼硅酸鹽玻璃：大約65摩爾％的SiO2、大約14摩爾％的Al2O3；大約5摩爾％的B2O3；大約14摩爾％的Na2O；大約2.5摩爾％的MgO和大約0.1摩爾％的SnO2。對(duì)玻璃基材進(jìn)行強(qiáng)化以使其展現(xiàn)出至少大約700MPa的CS和至少大約40μm的DOL。CS和DOL通過(guò)將玻璃基材在溫度為大約400～430℃的鹽浴中浸泡大約4～大約8小時(shí)來(lái)形成。通過(guò)沉積時(shí)間來(lái)控制光學(xué)膜結(jié)構(gòu)各層的厚度。將沉積溫度保持在大約200℃，并將壓力保持在6.7×10-6托。在存在以大約75sccm的流速流動(dòng)的氬氣、且供給大約4kW的DC功率的條件下，從合適的靶(例如Ge靶以形成含鍺的氧化物、Si靶以形成含硅的氧化物或Al靶以形成含鋁的氧化物、氮化物或氮氧化物)上對(duì)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的每一層進(jìn)行濺射。使用氧氣(以大約2sccm的流速流動(dòng))、氮?dú)?以大約50sccm的流速流動(dòng))和氬氣(以大約25sccm的流速流動(dòng))的混合氣以大約180W～大約800W范圍內(nèi)的功率形成離子束。例如，當(dāng)形成Al2O3時(shí)，離子束在大約600W的功率下形成，當(dāng)形成AlOxNy時(shí)，離子束在大約180W的功率下形成，當(dāng)形成SiO2時(shí)，離子束在大約800W的功率下形成。Al2O3以大約/秒的速率形成，AlOxNy以大約/秒的速率形成，而SiO2以大約/秒的速率形成。在已知的結(jié)構(gòu)中，隨著視角從垂直入射(即0度)變?yōu)閮A斜入射，具有最低反射率的設(shè)計(jì)仍然在反射色彩點(diǎn)處顯示出變化。所以，低反射率區(qū)段(并不一定是反射率最低的區(qū)段)具有變淺的色彩，(即低反射率區(qū)段更靠近(a*,b*)原點(diǎn))，這是通過(guò)設(shè)計(jì)的兩個(gè)阻抗匹配層(impedance-matchinglayer)的色散和厚度的變化而實(shí)現(xiàn)的。在實(shí)施例1中，一種光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的阻抗匹配層包含包裹具有高折射率和相對(duì)高硬度的層(例如AlOxNy，其中x≥0)的Al2O3和SiO2層。具體而言，在實(shí)施例1中，制備了具有光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的樣品，并使用橢圓光度法對(duì)各層的折射率和消光系數(shù)進(jìn)行測(cè)量，所述光學(xué)膜結(jié)構(gòu)包含Al2O3第一亞層、AlOxNy第二亞層和SiO2第二層。如上所述，基于測(cè)得的折射率和消光系數(shù)，使用建模來(lái)改變Al2O3和SiO2層的厚度。AlOxNy層的厚度恒定不變。針對(duì)SiO2和Al2O3層的每一個(gè)厚度，對(duì)實(shí)施例1的樣品在(L*,a*,b*)色度系統(tǒng)中的色坐標(biāo)進(jìn)行預(yù)測(cè)。圖11顯示了實(shí)施例1的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)透射中的色彩性能的等值線圖，其中，條件為a*為0且b*為0。另外，光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的色坐標(biāo)與原點(diǎn)(坐標(biāo)(0,0))之間的距離或色偏給出了最接近真實(shí)無(wú)歪曲的白色(或無(wú)色)透明的測(cè)量結(jié)果。對(duì)于圖11所示的等值線圖，使用如上所述的建模，AlOxNy厚度恒定在1850nm，而SiO2和Al2O3層的厚度則分別在0～160nm以及0～800nm的范圍內(nèi)變化。使用與包含三種材料的層的折射率和消光系數(shù)的試驗(yàn)測(cè)量結(jié)果相適應(yīng)的色散函數(shù)。將圖11所示的等值線圖限制為接近零點(diǎn)的等值線，以向設(shè)計(jì)參數(shù)(例如SiO2層和Al2O3層的厚度)提供關(guān)于淺色方案(a*,b*)≈(0,0)的靈敏度的數(shù)據(jù)。為了清晰度而抑制其它等值線水平。結(jié)果表面，在最細(xì)的等值實(shí)線(a*＝0.0處)與最寬的等值虛線(b*＝0.0處)相交或接近相交的區(qū)域中存在一致的方案。引入在圖11中這些交點(diǎn)處具有厚度的SiO2,Al2O3和AlOxNy層會(huì)提供具有無(wú)色透射的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)。這類光學(xué)膜結(jié)構(gòu)示于表1。表1：具有圖11所示的無(wú)色透射的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)SiO2AlOxNyAl2O3光學(xué)膜結(jié)構(gòu)140nm1850nm500nm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)252nm1850nm440nm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)362nm1850nm450nm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)430nm1850nm350nm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)575nm1850nm330nm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)635nm1850nm160nm在實(shí)施例2中，使用實(shí)施例1中測(cè)得的折射率和消光系數(shù)。如上所述，基于測(cè)得的折射率和消光系數(shù)，使用建模來(lái)改變Al2O3和SiO2層的厚度；但是，使AlOxNy層的厚度恒定在大約2000nm。針對(duì)SiO2和Al2O3層的每一個(gè)模擬厚度，對(duì)根據(jù)實(shí)施例2的樣品在(L*,a*,b*)色度系統(tǒng)中的色坐標(biāo)進(jìn)行預(yù)測(cè)。