成像裝置制造方法
【專利摘要】一種成像裝置，包括驅(qū)動(dòng)器，所述驅(qū)動(dòng)器在反射器的物側(cè)驅(qū)動(dòng)前透鏡元件以減弱圖像抖動(dòng)。所述驅(qū)動(dòng)器包括音圈馬達(dá)，每一個(gè)音圈馬達(dá)具有線圈和永久磁鐵。線圈和磁鐵組合放置在第一參考平面的每個(gè)相對(duì)側(cè)上。每個(gè)永久磁鐵和線圈的中心放置在第二參考平面的一側(cè)上，該第二參考平面包括第一光軸并且垂直于第一參考平面，第二光軸在第二參考平面的另一側(cè)上延伸。永久磁鐵的磁極邊界線傾斜以接近背離第二參考平面的第一參考平面。磁性傳感器放置在各個(gè)線圈與第一透鏡元件側(cè)的相對(duì)側(cè)上。本實(shí)用新型實(shí)現(xiàn)成像裝置的小型化及厚度的減小。
【專利說明】成像裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種配備有防抖(圖像抖動(dòng)校正/圖像穩(wěn)定/抖動(dòng)減弱)系統(tǒng)的成
像裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來(lái)，主要為拍攝靜態(tài)/動(dòng)態(tài)攝影圖像設(shè)計(jì)的移動(dòng)電子設(shè)備(比如，數(shù)字照相機(jī)(靜態(tài)視頻照相機(jī))和數(shù)字?jǐn)z像機(jī)(動(dòng)態(tài)視頻照相機(jī)))，以及設(shè)計(jì)為能夠?qū)⑴臄z這樣的攝影圖像作為輔助功能的其他移動(dòng)電子設(shè)備(比如，配備有照相機(jī)的移動(dòng)電話以及配備有照相機(jī)的平板電腦等)已經(jīng)成為較為普遍，并且存在一種使包含在這些類型的移動(dòng)電子設(shè)備中的成像單元小型化的需求。為了使成像單元小型化，已知的是構(gòu)造一種在彎曲光學(xué)系統(tǒng)之外的成像單元的光學(xué)系統(tǒng)，該彎曲光學(xué)系統(tǒng)利用反射物(比如棱鏡或鏡子)的反射表面來(lái)反射(彎曲)光線。在成像單元中利用彎曲光學(xué)系統(tǒng)使得能夠獲得成像單元的厚度的減少，特別是在從待拍攝的物體發(fā)射的入射光的行進(jìn)方向中。
[0003]此外，存在一種需求用于為成像單元配備所謂的防抖(圖像抖動(dòng)校正/圖像穩(wěn)定/抖動(dòng)減弱)系統(tǒng)，其設(shè)計(jì)為減弱在由振動(dòng)(手部抖動(dòng))造成的在圖像平面上的圖像抖動(dòng)。作為利用配備有防抖系統(tǒng)的彎曲光學(xué)系統(tǒng)的成像單元，在現(xiàn)有技術(shù)中已知下面的四種不同類型的成像單元:第一種類型(在日本未審查專利公開第2009-86319和2008-268700號(hào)中公開)，其中圖像傳感器在垂直于圖像平面的方向上移動(dòng)以減弱圖像抖動(dòng)；第二種類型(在日本未審查專利公開第2010-128384號(hào)和日本專利第4，789, 655號(hào)中公開)，其中設(shè)置在具有反射表面的反射物(在圖像平面?zhèn)壬?之后的透鏡在垂直于光軸的方向上移動(dòng)以減弱圖像抖動(dòng)；第三種類型(在日本未審查專利公開第2007-228005、2010-204341、2006-330439號(hào)和日本專利第4，717，529號(hào)中公開)，其中改變反射物(其反射表面)的角度和與該反射物鄰近的透鏡的角度以減弱圖像抖動(dòng)；以及第四種類型(在日本未審查專利公開第2006-166202和2006-259247號(hào)中公開)，其中傾斜/歪斜全部成像單元以減弱圖像抖動(dòng)。
[0004]在現(xiàn)有技術(shù)中已知利用音圈馬達(dá)(VCM)的防抖系統(tǒng)，其通過穿在放置在永久磁鐵的磁場(chǎng)內(nèi)部的線圈端來(lái)施加電流(電壓)來(lái)生成力(驅(qū)動(dòng)力)，從而驅(qū)動(dòng)光學(xué)元件(防抖光學(xué)元件)以減弱圖像抖動(dòng)(在日本未審查專利公開第2009-86319、2010-128384、2007-228005號(hào)和日本專利第4，789, 655號(hào)中公開)。可以利用測(cè)量磁場(chǎng)中的變化的傳感器(例如，霍爾傳感器)來(lái)獲得關(guān)于防抖光學(xué)元件的位置的信息。
[0005]第一種類型的防抖系統(tǒng)趨于變得結(jié)構(gòu)復(fù)雜并且趨于增加成本，這是因?yàn)檫B接至圖像傳感器的電路板被移動(dòng)以便跟隨圖像傳感器的移動(dòng)，這需要除圖像傳感器之外，在圖像傳感器周圍設(shè)置的電子組件也是可移動(dòng)組件。此外，圖像傳感器的成像表面的外緣需要是塵密的；但是，在意在包含在移動(dòng)電話或平板電腦等之中的小成像單元中，難以保證足夠的空間以允許圖像傳感器執(zhí)行防抖(圖像抖動(dòng)校正/圖像穩(wěn)定/抖動(dòng)減弱)操作，同時(shí)保持圖像傳感器的塵密結(jié)構(gòu)。
[0006]第二種類型的防抖系統(tǒng)具有一種結(jié)構(gòu)，該結(jié)構(gòu)使得設(shè)置在反射物之后的鏡頭組的移動(dòng)方向在防抖操作期間對(duì)應(yīng)于成像單元的厚度的方向(即，成像單元的向前/向后方向，其中向著待拍攝物體的方向指的是成像單元的向前(前)方向)，并且因此，存在的問題是提供足夠的空間以便在縮小的成像單元中容納這樣的防抖結(jié)構(gòu)。換言之，如果使用這種類型的防抖系統(tǒng)，則限制成像單元的縮小。類似的問題也存在于這種類型的防抖系統(tǒng)中，其中在成像單元的厚度方向中移動(dòng)的是圖像傳感器而不是透鏡組。
[0007]第三種類型的防抖系統(tǒng)需要較大空間，用于使得反射物和透鏡組傾斜/歪斜，并且相應(yīng)地，成像單元易于擴(kuò)大尺寸。第四種防抖系統(tǒng)需要較大的空間，以允許全部成像單元傾斜/歪斜以減弱圖像抖動(dòng)。
