一種玻璃鈍化器件光刻機(jī)的自動(dòng)對(duì)位裝置制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種玻璃鈍化器件光刻機(jī)的自動(dòng)對(duì)位裝置，包括光刻機(jī)模板和光源，所述光刻機(jī)模板，模板的一次相模對(duì)應(yīng)點(diǎn)，設(shè)置為二個(gè)正方形對(duì)應(yīng)點(diǎn)，二次相模對(duì)應(yīng)點(diǎn)右移一位后設(shè)置為小圓點(diǎn)對(duì)應(yīng)點(diǎn)，三次相模對(duì)應(yīng)點(diǎn)，設(shè)置為小圓點(diǎn)對(duì)應(yīng)點(diǎn)；所述光源，設(shè)置為同軸的二個(gè)紅外光源，即在中心光源的外圍，有輔助光源。具有提高了對(duì)位精度，又大大提高了生產(chǎn)效率，通用性好的優(yōu)點(diǎn)。
【專利說明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體玻璃鈍化器件光刻【技術(shù)領(lǐng)域】。 一種玻璃鈍化器件光刻機(jī)的自動(dòng)對(duì)位裝置

【背景技術(shù)】
[0002] 目前，半導(dǎo)體玻璃鈍化器件光刻技術(shù)，玻璃鈍化、立體結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體器件光刻工 藝，如附圖1所不現(xiàn)有光刻機(jī)模板的不意圖，圖中的一次相模板1的對(duì)應(yīng)點(diǎn)2,二次相模板3 的對(duì)應(yīng)點(diǎn)4,以及三次相模板5的對(duì)應(yīng)點(diǎn)6,采用人工對(duì)位方式，人工對(duì)位精確性差，效率低， 影響晶片制造品質(zhì)及單位成本。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003] 為解決前述光刻機(jī)存在的問題，本實(shí)用新型提供一種玻璃鈍化器件光刻機(jī)的自動(dòng) 對(duì)位
[0004] 裝置，包括光刻機(jī)模板和光源，所述光刻機(jī)模板，模板的一次相模對(duì)應(yīng)點(diǎn)，設(shè)置為 二個(gè)
[0005] 正方形對(duì)應(yīng)點(diǎn)，二次相模對(duì)應(yīng)點(diǎn)右移一位后設(shè)置為小圓點(diǎn)對(duì)應(yīng)點(diǎn)，三次相模對(duì)應(yīng) 點(diǎn)，設(shè)
[0006] 置為小圓點(diǎn)對(duì)應(yīng)點(diǎn)；所述光源，設(shè)置為同軸的二個(gè)紅外光源，即在中心光源的外 圍，有
[0007] 輔助光源。
[0008] 本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是，紅外線輔助內(nèi)外同軸光源，增加玻璃光刻膠表面材料透過 率，降低表面材料反光影響，有利于圖像傳感器對(duì)電子或半導(dǎo)體功率芯片器件結(jié)構(gòu)與光刻 模板圖像辨識(shí)、比對(duì)；采用新設(shè)計(jì)的光刻模板和同軸光源，能夠?qū)崿F(xiàn)自動(dòng)對(duì)位，實(shí)現(xiàn)光刻過 程自動(dòng)化，既提高了對(duì)位精度，又大大提高了生產(chǎn)效率?？蛇m用于多種型號(hào)的電子或半導(dǎo)體 功率芯片器件，對(duì)具有立體結(jié)構(gòu)或表面材料存在反光器件的都具有通用性。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0009] 圖1是現(xiàn)有光刻機(jī)模板示意圖；
[0010] 圖2是本實(shí)用新型的光刻機(jī)模板示意圖；
[0011] 圖3是同軸二個(gè)光源結(jié)構(gòu)圖；
[0012] 圖中標(biāo)號(hào)說明；
[0013] 1- -次相模板；2- -次相模板對(duì)應(yīng)點(diǎn)；3-二次相模板；4-二次相模板對(duì)應(yīng)點(diǎn)； 5-三次相模板；6-三次相模板對(duì)應(yīng)點(diǎn)；7、8_二個(gè)方形相模板對(duì)應(yīng)點(diǎn)；9、10-小圓點(diǎn)對(duì)應(yīng)點(diǎn)；
[0014] 11-同軸輔助光源；12-同軸中心主光源；13-輔助光源的光；14-中心主光源的 光。

【具體實(shí)施方式】
[0015] 請(qǐng)參閱附圖1、2所示，本實(shí)用新型模板的一次相模板1對(duì)應(yīng)點(diǎn)，設(shè)置為二個(gè)正方形 對(duì)應(yīng)點(diǎn)7、8,二次相模板3對(duì)應(yīng)點(diǎn)，右移一位后設(shè)置為小圓點(diǎn)對(duì)應(yīng)點(diǎn)9,三次相模板5對(duì)應(yīng) 點(diǎn)，設(shè)置為小圓點(diǎn)對(duì)應(yīng)點(diǎn)10 ;所述光源，設(shè)置為同軸的二個(gè)紅外光源11、12,即在中心光源 12發(fā)出的紅外光14的外圍，設(shè)有輔助光源11發(fā)出的紅外光13。
[0016] 在光刻對(duì)位時(shí)，采用紅外輔助光源、晶片上方形對(duì)位點(diǎn)（酸蝕刻及表面材料覆蓋已 不規(guī)則）中心，與光刻模板上圓形對(duì)位點(diǎn)中心精確定位，調(diào)整晶片使晶片兩對(duì)位中心與光刻 模板兩對(duì)位中心重合實(shí)現(xiàn)光刻的對(duì)位。采用方形一次相對(duì)位點(diǎn)避免酸蝕刻造成結(jié)構(gòu)變化使 中心定位偏差，二三次對(duì)位點(diǎn)采用小的圓形增加對(duì)位區(qū)域一次對(duì)位點(diǎn)清晰度及中心點(diǎn)準(zhǔn) 確計(jì)算；二三次相對(duì)位點(diǎn)分開避免玻璃工藝后結(jié)果對(duì)三次對(duì)位的影響。從而保證對(duì)位精確 性玻璃鈍化器件自動(dòng)化光刻可行。
【權(quán)利要求】
1. 一種玻璃鈍化器件光刻機(jī)的自動(dòng)對(duì)位裝置，包括光刻機(jī)模板和光源，其特征在于，所 述光刻機(jī)模板，模板的一次相模對(duì)應(yīng)點(diǎn)，設(shè)置為二個(gè)正方形對(duì)應(yīng)點(diǎn)，二次相模對(duì)應(yīng)點(diǎn)右移一 位后設(shè)置為小圓點(diǎn)對(duì)應(yīng)點(diǎn)，三次相模對(duì)應(yīng)點(diǎn)，設(shè)置為小圓點(diǎn)對(duì)應(yīng)點(diǎn)；所述光源，設(shè)置為同軸 的二個(gè)紅外光源，即在中心光源的外圍，有輔助光源。
【文檔編號(hào)】G03F7/20GK203909469SQ201420279753
【公開日】2014年10月29日 申請(qǐng)日期:2014年5月29日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月29日
【發(fā)明者】孫鎮(zhèn)江, 葉海峰, 張繼穩(wěn), 吳愛國(guó), 魏敦林, 郝昌玲 申請(qǐng)人:上海旭福電子有限公司, 敦南微電子（無錫）有限公司, 敦南科技（無錫）有限公司