相對(duì)于實(shí)施例1，將AlOxNy層的厚度增加至2000nm，以顯示等值線對(duì)AlOxNy層厚度的依賴性。圖12是實(shí)施例2的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)在透射中的色彩性能。引入具有在圖12中這些交點(diǎn)處厚度的SiO2,Al2O3和AlOxNy層會(huì)提供具有無(wú)色透射的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)。這類光學(xué)膜結(jié)構(gòu)示于表2。表2：具有圖12所示的無(wú)色透射的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)SiO2AlOxNyAl2O3光學(xué)膜結(jié)構(gòu)743nm2000nm500nm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)867nm2000nm490nm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)962nm2000nm450nm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)1035nm2000nm350nm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)1163nm2000nm300nm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)1275nm2000nm380nm在實(shí)施例3中，使用實(shí)施例1中測(cè)得的折射率和消光系數(shù)。如上所述，基于測(cè)得的折射率和消光系數(shù)，使用建模來(lái)改變Al2O3和SiO2層的厚度；但是，使AlOxNy層的厚度恒定在大約2250nm。圖13是實(shí)施例3的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)在透射中的色彩性能的等值曲線，其中，AlOxNy層具有2250nm的恒定厚度。引入具有在圖13中這些交點(diǎn)處厚度的SiO2,Al2O3和AlOxNy層會(huì)提供具有無(wú)色透射的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)。這類光學(xué)膜結(jié)構(gòu)示于表3。表3：具有圖13所示的無(wú)色透射的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)SiO2AlOxNyAl2O3光學(xué)膜結(jié)構(gòu)1348nm2250nm495nm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)1465nm2250nm490nm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)1560nm2250nm310nm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)1637nm2250nm350nm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)1772nm2250nm320nm在實(shí)施例4中，使用實(shí)施例1中測(cè)得的折射率和消光系數(shù)。如上所述，基于測(cè)得的折射率和消光系數(shù)，使用建模來(lái)改變Al2O3和SiO2層的厚度；但是，使AlOxNy層的厚度恒定在大約2500nm。圖14是實(shí)施例4的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)在透射中的色彩性能的等值線，其中，AlOxNy層具有2500nm的恒定厚度。引入具有在圖14中這些交點(diǎn)處厚度的SiO2,Al2O3和AlOxNy層會(huì)提供具有無(wú)色透射的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)。這類光學(xué)膜結(jié)構(gòu)示于表4。表4：具有圖14所示的無(wú)色透射的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)SiO2AlOxNyAl2O3光學(xué)膜結(jié)構(gòu)1853nm2500nm490nm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)1960nm2500nm490nm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)2038nm2500nm240nm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)2168nm2500nm325nm在實(shí)施例5中，使用實(shí)施例1中測(cè)得的折射率和消光系數(shù)。如上所述，基于測(cè)得的折射率和消光系數(shù)，使用建模來(lái)改變Al2O3和SiO2層的厚度；但是，使AlOxNy層的厚度恒定在大約2750nm。圖15是實(shí)施例5的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)在透射中的色彩性能的等值線，其中，AlOxNy層具有2750nm的恒定厚度。引入具有在圖15中這些交點(diǎn)處厚度的SiO2,Al2O3和AlOxNy層會(huì)提供具有無(wú)色透射的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)。這類光學(xué)膜結(jié)構(gòu)示于表5。表5：具有圖15所示的無(wú)色透射的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)SiO2AlOxNyAl2O3光學(xué)膜結(jié)構(gòu)2242nm2750nm340nm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)2365nm2750nm330nm在實(shí)施例6中，使用實(shí)施例1中測(cè)得的折射率和消光系數(shù)。