[0008]因此，已經(jīng)存在一種對(duì)于防抖系統(tǒng)的需求，其利用不同的方式來(lái)驅(qū)動(dòng)來(lái)自以上描述的類型的成像單元的那些防抖光學(xué)元件，并且有利于成像裝置的小型化和縮小。此外，在音圈馬達(dá)(VCM)用作防抖系統(tǒng)的驅(qū)動(dòng)源的情況下，除防抖驅(qū)動(dòng)方式之外，以具有空間效率的方式布置其元件(諸如永久磁鐵、線圈和傳感器)對(duì)于實(shí)現(xiàn)成像裝置的小型化同樣重要。
[0009]提供線性運(yùn)動(dòng)的音圈馬達(dá)(音圈線性馬達(dá))可以傳輸動(dòng)力，而不需要將旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)轉(zhuǎn)換為線性運(yùn)動(dòng)的機(jī)構(gòu)，因此，如果音圈馬達(dá)用在防抖系統(tǒng)中作為在垂直于光軸的平面上移動(dòng)防抖光學(xué)元件的驅(qū)動(dòng)源，則防抖系統(tǒng)能夠容易地在結(jié)構(gòu)中簡(jiǎn)化。另一方面，構(gòu)成音圈馬達(dá)的永久磁鐵和線圈通常為平坦形狀，每一個(gè)沿著防抖光學(xué)元件移動(dòng)的平面(垂直于防抖光學(xué)元件的光軸)具有寬表面，使得永久磁鐵和線圈在該平面上的安裝空間趨于較大。特別在用于防抖系統(tǒng)的音圈馬達(dá)中，永久磁鐵和線圈的組合和永久磁鐵和線圈的另一個(gè)組合(這些組合在線性移動(dòng)方向上彼此垂直)被使用且布置在防抖光學(xué)元件周圍，并且相應(yīng)地，當(dāng)試圖要利用作為用于驅(qū)動(dòng)防抖光學(xué)元件的驅(qū)動(dòng)源的音圈馬達(dá)來(lái)使得配備有防抖系統(tǒng)的成像單元小型化且減小其厚度時(shí)，需要注意音圈馬達(dá)和相關(guān)聯(lián)的傳感器的布置。
[0010]因此，在音圈馬達(dá)用于防抖系統(tǒng)的情況下，其中永久磁鐵安裝在可移動(dòng)構(gòu)件上(gp所謂的動(dòng)磁式音圈馬達(dá))，存在的一種可能性在于，圍繞音圈馬達(dá)的磁性材料對(duì)永久磁鐵的磁場(chǎng)施加影響，并且從而使防抖系統(tǒng)的驅(qū)動(dòng)準(zhǔn)確度變差，使得需要應(yīng)對(duì)這種問題的對(duì)策。
實(shí)用新型內(nèi)容
[0011]本實(shí)用新型已經(jīng)根據(jù)以上涉及的缺點(diǎn)進(jìn)行設(shè)計(jì)，并且提供了一種成像裝置，該成像裝置使用彎曲光學(xué)系統(tǒng)并且配備有利用音圈馬達(dá)驅(qū)動(dòng)防抖光學(xué)元件的防抖系統(tǒng)，其中通過選擇在空間效率和驅(qū)動(dòng)準(zhǔn)確度中表現(xiàn)優(yōu)秀的防抖系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)成像裝置的小型化及厚度的減小。
[0012]根據(jù)本實(shí)用新型的一個(gè)方面，提供了一種成像裝置，該成像裝置包括前透鏡組、至少一個(gè)后透鏡組、底部構(gòu)件、可移動(dòng)框架以及驅(qū)動(dòng)器，其中，該前透鏡組構(gòu)成成像裝置的成像光學(xué)系統(tǒng)的部分，并且設(shè)置在相對(duì)于光軸方向的固定位置處，其中前透鏡組包括以從物側(cè)開始的順序的至少一個(gè)前透鏡元件和反射器，并且其中沿著第一光軸從前透鏡元件發(fā)出的光線通過反射器進(jìn)行反射以沿著與第一光軸不平行的第二光軸行進(jìn)；該至少一個(gè)后透鏡組構(gòu)成了成像光學(xué)系統(tǒng)的另一部分，并且設(shè)置為比前透鏡組更接近圖像平面；該底部構(gòu)件至少支撐反射器；該可移動(dòng)框架支撐前透鏡元件并且通過底部構(gòu)件支撐以便相對(duì)于底部構(gòu)件可沿著垂直于第一光軸的平面移動(dòng)；該驅(qū)動(dòng)器響應(yīng)于施加于成像光學(xué)系統(tǒng)的振動(dòng)驅(qū)動(dòng)可移動(dòng)框架，以減弱圖像平面上的圖像抖動(dòng)。該驅(qū)動(dòng)器包括第一音圈馬達(dá)和第二音圈馬達(dá)，其中，該第一音圈馬達(dá)包括分別安裝至底部構(gòu)件和可移動(dòng)框架中的一個(gè)和另一個(gè)的第一線圈和第一永久磁鐵，使得第一線圈和第一永久磁鐵在平行于第一光軸的方向上彼此面對(duì)，其中在第一線圈通電時(shí)，第一音圈馬達(dá)在垂直于第一永久磁鐵的磁極邊界線的第一方向上生成驅(qū)動(dòng)力；該第二音圈馬達(dá)包括分別安裝至底部構(gòu)件和可移動(dòng)框架中的一個(gè)和另一個(gè)的第二線圈和第二永久磁鐵，使得第二線圈和第二永久磁鐵在平行于第一光軸的方向上彼此面對(duì)，其中在第二線圈通電時(shí)，第二音圈馬達(dá)在垂直于第二永久磁鐵的磁極邊界線的第二方向上生成驅(qū)動(dòng)力。第一永久磁鐵和第二永久磁鐵放置為使得其磁極邊界線的方向在垂直于第一光軸的平面上彼此垂直。第一音圈馬達(dá)和第二音圈馬達(dá)分別放置在第一參考平面的相對(duì)側(cè)上，第一光軸和第二光軸位于第一參考平面中。第一永久磁鐵和第二永久磁鐵的中心以及第一線圈和第二線圈的中心放置在第二參考平面的一側(cè)上，該第二參考平面包括第一光軸并且垂直于第一參考平面，其中第二光軸在背離第二參考平面的方向上在第二參考平面的另一側(cè)上延伸。第一永久磁鐵的磁極邊界線和第二永久磁鐵的磁極邊界線相對(duì)于彼此傾斜，以便在背離第二參考平面的方向上接近第一參考平面。成像裝置進(jìn)一步包括第一磁性傳感器和第二磁性傳感器，其中，該第一磁性傳感器檢測(cè)可移動(dòng)框架在第一方向上的位置，在該第一方向上第一音圈馬達(dá)生成驅(qū)動(dòng)力；該第二磁性傳感器檢測(cè)可移動(dòng)框架在第二方向上的位置，在該第二方向上第二音圈馬達(dá)生成驅(qū)動(dòng)力。從第一光軸觀察，第一磁性傳感器在第一方向上放置在第一線圈與前透鏡元件側(cè)的相對(duì)側(cè)上，第二磁性傳感器在第二方向上放置在第二線圈與前透鏡元件側(cè)的相對(duì)側(cè)上。