如上所述，基于測(cè)得的折射率和消光系數(shù)，使用建模來(lái)改變Al2O3和SiO2層的厚度；但是，使AlOxNy層的厚度恒定在大約3000nm。圖16是實(shí)施例6的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)在透射中的色彩性能的等值線，其中，AlOxNy層具有3000nm的恒定厚度。引入具有在圖16中這些交點(diǎn)處厚度的SiO2,Al2O3和AlOxNy層會(huì)提供具有無(wú)色透射的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)。這類光學(xué)膜結(jié)構(gòu)示于表6。表6：具有圖16所示的無(wú)色透射的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)SiO2AlOxNyAl2O3光學(xué)膜結(jié)構(gòu)2442nm3000nm340nm光學(xué)膜結(jié)構(gòu)2561nm3000nm320nm在實(shí)施例7中，使用實(shí)施例1中測(cè)得的折射率和消光系數(shù)。如上所述，基于測(cè)得的折射率和消光系數(shù)，使用建模來(lái)改變Al2O3和SiO2層的厚度；但是，使AlOxNy層的厚度恒定在大約3250nm。圖17是實(shí)施例7的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)在透射中的色彩性能的等值線，其中，AlOxNy層具有3250nm的恒定厚度。引入具有在圖17中該交點(diǎn)處厚度的SiO2,Al2O3和AlOxNy層會(huì)提供具有無(wú)色透射的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)。這類光學(xué)膜結(jié)構(gòu)示于表7。表7：具有圖17所示的無(wú)色透射的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)SiO2AlOxNyAl2O3光學(xué)膜結(jié)構(gòu)2655nm3250nm330nm在實(shí)施例8中，使用實(shí)施例1中測(cè)得的折射率和消光系數(shù)。如上所述，基于測(cè)得的折射率和消光系數(shù)，使用建模來(lái)改變Al2O3和SiO2層的厚度；但是，使AlOxNy層的厚度恒定在大約3500nm。圖18是實(shí)施例8的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)在透射中的色彩性能的等值線，其中，AlOxNy層具有3250nm的恒定厚度。引入具有在圖18中這些交點(diǎn)處厚度的SiO2,Al2O3和AlOxNy層會(huì)使光學(xué)膜結(jié)構(gòu)具有接近無(wú)色(但不是完全無(wú)色)的透射。這類光學(xué)膜結(jié)構(gòu)示于表8。表8：具有圖18所示的接近無(wú)色透射的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)SiO2AlOxNyAl2O3光學(xué)膜結(jié)構(gòu)2755nm3500nm340nm如圖11～18所示，對(duì)于光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中更厚(例如厚度為大約3500nm)的AlOxNy層，參數(shù)空間中的b*表面不再穿過(guò)參數(shù)空間中該區(qū)域的零點(diǎn)(即b*表面參數(shù)空間不再在b*＝0且a*＝0的位置與a*參數(shù)空間相交)。所以，對(duì)于更厚的AlOxNy層，為了實(shí)現(xiàn)無(wú)色或接近無(wú)色透射而調(diào)整其他層(例如SiO2和Al2O3層)的選項(xiàng)更少。如本文其它部分所述，(L,a*,b*)色度系統(tǒng)中具體色彩點(diǎn)(a*,b*)(透射的或反射的)離原點(diǎn)(0,0)的距離或色偏由歐幾里德距離給出：d＝√(a*2+b*2)。圖19A、20A、21A、22A、23A、24A、25A和26A所示的等值線圖分別顯示了實(shí)施例1～8的樣品的設(shè)計(jì)空間的相同范圍內(nèi)的發(fā)光度L*。圖19B、19C、20B、20C、21B、21C、22B、22C、23B、23C、24B、24C、25B、25C、26B和26C分別顯示了實(shí)施例1～8樣品的圖，其通過(guò)偽彩色在線性(圖19B、20B、21B、22B、23B、24B、25B和26B)和對(duì)數(shù)坐標(biāo)(圖19C、20C、21C、22C、23C、24C、25C和26C)內(nèi)表明了d的值，即離原點(diǎn)的距離或色偏與SiO2和Al2O3厚度的關(guān)系。作出離色彩原點(diǎn)(清晰/白色)的距離或色偏關(guān)于設(shè)計(jì)參數(shù)的函數(shù)關(guān)系圖。圖19A、20A、21A、22A、23A、24A、25A和26A顯示了透射率或發(fā)光度，越大的發(fā)光度代表越大的透射率。圖19B、19C、20B、20C、21B、21C、22B、22C、23B、23C、24B、24C、25B、25C、26B和26C中的暗區(qū)顯示了L*a*b*色彩空間中離原點(diǎn)(0,0)的距離最短處的SiO2、Al2O3和AlOxNy層的厚度。當(dāng)對(duì)發(fā)光度和距離d進(jìn)行比較時(shí)，可以得到SiO2、Al2O3和AlOxNy的合適的厚度，以使透射最大化，同時(shí)使距離d(和透射色彩)最小化。例如，在圖19A和19B中，基于圖19B，具有厚度為35nm的SiO2層、厚度為200nm的Al2O3層和厚度為1850nm的AlOxNy層的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可具有無(wú)色透射；但是這類光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可具有95％～96％的發(fā)光度。同樣地，選取具有厚度為90nm的SiO2層、厚度為100nm的Al2O3層和厚度為1850的AlOxNy層的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，其可提供99％的發(fā)光度；但是這類光學(xué)膜結(jié)構(gòu)可具有大于2或3的距離d或色偏，從而會(huì)不具有無(wú)色透射。參考圖19C、20C、21C、22C、23C、24C、25C和26C，暗區(qū)顯示了對(duì)變化不敏感的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的層的厚度。所以，可使用這些圖來(lái)選擇光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的層的厚度，使其能夠承受制造差異并實(shí)現(xiàn)所需的無(wú)色透射。實(shí)施例9使用濺射法形成了實(shí)施例9和比較例9A的每一個(gè)樣品。每個(gè)樣品都通過(guò)提供長(zhǎng)度和寬度尺寸各為50mm的用于實(shí)施例1～8中的相同的基材來(lái)制造。實(shí)施例9包含具有SiuAlvOxNy的層，其中，u、v、x和y沿著層的厚度變化，以提供含氧量梯度、含硅量梯度、含鋁量梯度和含氮量梯度。比較例9A包含AlN層。包含實(shí)施例9的SiuAlvOxNy的層具有大約260nm的厚度，其利用硅和鋁靶以及氮?dú)夂脱鯕狻⑼ㄟ^(guò)濺射法形成，所述厚度通過(guò)輪廓測(cè)定法測(cè)得。AlN層(無(wú)梯度)具有大約250nm的厚度，所述厚度通過(guò)輪廓測(cè)定法測(cè)得。比較例9A的無(wú)梯度的層采用與實(shí)施例9的層相似的方式形成；但是只使用鋁靶且只使用氮?dú)?。形成?shí)施例9和比較例9A的各層的總沉積時(shí)間為大約6小時(shí)。圖27顯示了包含SiuAlvOxNy梯度的實(shí)施例9的層以及無(wú)這類梯度的比較例9A的層的反射率％。當(dāng)與比較例9A的無(wú)梯度的層相比時(shí)，實(shí)施例9的層在可見(jiàn)光譜內(nèi)展現(xiàn)出平坦的反射光譜(或透射光譜)。換言之，實(shí)施例9的層顯示反射率％波動(dòng)的振幅相對(duì)于比較例9A的均勻?qū)佑兴鶞p弱。如圖27所示，實(shí)施例9的層在可見(jiàn)光譜內(nèi)的反射率基本上恒定或不發(fā)生超過(guò)大約20％的變化。換言之，實(shí)施例9的層具有大約16％的平均反射率，且其最大值(例如18％)和最小值(例如14％)小于平均反射率(16％)的大約20％。作為比較，比較例9A的AlN層的反射率％顯示出波動(dòng)，反射率％在可見(jiàn)光譜內(nèi)在低至大約8％～高至大約27％的范圍內(nèi)變化。實(shí)施例10使用濺射法形成了實(shí)施例10和比較例10A的每一個(gè)樣品。每個(gè)樣品都通過(guò)提供長(zhǎng)度和寬度尺寸各為50mm的與用于實(shí)施例1～8中的相同的基材來(lái)制造。實(shí)施例10包含具有121個(gè)亞層的層，這些亞層包含SiuAlvOxNy，其中，u、v、x和y沿著層的厚度變化，以提供含氧量梯度、含硅量梯度、含鋁量梯度和含氮量梯度。將SiuAlvOxNy層的121個(gè)亞層形成在玻璃基材的一個(gè)側(cè)面上。該層通過(guò)以下方式形成，首先在以下條件下濺射硅靶：在大約3毫托的壓力下，存在以大約20sccm的流速流動(dòng)的氬氣，以40sccm的流速流動(dòng)的氮?dú)夂鸵?sccm的流速流動(dòng)的氧氣。在至少最初的三分鐘內(nèi)提供4W的RF功率。經(jīng)過(guò)最初的三分鐘以后，從50W開(kāi)始產(chǎn)生DC功率以從鋁靶濺射鋁。隨后以20W每三分鐘的增幅將DC功率提高至300W。在提高DC功率的同時(shí)，RF功率、氬氣流速、氮?dú)饬魉俸脱鯕饬魉俸愣ú蛔儭Ｔ诘竭_(dá)300W的DC功率后，在連續(xù)步驟中使RF功率從400W降至0W，并以20W每三分鐘的增幅提高DC功率直至產(chǎn)生480W的DC功率。然后，在連續(xù)步驟中，以大約0.2sccm的降幅使氧氣流速?gòu)?sccm降至0.25sccm氧氣，并具有0.05sccm的最終降低。在氧氣流速降至0.25sccm以后，沉積過(guò)程繼續(xù)進(jìn)行附加的3小時(shí)，且在層中只形成AlN。換言之，當(dāng)氧氣以0.25sccm流動(dòng)時(shí)所形成的亞層中包含AlN。在整個(gè)沉積處理過(guò)程中，氮?dú)夂蜌鍤獾牧魉俸愣ㄇ覊毫愣?。在沉積過(guò)程中或流速、RF功率或DC功率的任何改變之間都不進(jìn)行清潔步驟。比較例10A包含單一AlOxNy層。包含實(shí)施例10的SiuAlvOxNy的層的厚度與比較例10A的AlOxNy單層的厚度相同。實(shí)施例10使用硅鈀和鋁靶以及氮?dú)夂脱鯕馔ㄟ^(guò)濺射來(lái)形成。比較例10A(無(wú)梯度)采用與實(shí)施例10的層相似的方式形成；但是只使用鋁靶且使用氧氣和氮?dú)狻D28顯示了包含SiuAlvOxNy梯度的實(shí)施例10的層以及無(wú)這類梯度的比較例10A的層的透射率％。當(dāng)與比較例10A的無(wú)梯度的層相比時(shí)，實(shí)施例10的層在可見(jiàn)光譜內(nèi)展現(xiàn)出平坦的透射光譜。換言之，實(shí)施例10的層顯示透射率％波動(dòng)的振幅相對(duì)于比較例10A的均勻?qū)佑兴鶞p弱。如圖28所示，實(shí)施例10的層在可見(jiàn)光譜內(nèi)的透射率基本上恒定或不發(fā)生超過(guò)大約4％的變化。作為比較，比較例10A的AlOxNy層的透射率％顯示出波動(dòng)，透射率％在可見(jiàn)光譜內(nèi)在低至大約78％～高至大約93％的范圍內(nèi)變化。實(shí)施例10的梯度層還展現(xiàn)出如本文其它部分所述的耐劃痕性。無(wú)意受限于理論，據(jù)信，當(dāng)含氧量沿著層的厚度線性降低時(shí)，本文所述的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)以及包含含鋁量梯度、含硅量梯度、含氮量梯度和/或含氧量梯度的層(例如第一層422和/或第一亞層526和/或?qū)嵤├?和實(shí)施例10的層)的反射率％振幅的波動(dòng)可降至大約為0。實(shí)施例11在以下實(shí)施例中，設(shè)計(jì)了設(shè)置在玻璃基材上的三層式光學(xué)膜結(jié)構(gòu)。利用各種模型，采用與實(shí)施例1～8相同的方式，在可見(jiàn)光譜內(nèi)對(duì)該光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和玻璃基材的透射和反射進(jìn)行評(píng)價(jià)。