[0013]基于這種結(jié)構(gòu)，除了音圈馬達(dá)之外，第一磁性傳感器和第二磁性傳感器能夠以具有空間效率的方式圍繞前透鏡元件布置。
[0014]期望的是，在第一方向上第一永久磁鐵的寬度大于第一線圈的寬度。沿著第一光軸觀察，至少一部分第一磁性傳感器和至少一部分第一永久磁鐵彼此重疊。在第二方向上第二永久磁鐵的寬度大于第二線圈的寬度。沿著第一光軸觀察，至少一部分第二磁性傳感器和至少一部分第二永久磁鐵彼此重疊。
[0015]期望的是，沿著第一方向觀察至少一部分第一磁性傳感器和至少一部分第一線圈彼此重疊，以及沿著第二方向觀察至少一部分第二磁性傳感器和至少一部分第二線圈彼此重疊。這種構(gòu)造產(chǎn)生了在沿著第一光軸的方向上減少成像裝置的厚度的效果。
[0016]期望的是，第一線圈為具有在垂直于第一方向的方向上延伸的一對(duì)長(zhǎng)邊的伸長(zhǎng)形狀，并且第二線圈為具有在垂直于第二方向的方向上延伸的一對(duì)長(zhǎng)邊的伸長(zhǎng)形狀。沿著第一線圈的一個(gè)長(zhǎng)邊放置第一磁性傳感器，并且沿著第二線圈的一個(gè)長(zhǎng)邊放置第二磁性傳感器。
[0017]期望的是，第一永久磁鐵和第二永久磁鐵在第一參考平面的兩側(cè)上對(duì)稱布置。第一線圈和第二線圈在第一參考平面的兩側(cè)上對(duì)稱布置。第一磁性傳感器和第二磁性傳感器在第一參考平面的兩側(cè)上對(duì)稱布置。
[0018]本實(shí)用新型在每個(gè)永久磁鐵和每個(gè)線圈安裝至可移動(dòng)框架和底部構(gòu)件的一個(gè)或另一個(gè)的任何情況下都是實(shí)用的；但是，本實(shí)用新型適用于所謂的動(dòng)磁式防抖系統(tǒng)(利用動(dòng)磁式音圈馬達(dá)的防抖系統(tǒng))，其中第一永久磁鐵和第二永久磁鐵安裝至可移動(dòng)框架。第一線圈、第二線圈、第一磁性傳感器和第二磁性傳感器通過底部構(gòu)件固定地支撐。
[0019]在這種情況下，如果成像裝置包括固定至底部構(gòu)件以覆蓋所述可移動(dòng)框架的覆蓋構(gòu)件，其中第一線圈、第二線圈、第一磁性傳感器和第二磁性傳感器設(shè)置在覆蓋構(gòu)件上，每個(gè)組件可以簡(jiǎn)單安裝。
[0020]用作第一磁性傳感器和第二磁性傳感器的傳感器可以為任選類型。例如，第一磁性傳感器和第二磁性傳感器中的每一個(gè)可以為霍爾傳感器。
[0021]前透鏡組的反射器可以為任意類型。例如，前透鏡組的反射器可以為棱鏡。
[0022]根據(jù)本實(shí)用新型，放置在前透鏡組的反射器的前方的前透鏡組的前透鏡元件在垂直于光軸(第一光軸)的方向上移動(dòng)以抵消圖像抖動(dòng)，使其即使包含有防抖系統(tǒng)，也能夠以有效的方式實(shí)現(xiàn)成像裝置的小型化，特別是對(duì)于沿著穿過前透鏡元件的第一光軸在向前/向后方向上的成像裝置厚度減少。此外，其中兩個(gè)永久磁鐵和兩個(gè)線圈以具有空間效率的方式放置在前透鏡元件(不與其他光學(xué)元件產(chǎn)生干擾)周圍區(qū)域中的布置有助于包括防抖系統(tǒng)的成像裝置的小型化。另外，由于包括永久磁鐵的驅(qū)動(dòng)器布置在不易受到其他磁性材料影響的部分中，因此還可獲得保證防抖系統(tǒng)的驅(qū)動(dòng)準(zhǔn)確度的優(yōu)秀效果。另外，用于檢測(cè)支撐前透鏡元件的移動(dòng)框架的位置的兩個(gè)磁性傳感器以具有空間效率的方式布置在音圈馬達(dá)周圍，使得實(shí)現(xiàn)了包括磁性傳感器的成像裝置的全面小型化。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0023]下面將根據(jù)所附附圖具體描述本實(shí)用新型，其中:
[0024]圖1為根據(jù)本實(shí)用新型的成像單元的實(shí)施方案的立體圖；
[0025]圖2為移除外殼的成像單元的立體圖，示出了成像單元的內(nèi)部結(jié)構(gòu)；
[0026]圖3為成像單元的橫截面圖；
[0027]圖4為構(gòu)成成像單元的一部分的成像單元的第一透鏡組單元的立體分解圖；
[0028]圖5為移除覆蓋構(gòu)件的成像單元的主視圖；
[0029]圖6是沿著圖5中所示的線V1-VI所呈現(xiàn)的截面圖，示出了第一透鏡組單元；
[0030]圖7是沿著圖5中所示的線VI1-VII所呈現(xiàn)的截面圖，示出了第一透鏡組單元；
[0031]圖8是沿著圖5中所示的線VII1-VIII所呈現(xiàn)的截面圖，示出了安裝有覆蓋構(gòu)件的設(shè)置在第一透鏡組單元中的電磁致動(dòng)器的一部分及其周圍區(qū)域；
[0032]圖9是沿著圖5中所示的線IX-1X所呈現(xiàn)的截面圖，示出了安裝有覆蓋構(gòu)件的電磁致動(dòng)器的另一部分及其周圍區(qū)域；
[0033]圖10為保持成像單元的成像光學(xué)系統(tǒng)的第一透鏡元件的第一透鏡框架的主視圖；以及
[0034]圖11為從物側(cè)觀察的底部構(gòu)件和支撐在底部構(gòu)件上的導(dǎo)軸和第一棱鏡的主視圖。
【具體實(shí)施方式】
[0035]下面將參考圖1至圖11討論根據(jù)本實(shí)用新型的成像單元(成像裝置)10的實(shí)施方案。在以下的描述中，根據(jù)如圖中顯示的雙頭箭頭的方向來(lái)確定向前和向后方向、向左和向右方向，以及向上和向下方向。物側(cè)對(duì)應(yīng)于前側(cè)。如通過圖1中的成像單元10的外觀所示，成像單元10具有在向前/向后方向上較細(xì)并且在向左/向右方向上較長(zhǎng)的橫向伸長(zhǎng)的形狀。[0036]如圖2和圖3中所示，成像單元10的成像光學(xué)系統(tǒng)設(shè)置有第一透鏡組(前透鏡組)Gl、第二透鏡組(后透鏡組)G2、第三透鏡組(后透鏡組)G3以及第四透鏡組(后透鏡組)G4。第一透鏡組Gl設(shè)置有第一棱鏡(反射器)LI I，并且成像單元10在第四透鏡組G4的右手側(cè)(圖像平面?zhèn)?上設(shè)置有第二棱鏡L12。成像單元10的成像光學(xué)系統(tǒng)配置為彎曲光學(xué)系統(tǒng)，該彎曲光學(xué)系統(tǒng)在第一棱鏡Lll和第二棱鏡L12的每一個(gè)處以大致直角反射(彎曲)光線。如圖3和圖7所示，第一透鏡組Gl配置為第一透鏡元件(前透鏡元件)L1、第一棱鏡Lll和第二透鏡元件L2。第一透鏡元件LI放置在第一棱鏡Lll的入射表面Lll-a的前方(在物側(cè)上)，而第二透鏡元件L2放置在第一棱鏡Lll的出射表面Lll-b的右手側(cè)(圖像平面?zhèn)?上。第二透鏡組G2、第三透鏡組G3和第四透鏡組G4中的每一個(gè)為不包括反射元件(比如棱鏡)的透鏡組。
[0037]如圖3中所示，從拍攝物體發(fā)射并且沿著從成像單元10的前方在向后方向上延伸的第一光軸01入射在第一透鏡兀件LI上的光線通過入射表面Lll-a進(jìn)入第一棱鏡Lll,并且在沿著第二光軸02 (在向右方向上延伸)的方向上通過第一棱鏡Lll的反射表面Lll-C反射，以從第一棱鏡Lll的出射表面Lll-b射出。隨后，從出射表面Lll-b射出的光線穿過位于第二光軸02上的第一透鏡組Gl的第二透鏡元件L2以及第二至第四透鏡組G2、G3和G4，并且通過其入射表面L12-a入射在第二棱鏡L12上。隨后，穿過入射表面L12a的光線在沿著第三光軸03 (在向前方向上延伸)的方向上通過第二棱鏡L12的反射表面L12-C反射，并且入射在圖像傳感器IS的成像表面上以在其上形成物像。第一光軸01和第三光軸03大致上彼此平行，并且與第二光軸02共同位于公用平面上。這個(gè)(虛)公用平面限定了第一參考平面Pl (見圖5和圖6),第一光軸01、第二光軸02和第三光軸03位于該第一參考平面Pl中，并且垂直于第一參考平面Pl且包括第一光軸01的虛平面通過第二參考平面P2 (見圖5)來(lái)表示。成像單元10具有在沿著第二光軸02的方向上伸長(zhǎng)的形狀，并且第一透鏡元件LI放置在其縱長(zhǎng)方向上的成像單元10的端部(左端)的鄰近位置上。
[0038]如圖1到圖3所示，成像單元10設(shè)置有本體模塊11和第一透鏡組單元12，其中該本體模塊11保持第二透鏡組G2、第三透鏡組G3、第四透鏡組G4、第二棱鏡L12以及成像傳感器IS，該第一透鏡組單元12保持第一透鏡組G1。本體模塊11設(shè)置有盒形外殼13，該盒形外殼13在向左/向右方向上伸長(zhǎng)并且在向前/向后方向上的厚度較小(較細(xì))。第一透鏡組單元12在其縱長(zhǎng)方向上固定至外殼13的一端(左端)，并且第四透鏡組G4、第二棱鏡L12和成像傳感器IS在其縱長(zhǎng)方向上固定地保持在外殼13的另一端(右端)。
[0039]如圖2所示，第二透鏡組G2和第三透鏡組G3分別通過第二透鏡組框架20和第三透鏡組框架21保持，其被支撐從而通過設(shè)置在外殼13中的一對(duì)棒22和23沿著第二光軸02可移動(dòng)。成像單元10設(shè)置有通過外殼13支撐的第一馬達(dá)Ml和第二馬達(dá)M2。當(dāng)?shù)谝获R達(dá)Ml被驅(qū)動(dòng)以旋轉(zhuǎn)從第一馬達(dá)Ml的本體突出的其螺旋軸Mla時(shí)，該旋轉(zhuǎn)被傳遞至第二透鏡組框架20以便沿著一對(duì)棒22和23移動(dòng)第二透鏡組框架20。當(dāng)?shù)诙R達(dá)M2被驅(qū)動(dòng)以旋轉(zhuǎn)從第二馬達(dá)M2的本體突出的其螺旋軸M2a時(shí)，該旋轉(zhuǎn)被傳遞至第三透鏡組框架21以便沿著一對(duì)棒22和23移動(dòng)第三透鏡組框架21。成像單元10的成像光學(xué)系統(tǒng)為變焦透鏡系統(tǒng)(可變焦距長(zhǎng)度透鏡系統(tǒng))，并且縮放操作(光焦度變化操作)通過沿著第二光軸02移動(dòng)第二透鏡組G2和第三透鏡組G3來(lái)執(zhí)行。另外，聚焦操作通過沿著第二光軸02移動(dòng)第三透鏡組G3來(lái)執(zhí)行。[0040]成像單元10設(shè)置有防抖(圖像抖動(dòng)校正/圖像穩(wěn)定/抖動(dòng)減弱)系統(tǒng)，該防抖系統(tǒng)減弱由振動(dòng)(比如手部抖動(dòng))造成的在圖像平面上的圖像抖動(dòng)。該防抖系統(tǒng)在垂直于第一光軸01的平面上驅(qū)動(dòng)第一透鏡組Gl的第一透鏡元件LI。在成像裝置的本實(shí)施方案的下面的描述和附圖中，第一光軸01表示在第一透鏡元件LI通過防抖系統(tǒng)放置在其驅(qū)動(dòng)范圍的中心處的狀態(tài)下第一光軸01的位置(即，當(dāng)不執(zhí)行圖像抖動(dòng)校正操作時(shí)第一透鏡元件LI的初始光學(xué)設(shè)計(jì)位置)。
[0041]如圖4中所示，第一透鏡組單元12設(shè)置有第一透鏡框架(可移動(dòng)框架)30、底部構(gòu)件31以及覆蓋構(gòu)件32，該第一透鏡框架30保持第一透鏡元件LI，該底部構(gòu)件31保持第一棱鏡Lll和第二透鏡元件L2，該覆蓋構(gòu)件32從前方覆蓋第一透鏡框架30和底部構(gòu)件31。底部構(gòu)件31為如從圖5和圖11中所示從前方觀察的大致上矩形的形狀，并且設(shè)置有基板35、后凸緣36以及出射邊凸緣37。如圖4、圖6和圖7所示，基板35位于基本上垂直于第一光軸01的平面上，后凸緣36從基板35向后突出，出射邊凸緣37放置在基板35的右端處。通過使得后凸緣36和出射邊凸緣37緊靠外殼13并且通過結(jié)合形成在出射邊凸緣37中的孔中的一對(duì)棒22和23的末端(見圖1和圖3)來(lái)確定在本體模塊11上的第一透鏡組單元12的支撐位置。第一透鏡組單元12通過將定位螺釘擰緊至形成在外殼13中的螺釘孔(未示出)中而固定至本體模塊11，該定位螺釘插入到通過底部構(gòu)件31的后凸緣36形成的孔36a (見圖1、圖2和圖4)中。前述的定位螺釘沒有顯示在附圖中。