再次使用橢圓光度法對(duì)三層式光學(xué)膜結(jié)構(gòu)中各層的折射率和消光系數(shù)進(jìn)行表征。在已知建模工具(例如薄膜設(shè)計(jì)代碼)中使用各層的折射率和消光系數(shù)信息，以確定該光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材的光學(xué)特性。使用與實(shí)施例1～8中所用的基材相同的基材，采用與實(shí)施例1～8相同的方式來(lái)形成該光學(xué)膜結(jié)構(gòu)。在實(shí)施例11中，一種光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的阻抗匹配層包含包裹具有高折射率和相對(duì)高硬度的層的Al2O3和SiO2層。具體而言，該光學(xué)膜結(jié)構(gòu)包含Al2O3第一亞層、AlOxNy第二亞層和SiO2第二層。如上所述，基于測(cè)得的折射率和消光系數(shù)，使用建模來(lái)改變Al2O3和SiO2層的厚度。AlOxNy層的厚度恒定在2μm。對(duì)于SiO2和Al2O3層的每個(gè)厚度，預(yù)測(cè)這些樣品的L*a*b*色坐標(biāo)。圖29A顯示了根據(jù)實(shí)施例11的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材的a*反射色彩性能的等值線圖。在該等值線圖中，0值表明光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材的反射的組合是無(wú)色的。SiO2層和Al2O3層的合適的厚度包括沿著實(shí)線R(a*＝0.5)和虛線R(a*＝-0.5)之間的等值線的厚度，或者在一些例子中，包括兩條虛線R(a*＝0)之間的等值線的厚度。當(dāng)具有這些厚度的SiO2和Al2O3層與2μm的AlOxNy層組合時(shí)，光學(xué)膜和基材會(huì)展現(xiàn)出大約-0.5～大約0.5范圍內(nèi)的a*值，這會(huì)反過(guò)來(lái)限制光學(xué)膜和基材的色坐標(biāo)與色坐標(biāo)(a*＝0,b*＝0)之間的距離或色偏。對(duì)于厚度在0nm～500nm之間的Al2O3，合適的SiO2層厚度的例子包括大約0nm～大約60nm，更具體而言，Al2O3和/或SiO2層的厚度落入實(shí)線(a*＝0.5)與虛線(a*＝-0.5)之間。在一種或多種實(shí)施方式中，對(duì)于厚度在0nm～500nm之間的Al2O3，SiO2層的合適的厚度還可包括大約0nm～大約150nm范圍的厚度；但是，使用落入實(shí)線R(a*＝0.5)與虛線R(a*＝-0.5)之間的層厚度的更寬的范圍內(nèi)的厚度能夠在制造中提供更高的靈活性(即較小的厚度變化不會(huì)對(duì)a*值產(chǎn)生大的影響)。為此，0nm～60nm之間的SiO2的厚度和0nm～200nm之間的Al2O3層厚度可向光學(xué)膜厚度變化提供更大的公差，同時(shí)提供光學(xué)膜和基材的組合，所述組合展現(xiàn)出大約-0.5～大約0.5范圍內(nèi)的a*值、以及離色坐標(biāo)(a*＝0,b*＝0)具有最短距離或色偏的色坐標(biāo)。圖29B顯示了根據(jù)實(shí)施例11的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和下方基材的a*反射色彩性能的等值線圖，其中的等值線顯示出光學(xué)膜結(jié)構(gòu)與基材的組合與(無(wú)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的)裸露基材之間的差異。在該等值線圖中，所繪量的0值表示光學(xué)膜結(jié)構(gòu)與基材的組合具有與裸露基材相同的色坐標(biāo)。如圖29B所示，等值線發(fā)生偏移以適應(yīng)基材。所以，位于實(shí)線R(a*＝0.5)與虛線R(a*＝-0.5)之間或在一些例子中位于兩條虛線R(a*＝-0.5)之間的SiO2和Al2O3層的厚度是從圖29A所示的那些厚度修改得到的。當(dāng)具有這些厚度的SiO2和Al2O3層與2μm的AlOxNy層組合時(shí)，光學(xué)膜和基材的組合會(huì)展現(xiàn)出大約-0.5～大約0.5范圍內(nèi)的a*值，這會(huì)反過(guò)來(lái)限制光學(xué)膜和基材的組合的色坐標(biāo)與(無(wú)光學(xué)膜的)裸露基材的色坐標(biāo)之間的距離或色偏。對(duì)于厚度在0nm～500nm之間的Al2O3，合適的SiO2層厚度的例子包括大約0nm～大約60nm，更具體而言，Al2O3和/或SiO2層的具體厚度落入實(shí)線(a*＝0.5)與虛線(a*＝-0.5)之間。在一種或多種實(shí)施方式中，對(duì)于厚度在0nm～500nm之間的Al2O3，SiO2層的合適的厚度還可包括大約0nm～大約140nm范圍的厚度；但是，使用落入實(shí)線R(a*＝0.5)與虛線R(a*＝-0.5)之間的層厚度的更寬的范圍內(nèi)的厚度能夠在制造中提供更高的靈活性(即較小的厚度變化不會(huì)對(duì)a*值產(chǎn)生大的影響)。為此，使用厚度在大約0nm～大約60nm范圍的SiO2層和厚度在大約0nm～大約200nm范圍內(nèi)的Al2O3層可向光學(xué)膜厚度的變化提供更大的公差，同時(shí)提供光學(xué)膜和基材的組合，所述組合展現(xiàn)出大約-0.5～大約0.5范圍內(nèi)的a*值。當(dāng)與基材相結(jié)合時(shí)，在光學(xué)膜中使用這類SiO2和Al2O3層和2μm厚的AlOxNy層會(huì)提供一種制品，所述制品展現(xiàn)出離色坐標(biāo)(a*＝0,b*＝0)的距離或色偏較近(例如＜2)的色坐標(biāo)。圖29C顯示了根據(jù)實(shí)施例11的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材的b*反射色彩性能的等值線圖。在該等值線圖中，0值表明光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材的組合是無(wú)色的。SiO2層和Al2O3層的合適的厚度包括沿著實(shí)線R(b*＝0.5)和虛線R(b*＝-0.5)之間的等值線的厚度，或者在一些例子中，包括兩條虛線R(b*＝-0.5)之間的等值線的厚度。