[0042]如圖3、圖4、圖6、圖7和圖11所示，底部構(gòu)件31設(shè)置有棱鏡安裝槽38。棱鏡安裝槽38的前側(cè)打開且暴露在基板35的頂部，而棱鏡安裝槽38的右側(cè)向著出射邊凸緣37打開且暴露。第一棱鏡Lll配合一接合到棱鏡安裝槽38中并且固定至棱鏡安裝槽38。第一棱鏡Lll設(shè)置有入射表面Lll-a、出射表面Lll-b、反射表面Lll-c以及一對(duì)側(cè)表面Lll_d。入射表面Lll-a放置在第一光軸01上且面朝前，出射表面Lll-b放置在第二光軸02上且面朝右，反射表面Lll-c放置在相對(duì)于入射表面Lll-a和出射表面Lll_b成大致上45度的角度上，一對(duì)側(cè)表面Lll-d大致上垂直于入射表面Lll-a和出射表面Lll_b兩者。出射表面Lll-b大致上平行于第二參考平面P2，并且一對(duì)側(cè)表面Lll-d大致上平行于第一參考平面Pl。底部構(gòu)件31進(jìn)一步設(shè)置有透鏡保持部分39，該透鏡保持部分39在向右方向上從棱鏡安裝槽38延伸穿過出射邊凸緣37，第二透鏡元件L2配合一接合到透鏡保持部分39中從而被保持。
[0043]如圖4、圖10和圖11所示,第一棱鏡Lll的入射表面LIl_a為由兩對(duì)側(cè)面(兩個(gè)長(zhǎng)邊和兩個(gè)短邊)限定的非正方形矩形的形狀。第一棱鏡Lll放置在棱鏡安裝槽38中，使得入射表面Lll-a的長(zhǎng)邊(一對(duì)相對(duì)的邊)向上且向下延伸，并且使得入射表面Lll-a的短邊(另一對(duì)相對(duì)的邊)向左且向右延伸。在下面的描述中，鄰接出射表面Lll-b (并且構(gòu)成在入射表面Lll-a和出射表面Lll-b之間的邊界)的入射表面Lll-a的長(zhǎng)邊指的是入射表面Lll-a的出射長(zhǎng)邊，而在出射長(zhǎng)邊的相對(duì)邊且遠(yuǎn)離出射表面Lll-b (并且構(gòu)成入射表面Lll-a和反射表面Lll-c之間的邊界)的入射表面Lll_a的長(zhǎng)邊指的是入射表面Lll_a的端部長(zhǎng)邊。入射表面Lll-a的一對(duì)短邊(連接入射表面Lll-a的出射長(zhǎng)邊和端部長(zhǎng)邊)構(gòu)成了入射表面Lll-a和一對(duì)側(cè)表面Lll-d之間的邊界。
[0044]底部構(gòu)件31設(shè)置在具有三個(gè)引導(dǎo)支撐部分40A、40B和40C的基板35的前方。如圖5和圖11所不，引導(dǎo)支撐部分40A和40B布置在沿著第一棱鏡Lll的一對(duì)側(cè)表面Lll_d(入射表面Lll-a的一對(duì)短邊)的位置處并且相對(duì)于第一參考平面Pl對(duì)稱，引導(dǎo)支撐部分40C放置在入射表面Lll-a的端部長(zhǎng)邊和底部構(gòu)件31的左端之間。換言之，引導(dǎo)支撐部分40A.40B和40C形成在沿著入射表面Lll_a除了其出射長(zhǎng)邊的三個(gè)側(cè)面的U形區(qū)域中。如圖4所示，引導(dǎo)支撐部分40A、40B和40C的每一個(gè)為U形截面，并且具有向著底部構(gòu)件31的外沿打開的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl。引導(dǎo)支撐部分40A和40B的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl為在大致上平行于第一棱鏡Lll的入射表面Lll-a的短邊的方向上伸長(zhǎng)的伸長(zhǎng)凹槽，并且引導(dǎo)支撐部分40C的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl為在大致上平行于第一棱鏡Lll的入射表面Lll-a的長(zhǎng)邊的方向上伸長(zhǎng)的伸長(zhǎng)凹槽。
[0045]導(dǎo)軸41A、導(dǎo)軸41B以及導(dǎo)軸41C分別插入到引導(dǎo)支撐部分40A、40B和40C的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl中，并且由引導(dǎo)支撐部分40A、40B和40C的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl支撐。導(dǎo)軸41A、41B和41C為圓柱形構(gòu)件，其具有在縱長(zhǎng)方向上的均勻截面并且由金屬、合成樹脂等制成。弓I導(dǎo)支撐部分40A的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl在其上側(cè)打開，并且導(dǎo)軸41A在接近第一光軸01的方向上從面朝上的該上側(cè)開口插入到引導(dǎo)支撐部分40A的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl中。引導(dǎo)支撐部分40B的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl在其下側(cè)打開，并且導(dǎo)軸41B在接近第一光軸01的方向上從面朝下的該下側(cè)開口插入到引導(dǎo)支撐部分40B的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl中。引導(dǎo)支撐部分40C的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl在其左側(cè)打開，并且導(dǎo)軸41C在接近第一光軸01的方向上從面朝左的該左側(cè)開口插入到引導(dǎo)支撐部分40C的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl中。每一個(gè)導(dǎo)軸41A、41B和41C能夠沿著垂直于第一光軸01的平面插入到關(guān)聯(lián)的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl中，并且導(dǎo)軸41A、41B和41C的軸位于垂直于第一光軸01的平面上，其中每個(gè)導(dǎo)軸41A、41B和41C插入到關(guān)聯(lián)的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl中。更具體地，如圖5和圖11所示，導(dǎo)軸41A和41B的軸大致上平行第一棱鏡Lll的入射表面Lll-a的短邊(一對(duì)側(cè)表面Lll-d)和第一參考平面P1，導(dǎo)軸41A的軸和導(dǎo)軸41B的軸與第一參考平面Pl大致上等距。另外，導(dǎo)軸41C的軸大致上平行于第一棱鏡Lll的入射表面Lll-a的長(zhǎng)邊和第二參考平面P2。此外，如圖5所示，導(dǎo)軸41A和41B相對(duì)于其軸向方向的中心位于第二參考平面P2中，而導(dǎo)軸41C相對(duì)于其軸向方向的中心位于第一參考平面Pl中。截?cái)嗖?槽)42A、42B和42C形成在引導(dǎo)支撐部分40A、40B和40C的中央部分中，其中的每一個(gè)具有使得不能保持關(guān)聯(lián)的導(dǎo)軸41A、41B或41C的形狀。截?cái)嗖?2A和42B放置在第二參考平面P2上，并且截?cái)嗖?2C放置在第一參考平面Pl上。
[0046]底部構(gòu)件31設(shè)置在具有移動(dòng)限制突出部43和搖擺樞軸44的基板35的前方，移動(dòng)限制突出部43和搖擺樞軸44的每一個(gè)向前突出。如圖4和圖11所示，移動(dòng)限制突出部43為形成在棱鏡安裝槽38 (棱鏡Lll的入射表面Lll-a的端部長(zhǎng)邊)和截?cái)嗖?2C之間的圓柱形突出部。搖擺樞軸44為形成在棱鏡安裝槽38周圍的引導(dǎo)支撐部分40B和出射邊凸緣37之間的邊界附近(在入射表面Lll-a的下短邊和入射表面Lll-a的出射長(zhǎng)邊之間的角落周圍)的圓柱形突出部。
[0047]在成像單元10的防抖系統(tǒng)中，第一透鏡框架30通過底部構(gòu)件31支撐，以便經(jīng)由三個(gè)導(dǎo)軸41A、41B和41C在垂直于第一光軸01的平面上可移動(dòng)。如圖4和圖10所示,第一透鏡框架30設(shè)置有柱面透鏡保持部分50和凸緣55，第一透鏡元件LI安裝到該柱面透鏡保持部分50中以固定到該柱面透鏡保持部分50，該凸緣55在與第二光軸02的延伸方向相反的方向(向左方向)上突出。第一透鏡框架30進(jìn)一步設(shè)置在透鏡保持部分50和凸緣55周圍，具有三個(gè)可滑動(dòng)支撐部分51A、51B和51C。從如圖5和圖10所示的前方觀察，第一透鏡元件LI具有D切割形(D-cut shape)，其通過切掉其右側(cè)(從該側(cè)第二光軸02從第一棱鏡Lll的反射表面Lll-c向右延伸)上的第一透鏡元件LI的外緣的一部分而形成(限定)，并且透鏡保持部分50具有D切割圓柱形，其外部形狀對(duì)應(yīng)于第一透鏡元件LI。三個(gè)可滑動(dòng)支撐部分51A、51B和51C沿著第一透鏡框架30的三個(gè)側(cè)面(除了形成D切割部分的側(cè)面)形成在其上。
[0048]更具體地，可滑動(dòng)支撐部分51A和51B形成在透鏡保持部分50的外圍上以便相對(duì)于第一參考平面Pl對(duì)稱，可滑動(dòng)支撐部分51C形成在凸緣55的左端處。在圖5至圖7所示的狀態(tài)下，其中第一透鏡框架30通過底部構(gòu)件31支撐，可滑動(dòng)支撐部分51A放置在截?cái)嗖?2A之上，可滑動(dòng)支撐部分51B放置在截?cái)嗖?2B之上，并且可滑動(dòng)支撐部分51C放置在截?cái)嗖?2C之上。截?cái)嗖?2A、42B和42C作為間隙槽，當(dāng)?shù)谝煌哥R框架30相對(duì)于底部構(gòu)件31移動(dòng)以執(zhí)行防抖操作時(shí)，其分別防止引導(dǎo)支撐部分40A、40B和40C干擾可滑動(dòng)支撐部分51A、51B 和 51C。
[0049]如圖4、圖6和圖7所示，三個(gè)可滑動(dòng)支撐部分51A、51B和51C的每一個(gè)為U形截面，并且具有向著第一透鏡框架30的外周打開的伸長(zhǎng)開口凹槽T2?？苫瑒?dòng)支撐部分51A和51B的伸長(zhǎng)開口凹槽T2為在大致上平行于第一棱鏡Lll的入射表面Lll-a的短邊的方向上伸長(zhǎng)的伸長(zhǎng)凹槽，并且可滑動(dòng)支撐部分51C的伸長(zhǎng)開口凹槽T2為在大致上平行于第一棱鏡Lll的入射表面Lll-a的長(zhǎng)邊的方向上伸長(zhǎng)的伸長(zhǎng)凹槽。導(dǎo)軸41A從面朝上的該伸長(zhǎng)開口凹槽的上側(cè)開口插入到可滑動(dòng)支撐部分51A的伸長(zhǎng)開口凹槽T2中，導(dǎo)軸41B從面朝下的該伸長(zhǎng)開口凹槽的下側(cè)開口插入到可滑動(dòng)支撐部分51B的伸長(zhǎng)開口凹槽T2中，導(dǎo)軸41C從面朝左的該伸長(zhǎng)開口凹槽的左側(cè)開口插入到可滑動(dòng)支撐部分51C的伸長(zhǎng)開口凹槽T2中。在裝配過程中，明智的是底部構(gòu)件31和第一透鏡框架30結(jié)合到一起，并且之后每個(gè)導(dǎo)軸41A、41B和41C插入到關(guān)聯(lián)的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl和關(guān)聯(lián)的伸長(zhǎng)開口凹槽T2中。當(dāng)?shù)谝煌哥R框架30利用分別與截?cái)嗖?2A、42B和42C對(duì)齊的可滑動(dòng)支撐部分51A、51B和5IC安裝在底部構(gòu)件31上時(shí)，可滑動(dòng)支撐部分51A、51B和51C的伸長(zhǎng)開口凹槽T2相對(duì)于引導(dǎo)支撐部分40A、40B和40C的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl放置，使得伸長(zhǎng)開口凹槽Tl分別連通地連接到伸長(zhǎng)開口凹槽T2且與其同軸(每個(gè)伸長(zhǎng)開口凹槽T2在其伸長(zhǎng)方向上放置在關(guān)聯(lián)地伸長(zhǎng)開口凹槽Tl的中點(diǎn)處)。在這種狀態(tài)下，導(dǎo)軸41A在接近第一光軸01的方向上從面朝上的這些伸長(zhǎng)開口凹槽Tl和T2的上側(cè)開口插入到引導(dǎo)支撐部分40A的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl以及可滑動(dòng)支撐部分51A的伸長(zhǎng)開口凹槽T2。