當(dāng)具有這些厚度的SiO2和Al2O3層與2μm的AlOxNy層組合時(shí)，光學(xué)膜和基材的組合會(huì)展現(xiàn)出大約-0.5～大約0.5范圍內(nèi)的b*值，這會(huì)反過(guò)來(lái)限制離色坐標(biāo)(a*＝0,b*＝0)的距離或色偏。對(duì)于厚度在0nm～大約500nm之間的Al2O3層，合適的SiO2層厚度的例子包括大約0～大約40nm、或大約170nm～大約175nm，更具體而言，Al2O3和SiO2層的厚度落入實(shí)線R(b*＝0.5)與虛線R(b*＝-0.5)之間?？墒褂煤穸葹榇蠹s175nm的SiO2層，其可提供具有改善的b*反射色彩性能的光學(xué)膜和基材的組合；但是，該厚度的任何偏差都可導(dǎo)致b*值發(fā)生變化。圖29D顯示了根據(jù)實(shí)施例11的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材的b*反射色彩性能的等值線圖。該等值線圖中的等值線顯示出光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材的組合與(無(wú)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的)裸露基材之間的差異。在該等值線圖中，所繪量的0值表示光學(xué)膜結(jié)構(gòu)與基材的組合具有與裸露基材相同的色坐標(biāo)。如圖29D所示，等值線發(fā)生偏移以適應(yīng)基材。所以，位于實(shí)線R(b*＝0.5)與虛線R(b*＝-0.5)之間或在一些例子中位于兩條虛線R(b*＝-0.5)之間的SiO2和Al2O3層的厚度是從圖29C所示的那些厚度修改得到的。當(dāng)具有這些厚度的SiO2和Al2O3層與2μm的AlOxNy層組合時(shí)，光學(xué)膜和基材的組合會(huì)展現(xiàn)出大約-0.5～大約0.5范圍內(nèi)的b*值，這會(huì)反過(guò)來(lái)限制光學(xué)膜和基材的組合的色坐標(biāo)與(無(wú)光學(xué)膜的)裸露基材的色坐標(biāo)之間的距離或色偏。對(duì)于厚度在0nm～大約500nm之間的Al2O3層，合適的SiO2層厚度的例子包括0～大約30nm、或大約170nm～大約175nm，更具體而言，Al2O3和SiO2的厚度都落入實(shí)線R(b*＝0.5)與虛線R(b*＝-0.5)之間。與圖29C相比，Al2O3層的厚度和厚度范圍在圖29D中沒(méi)有明顯變化。圖29E顯示了SiO2和Al2O3層的厚度，其中，制品(包含光學(xué)膜和基材)的反射色坐標(biāo)與色坐標(biāo)(a*＝0,b*＝0)之間的距離或色偏小于大約1、小于大約0.5、小于大約0.2且小于大約0.1。圖29E顯示，當(dāng)具有以下各層的光學(xué)膜與2μm厚的AlOxNy層結(jié)合時(shí)，會(huì)展現(xiàn)出離色坐標(biāo)(a*＝0,b*＝0)的距離或色偏小于大約1的反射的色坐標(biāo)：厚度在大約0nm～大約50nm范圍內(nèi)的SiO2層和厚度在大約0nm～大約180nm范圍內(nèi)的Al2O3層，更具體而言，落入實(shí)線d＝0.1與虛線d＝1.0之間的Al2O3和/或SiO2層厚度。在另一個(gè)例子中，厚度在大約0nm～大約50nm范圍內(nèi)的SiO2層、厚度在大約0nm～大約500nm范圍內(nèi)的Al2O3層、2μm厚的AlOxNy層和玻璃基材的組合也會(huì)展現(xiàn)出所需的反射色彩性能。在另一個(gè)例子中，厚度在大約75nm～大約100nm范圍內(nèi)的SiO2層、厚度在大約250nm～大約500nm范圍內(nèi)的Al2O3層、2μm厚的AlOxNy層和玻璃基材的組合也會(huì)展現(xiàn)出所需的反射色彩性能；盡管SiO2和Al2O3層的這些厚度范圍允許在厚度變化中具有更小的公差，但是發(fā)現(xiàn)光學(xué)膜和基材的組合的透射相對(duì)于一些其它厚度有所改善。圖29F顯示了SiO2和Al2O3層的厚度，其中，制品的色坐標(biāo)與基材的色坐標(biāo)之間的距離或色偏小于大約1、小于大約0.5、小于大約0.2，小于大約0.1。圖29F顯示，當(dāng)玻璃基材與具有2μm厚的AlOxNy層、厚度在大約0nm～大約30nm或35nm范圍內(nèi)的SiO2層和厚度在大約0nm～大約170nm范圍內(nèi)的Al2O3層(更具體而言，Al2O3和SiO2的厚度落入實(shí)線d＝0.1與虛線d＝1.0之間)的光學(xué)膜結(jié)合時(shí)，會(huì)展現(xiàn)出離基材的色坐標(biāo)的距離或色偏小于大約1的反射的色坐標(biāo)。另一個(gè)例子包含基材和光學(xué)膜，所述光學(xué)膜具有2μm厚的AlOxNy層的、厚度在大約30nm～大約40nm范圍內(nèi)的SiO2層和厚度在大約260nm～大約290nm范圍內(nèi)的Al2O3層。另一個(gè)例子包含基材和光學(xué)膜，所述光學(xué)膜具有2μm厚的AlOxNy層、厚度在大約20nm～大約40nm范圍內(nèi)的SiO2層和厚度在大約420nm～大約450nm范圍內(nèi)的Al2O3層。圖30A顯示了根據(jù)實(shí)施例11的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材的a*透射色彩性能的等值線圖。在該等值線圖中，0值表明光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材的組合是無(wú)色的。SiO2層和Al2O3層的合適厚度包括沿著實(shí)線T(a*＝0.5)與虛線T(a*＝-0.5)之間的等值線的厚度，或在一些例子中，包括沿著兩條虛線T(a*＝-0.5)之間的等值線的厚度，當(dāng)其與光學(xué)膜中2μm厚的AlOxNy層組合時(shí)，會(huì)提供大約-0.5～大約0.5范圍內(nèi)的a*值。當(dāng)具有這些厚度的SiO2和Al2O3層與2μm的AlOxNy層組合時(shí)，光學(xué)膜會(huì)展現(xiàn)出大約-0.5～大約0.5范圍內(nèi)的a*值，這會(huì)反過(guò)來(lái)限制光學(xué)膜和基材的色坐標(biāo)與色坐標(biāo)(a*＝0,b*＝0)之間的距離或色偏。對(duì)于厚度在0nm～大約500nm之間的Al2O3層，合適的SiO2層厚度的例子包括大約0～大約160nm，更具體而言，Al2O3和SiO2的具體厚度都落入實(shí)線T(a*＝0.5)與虛線T(a*＝-0.5)之間。