同樣地，導(dǎo)軸41B在接近第一光軸01的方向上從面朝下的這些伸長(zhǎng)開口凹槽Tl和T2的下側(cè)開口插入到引導(dǎo)支撐部分40B的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl和可滑動(dòng)支撐部分51B的伸長(zhǎng)開口凹槽T2，并且導(dǎo)軸41C在接近第一光軸01的方向上從面朝左的這些伸長(zhǎng)開口凹槽Tl和T2的左側(cè)開口插入到引導(dǎo)支撐部分40C的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl和可滑動(dòng)支撐部分51C的伸長(zhǎng)開口凹槽T2。插入到相關(guān)聯(lián)的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl中的每個(gè)導(dǎo)軸41A、41B和41C通過粘合劑、按壓配合或類似的方法在相關(guān)聯(lián)的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl內(nèi)部固定在其兩端處并且保持，從而通過覆蓋構(gòu)件32的外周壁57無(wú)法脫離相關(guān)聯(lián)的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl。
[0050]如圖4、圖6和圖7所示，每個(gè)可滑動(dòng)支撐部分51A、51B和51C利用一對(duì)在平行于第一光軸01的方向上彼此面對(duì)的突出部52設(shè)置在其伸長(zhǎng)開口凹槽T2中，并且每個(gè)可滑動(dòng)支撐部分51A、51B和5IC的一對(duì)突出部52在平行于第一光軸01的方向上從其兩側(cè)將相關(guān)聯(lián)的導(dǎo)軸41A、41B或41C保持在其間。每對(duì)突出部52向著彼此在相反的方向上突出，以便在平行于第一光軸Ol的方向上使相關(guān)聯(lián)的伸長(zhǎng)開口凹槽T2的寬度部分地變窄以將相關(guān)聯(lián)的導(dǎo)軸41A、41B或41C保持為大致上沒有間隙(特別地，最小間隙的存在允許相關(guān)聯(lián)的可滑動(dòng)支撐部分51A、51B或51C在相關(guān)聯(lián)的導(dǎo)軸41A、41B或41C上滑動(dòng))。該結(jié)構(gòu)避免了第一透鏡框架30在沿著第一光軸01的方向上相對(duì)于底部構(gòu)件31移動(dòng)。如圖4所示，每個(gè)突出部52為梯形截面的形狀，并且與相關(guān)聯(lián)導(dǎo)軸41A、41B或41C接觸的每個(gè)突出部52的接觸部分形成為位于大致上垂直于第一光軸01的平面上的平坦表面(梯形的上底)。因此，每個(gè)突出部52在沿著垂直于第一光軸01的平面的方向上在相關(guān)聯(lián)的導(dǎo)軸41A、41B或41C上可滑動(dòng)。
[0051]如圖5所示，間隙Dl設(shè)置在在其相對(duì)于相關(guān)聯(lián)(相鄰)的引導(dǎo)支撐部分40A、40B或40C的滑動(dòng)方向上的每個(gè)可滑動(dòng)支撐部分51A、51B和51C的相對(duì)側(cè)的每一個(gè)上，以允許每個(gè)可滑動(dòng)支撐部分51A、51B和51C在相關(guān)聯(lián)導(dǎo)軸41A、41B或41C的軸向方向上移動(dòng)。此外，如圖6和圖7所示，間隙D2設(shè)置在該伸長(zhǎng)開口凹槽T2的底部和插入到其中的相關(guān)聯(lián)導(dǎo)軸41A、41B或41C之間的每個(gè)可滑動(dòng)支撐部分51B、51B和51C的伸長(zhǎng)開口凹槽T2中，以允許每個(gè)可滑動(dòng)支撐部分51A、51B和51C在垂直于相關(guān)聯(lián)導(dǎo)軸41A、41B或41C的軸的伸長(zhǎng)開口凹槽T2的深度方向上移動(dòng)。也即，可滑動(dòng)支撐部分51A、51B和51C被支撐以便分別經(jīng)由固定地支撐在底部構(gòu)件31上的導(dǎo)軸41A、41B和41C沿垂直于第一光軸01的平面可移動(dòng)。
[0052]第一透鏡框架30的凸緣55設(shè)置有移動(dòng)限制孔53，該移動(dòng)限制孔53在向前/向后方向上穿過凸緣55而形成，并且底部構(gòu)件31的移動(dòng)限制突出部43插入到該移動(dòng)限制孔53中。如圖5和圖10所示，移動(dòng)限制孔53的內(nèi)壁在大致上垂直于第一光軸01的平面上通常為矩形的形狀。第一透鏡框架30能夠在一定范圍內(nèi)相對(duì)于底部構(gòu)件31移動(dòng)，直到移動(dòng)限制突出部43與移動(dòng)限制孔53的內(nèi)壁接觸。上述的設(shè)定在每個(gè)可滑動(dòng)支撐部分51A、51B和51C的間隙Dl和D2設(shè)定為大于被移動(dòng)限制孔53和移動(dòng)限制突出部43允許的第一透鏡框架30的移動(dòng)范圍，并且第一透鏡框架30相對(duì)于底部構(gòu)件31的移動(dòng)范圍通過移動(dòng)限制突出部43和移動(dòng)限制孔53確定。
[0053]第一透鏡框架30進(jìn)一步設(shè)置有在其中接合有底部構(gòu)件31的搖擺樞軸44的樞軸支撐凹槽54。樞軸支撐凹槽54為向著第一透鏡框架30的外周在集中于第一光軸01上的徑向方向上伸長(zhǎng)并且徑向向外暴露的伸長(zhǎng)凹槽。如圖5所不,樞軸支撐凹槽54與搖擺樞軸44接合，具有允許樞軸支撐凹槽54在樞軸支撐凹槽54的縱長(zhǎng)(深度)方向上相對(duì)于搖擺樞軸44移動(dòng)的間隙,并且防止樞軸支撐凹槽54在垂直于樞軸支撐凹槽54的縱長(zhǎng)方向的方向上相對(duì)于搖擺樞軸44移動(dòng)。由于如上所述的三個(gè)導(dǎo)軸41A、41B和41C與可滑動(dòng)支撐部分51A、51B和51C的滑動(dòng)接合，雖然第一透鏡框架30由底部構(gòu)件31支撐以便在垂直于第一光軸01的平面上可移動(dòng)，但是在前述垂直平面上第一透鏡框架30的移動(dòng)方向通過搖擺樞軸44與樞軸支撐凹槽54的接合而限定。具體地，第一透鏡框架30通過底部構(gòu)件31支撐，以允許在關(guān)于搖擺樞軸44的旋轉(zhuǎn)(搖擺)方向和樞軸支撐凹槽54的縱長(zhǎng)方向上移動(dòng)。