不提供所需的a*透射的厚度的例子包括厚度在大約65nm～大約105nm范圍內(nèi)的SiO2層與厚度在大約10nm～大約120nm范圍內(nèi)的Al2O3層的組合、厚度在大約20nm～大約140nm范圍內(nèi)的SiO2層與厚度在大約185nm～大約275nm范圍內(nèi)的Al2O3層的組合、或厚度在大約0nm～大約125nm范圍內(nèi)的SiO2層與厚度在大約350nm～大約420nm范圍內(nèi)的Al2O3層的組合，因?yàn)檫@些厚度范圍和組合都落入了兩條虛線T(a*＝-0.5)之間。圖30B顯示了根據(jù)實(shí)施例11的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材的a*透射色彩性能的等值線圖。這些等值線顯示出光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材的組合與(無(wú)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的)裸露基材之間的差異。在該等值線圖中，所繪量的0值表示光學(xué)膜結(jié)構(gòu)與基材的組合具有與裸露基材相同的色坐標(biāo)。如圖30B所示，等值線發(fā)生偏移以適應(yīng)基材。所以，位于實(shí)線T(a*＝0.5)與虛線T(a*＝-0.5)之間或在一些例子中位于兩條虛線T(a*＝-0.5)之間的SiO2和Al2O3層的厚度是從圖30A所示的那些厚度修改得到的。當(dāng)具有這些厚度的SiO2和Al2O3層與2μm的AlOxNy層組合時(shí)，光學(xué)膜和基材會(huì)展現(xiàn)出大約-0.5～大約0.5范圍內(nèi)的a*值，這會(huì)反過(guò)來(lái)限制光學(xué)膜和基材的色坐標(biāo)與(無(wú)光學(xué)膜的)裸露基材的色坐標(biāo)之間的距離或色偏。對(duì)于厚度在0nm～大約500nm之間的Al2O3層，合適的SiO2層厚度的例子包括大約0～大約160nm，更具體而言，Al2O3層和/或SiO2層的厚度落入實(shí)線T(a*＝0.5)與虛線T(a*＝-0.5)之間。不提供所需的a*透射的厚度的例子包括厚度在大約65nm～大約105nm范圍內(nèi)的SiO2層與厚度在大約0nm～大約120nm范圍內(nèi)的Al2O3層的組合、厚度在大約20nm～大約120nm范圍內(nèi)的SiO2層與厚度在大約190nm～大約275nm范圍內(nèi)的Al2O3層的組合、或厚度在大約0nm～大約125nm范圍內(nèi)的SiO2層與厚度在大約330nm～大約420nm范圍內(nèi)的Al2O3層的組合，因?yàn)檫@些厚度范圍和組合都落入了兩條虛線T(a*＝-0.5)之間。圖30C顯示了根據(jù)實(shí)施例11的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材的b*透射色彩性能的等值線圖。在該等值線圖中，0值表明光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材的組合是無(wú)色的。SiO2層和Al2O3層的合適的厚度包括沿著實(shí)線T(b*＝0.5)和虛線T(b*＝-0.5)之間的等值線的厚度，或者在一些例子中，包括兩條虛線T(b*＝-0.5)之間的等值線的厚度。當(dāng)具有這些厚度的SiO2和Al2O3層與2μm的AlOxNy層組合時(shí)，光學(xué)膜和基材的組合會(huì)展現(xiàn)出大約-0.5～大約0.5范圍內(nèi)的b*值，這會(huì)反過(guò)來(lái)限制光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材的色坐標(biāo)與色坐標(biāo)(a*＝0,b*＝0)之間的距離或色偏。對(duì)于厚度在0nm～大約500nm之間的Al2O3層，合適的SiO2層厚度的例子包括大約0～大約90nm，更具體而言，Al2O3層和/或SiO2層的厚度落入實(shí)線T(b*＝0.5)與虛線T(b*＝-0.5)之間。不提供所需的b*透射的厚度的例子包括厚度在大約20nm～大約80nm范圍內(nèi)的SiO2層與厚度在大約0nm～大約250nm范圍內(nèi)的Al2O3層的組合、厚度在大約20nm～大約80nm范圍內(nèi)的SiO2層與厚度在大約260nm～大約500nm范圍內(nèi)的Al2O3層的組合、或厚度在大約0nm～大約25nm范圍內(nèi)的SiO2層與厚度在大約80nm～大約150nm、大約220nm～大約290nm或大約380nm～大約440nm范圍內(nèi)的Al2O3層的組合，因?yàn)檫@些厚度范圍和組合都落入了兩條虛線T(b*＝-0.5)之間或兩條實(shí)線T(b*＝0.5)之間。圖30D顯示了根據(jù)實(shí)施例11的光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材的b*反射色彩性能的等值線圖。這些等值線顯示出光學(xué)膜結(jié)構(gòu)和基材的組合與(無(wú)光學(xué)膜結(jié)構(gòu)的)裸露基材之間的差異。在該等值線圖中，所繪量的0值表示光學(xué)膜結(jié)構(gòu)與基材的組合具有與裸露基材相同的色坐標(biāo)。如圖30D所示，等值線發(fā)生偏移以適應(yīng)基材。所以，位于實(shí)線T(b*＝0.5)與虛線T(b*＝-0.5)之間或在一些例子中位于兩條虛線T(b*＝-0.5)之間的SiO2和Al2O3層的厚度是從圖30C所示的那些厚度修改得到的。當(dāng)具有這些厚度的SiO2和Al2O3層與2μm的AlOxNy層組合時(shí)，光學(xué)膜會(huì)展現(xiàn)出大約-0.5～大約0.5范圍內(nèi)的b*值，這會(huì)反過(guò)來(lái)限制光學(xué)膜和基材的組合的色坐標(biāo)與(無(wú)光學(xué)膜的)裸露基材的色坐標(biāo)之間的距離或色偏。對(duì)于厚度在0nm～大約500nm之間的Al2O3層，合適的SiO2層厚度的例子包括大約0～大約40nm、大約70nm～大約100nm、或大約160nm～大約175nm，更具體而言，Al2O3和/或SiO2層的厚度落入實(shí)線T(b*＝0.5)與虛線T(b*＝-0.5)之間。不提供所需的b*透射的厚度的例子包括厚度在大約0nm～大約80nm范圍內(nèi)的SiO2層與厚度在大約0nm～大約500nm范圍內(nèi)的Al2O3層的組合、厚度在大約80nm～大約170nm范圍內(nèi)的SiO2層與厚度在大約0nm～大約500nm范圍內(nèi)的Al2O3層的組合、厚度在大約0nm～大約25nm范圍內(nèi)的SiO2層與厚度在大約100nm～大約130nm、或大約230nm～大約290nm或大約390nm～大約420nm范圍內(nèi)的Al2O3層的組合，因?yàn)檫@些厚度范圍和組合中的一些落入了兩條虛線T(b*＝-0.5)之間或兩條實(shí)線T(b*＝0.5)之間。圖30E顯示了SiO2和Al2O3層的厚度，其中，制品(包含光學(xué)膜和基材)的反射色坐標(biāo)與色坐標(biāo)(a*＝0,b*＝0)之間的距離或色偏小于大約1、小于大約0.5、小于大約0.2且小于大約0.1。圖30E顯示了一種光學(xué)膜，其中，SiO2層和Al2O3層的厚度都很小，該光學(xué)膜與2μm厚的AlOxNy層組合時(shí)會(huì)展現(xiàn)出離色坐標(biāo)(a*＝0,b*＝0)的距離或色偏大于大約1的透射的色坐標(biāo)。例如，當(dāng)具有厚度在大約0nm～大約50nm范圍內(nèi)的SiO2層和厚度在大約0nm～大約500nm范圍內(nèi)的Al2O3層(更具體而言，Al2O3和/或SiO2厚度落入實(shí)線d＝0.1與虛線d＝1.0之間)的光學(xué)膜與2μm厚的AlOxNy層結(jié)合時(shí)，會(huì)展現(xiàn)出離色坐標(biāo)(a*＝0,b*＝0)的距離或色偏小于大約1的透射的色坐標(biāo)。在另一個(gè)例子中，SiO2層的厚度可為大約0nm～大約50nm，而Al2O3層的厚度可為大約0nm～大約220nm，更具體而言，Al2O3層和/或SiO2層的厚度落入實(shí)線d＝0.1與虛線d＝1.0之間。在另一個(gè)例子中，SiO2層的厚度可為大約60nm～大約100nm，而Al2O3層的厚度可為大約100nm～大約500nm，更具體而言，Al2O3層和/或SiO2層的厚度落入實(shí)線d＝0.1與虛線d＝1.0之間。圖30F顯示了SiO2和Al2O3層的厚度，其中，制品的色坐標(biāo)與基材的色坐標(biāo)之間的距離或色偏小于大約1、小于大約0.5、小于大約0.2且小于大約0.1。圖30F顯示，基材和具有2μm厚的AlOxNy層、厚度在大約0nm～大約50nm范圍內(nèi)的SiO2層和厚度在大約0nm～大約200nm范圍內(nèi)的Al2O3層(更具體而言，Al2O3和/或SiO2層的厚度落入實(shí)線d＝0.1與虛線d＝1.0之間)的光學(xué)膜會(huì)展現(xiàn)出離裸露基材的色坐標(biāo)的距離或色偏小于大約1的透射的色坐標(biāo)。在另一個(gè)例子中，SiO2層的厚度可為大約70nm～大約100nm，而Al2O3層的厚度可為大約100nm～大約500nm，更具體而言，Al2O3層和/或SiO2層的厚度落入實(shí)線d＝0.1與虛線d＝1.0之間。在圖29A～圖29F和圖30A～圖30F中，使用a*和b*在-0.5～0.5范圍內(nèi)且d為0.1、0.2、0.5和1的等值線，以例示實(shí)現(xiàn)本文所述的光學(xué)性質(zhì)的各種設(shè)計(jì)參數(shù)。應(yīng)當(dāng)注意的是，可使用范圍更大的等值線(例如a*或b*在大約-1～大約1或大約-2～大約2的范圍內(nèi)，或d＝1.5、2、2.5等)，這取決于感興趣的發(fā)光度和/或觀察者的偏好(例如一些觀察者發(fā)現(xiàn)a*、b*的更大的變化、a*和b*的組合的更大的變化以及更大的距離d是可接受的)。實(shí)施例12實(shí)施例12A通過(guò)使用經(jīng)過(guò)化學(xué)強(qiáng)化的鋁硅酸鹽玻璃基材來(lái)形成，且展現(xiàn)出范圍在大約700MPa～大約900MPa內(nèi)的壓縮應(yīng)力、以及范圍在大約40大約40μm～大約50μm內(nèi)的壓縮應(yīng)力層深度。實(shí)施例12A包含光學(xué)膜結(jié)構(gòu)，所述光學(xué)膜結(jié)構(gòu)包含設(shè)置在基材上的厚度為大約115nm的Al2O3第一亞層、設(shè)置在第一亞層上的厚度為大約2000nm的AlOxNy第二亞層、和設(shè)置在第二亞層上的厚度為大約32nm的SiO2第二層。比較例12B包含與實(shí)施例12A相同的基材，但是未經(jīng)涂覆。比較例12C包含與實(shí)施例12A相同的基材、以及設(shè)置在該基材上的厚度為大約10nm的疏水性低摩擦氟硅烷涂層。比較例12D～12F包含與實(shí)施例12A相同的基材、以及厚度為186nm(12D)或478nm(12E)的SiuAlvOxNy單層、或者厚度為294nm(12F)的AlOxNy單層。實(shí)施例12A和比較例12D～12F上的涂層通過(guò)使用從金屬靶的反應(yīng)性DC濺鍍或同時(shí)使用從金屬靶的反應(yīng)性DC和RF濺鍍來(lái)形成。應(yīng)當(dāng)注意的是，AlOxNy的各層常?？杀籗iuAlvOxNy層的各層所取代，且可通過(guò)使用與形成這些層相同或相似的工藝來(lái)形成。SiuAlvOxNy和AlOxNy層都可制成在550nm處具有大約1.95～2.05的折射率以及具有大于15GPa的測(cè)得的硬度，所述硬度通過(guò)布氏壓痕硬度測(cè)試沿著大約100nm或更深的壓痕深度測(cè)得。表9顯示了這些樣品經(jīng)過(guò)泰伯爾測(cè)試后的散射光強(qiáng)度(CCBTDF，1/球面度)和透射霧度(8mm孔)。表9還顯示了實(shí)施例12A和比較例12B-F的平均散射光強(qiáng)度值和霧度值，以作為基線。磨損測(cè)試后，更低的散射光強(qiáng)度和更低的霧度對(duì)應(yīng)于更少的可見(jiàn)劃痕和更少的可見(jiàn)損傷。泰伯爾測(cè)試后，實(shí)施例12A具有最低的散射光強(qiáng)度和霧度，表明其對(duì)多次接觸事件損傷具有優(yōu)異的耐受性。表9：實(shí)施例12A和比較例12B～12F的散射光強(qiáng)度和霧度測(cè)量結(jié)果對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員而言，顯而易見(jiàn)的是可以在不偏離本發(fā)明的精神和范圍的情況下對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種修改和變動(dòng)。