[0054]在導(dǎo)軸41A、41B和41C的安裝之前第一透鏡框架30安裝在底部構(gòu)件31上的階段處，移動(dòng)限制突出部43和搖擺樞軸44分別插入到移動(dòng)限制孔53和樞軸支撐凹槽54中。
[0055]如圖4所不,覆蓋構(gòu)件32設(shè)置有垂直于第一光軸01的板狀前壁56和從前壁56向后突出的外周壁57。覆蓋構(gòu)件32固定至底部構(gòu)件31，使得前壁56從前方覆蓋第一透鏡框架30。在這種固定狀態(tài)下，外周壁57為從外側(cè)圍繞底部構(gòu)件31的三個(gè)引導(dǎo)支撐部分40A、40B和40C的U形壁，并且引導(dǎo)支撐部分40A、40B和40C的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl的側(cè)開口以及可滑動(dòng)支撐部分51A、51B和51C的伸長(zhǎng)開口凹槽T2的側(cè)開口全部被外周壁57封閉(參見圖3)。前壁56設(shè)置有攝影光圈58，通過該攝影光圈58第一透鏡元件LI向前暴露。
[0056]第一透鏡框架30由電磁致動(dòng)器驅(qū)動(dòng)。該電磁致動(dòng)器包括兩個(gè)分別設(shè)置有兩個(gè)永久磁鐵60和61以及兩個(gè)線圈62和63的音圈馬達(dá)(VCM)。
[0057]兩個(gè)永久磁鐵60和61由第一透鏡框架30支撐，兩個(gè)線圈62和63由覆蓋構(gòu)件32支撐。永久磁鐵60和61裝入形成在第一透鏡框架30的凸緣55中的磁鐵保持孔中，并且由該磁鐵保持孔保持(參見圖8和圖9)。永久磁鐵60和61的每一個(gè)為非正方形的矩形薄板的形狀。永久磁鐵60和61相對(duì)于第一參考平面Pl對(duì)稱地布置。更具體地，在其縱長(zhǎng)方向上延伸且相對(duì)于其寬度穿過永久磁鐵60的近似中心的永久磁鐵60的磁極邊界線Ql的相對(duì)側(cè)(參見圖5和圖10)分別磁化為北極和南極，而在其縱長(zhǎng)方向上延伸且相對(duì)于其寬度穿過永久磁鐵61的近似中心的永久磁鐵61的磁極邊界線Q2的相對(duì)側(cè)(參見圖5和圖10)分別磁化為北極和南極。換言之，磁極邊界線Ql限定了永久磁鐵60的北極和南極之間的邊界，而磁極邊界線Q2限定了永久磁鐵61的北極和南極之間的邊界。永久磁鐵60的磁極邊界線Ql和永久磁鐵61的磁極邊界線Q2彼此傾斜，使得其間的距離(即，距第一參考平面Pl的距離)在從左到右的方向上逐漸增加。永久磁鐵60和61的磁極邊界線Ql和Q2相對(duì)于第一參考平面Pl的傾斜角分別設(shè)定為大約±45度。也即，永久磁鐵60和61的縱長(zhǎng)方向(磁極邊界線Ql和Q2)大致上彼此垂直。
[0058]如圖4所示，電路板59固定至不與拍攝光圈58重疊的覆蓋構(gòu)件32的前壁56的一部分。如圖8和圖9所不,構(gòu)成電磁致動(dòng)器的兀件的線圈62和63固定至前壁56的后部并且電連接至電路板59。如圖5和圖10所示，線圈62和63的每一個(gè)為空心線圈，其包括一對(duì)大致上彼此平行的線性部分(長(zhǎng)邊)以及一對(duì)在其各自的端部處連接一對(duì)線性部分的彎曲(U形)部分。線圈62和63為彼此基本上相同的形狀和大小，并且相對(duì)于第一參考平面Pl對(duì)稱布置。具體地，在第一透鏡元件LI通過防抖系統(tǒng)放置在其驅(qū)動(dòng)范圍的中心處(SP，在當(dāng)沒有執(zhí)行圖像抖動(dòng)校正操作時(shí)的第一透鏡元件LI的初始光學(xué)設(shè)計(jì)位置處)的狀態(tài)中，平行于線圈62的線性部分且穿過線圈62的空心的線圈62的長(zhǎng)軸(主軸)以及平行于線圈63的線性部分且穿過線圈63的空心的線圈63的長(zhǎng)軸(主軸)分別對(duì)應(yīng)于永久磁鐵60的磁極邊界線Ql和永久磁鐵61的磁極邊界線Q2，如從圖5和圖10所示的前方觀察。換言之，線圈62和63布置為彼此傾斜，使得線圈62的長(zhǎng)軸以及線圈63的長(zhǎng)軸之間的距離在從左到右的方向上逐漸增加，與永久磁鐵60和61相似。線圈62和63的長(zhǎng)軸的傾斜角相對(duì)于第一參考平面Pl被分別設(shè)定為大約±45度。也即，線圈62和63的縱長(zhǎng)方向(長(zhǎng)軸)大致上彼此垂直。
[0059]線圈62和63的通電經(jīng)由電路板59控制。在線圈62通電后,在垂直于第一光軸01的平面上在大致上垂直于永久磁鐵60的磁極邊界線Ql的方向上(即，垂直于線圈62的長(zhǎng)軸的方向)產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力。該驅(qū)動(dòng)力的作用方向通過圖5、圖8和圖10中的雙頭箭頭Fl來(lái)顯不。另一方面，在線圈63通電后,在垂直于第一光軸01的平面上在大致上垂直于永久磁鐵61的磁極邊界線Q2的方向上(B卩，垂直于線圈63的長(zhǎng)軸的方向)產(chǎn)生驅(qū)動(dòng)力。該驅(qū)動(dòng)力的作用方向通過圖5、圖9和圖10中的雙頭箭頭F2來(lái)顯示。通過使線圈62通電而產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)力的作用方向Fl大致上平行于樞軸支撐凹槽54的縱長(zhǎng)方向，并且在線圈62通電后，第一透鏡框架30能夠沿著樞軸支撐凹槽54相對(duì)于底部構(gòu)件31的縱長(zhǎng)方向線性地移動(dòng)。另一方面，通過使線圈63通電而產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)力的作用方向F2大致上垂直于樞軸支撐凹槽54的縱長(zhǎng)方向，并且防止樞軸凹槽54在該垂直方向上相對(duì)于搖擺樞軸44移動(dòng)，并且相應(yīng)地，在線圈63通電后,第一透鏡框架30相對(duì)于第一透鏡框架30的底部構(gòu)件31圍繞搖擺樞軸44旋轉(zhuǎn)(搖擺)。通過控制電流流過線圈62和63的通路的結(jié)合，第一透鏡框架30可以相對(duì)于底部構(gòu)件31移動(dòng)到垂直于第一光軸Ol的平面上的任意位置。如上所述，第一透鏡框架30相對(duì)于底部構(gòu)件31的移動(dòng)范圍通過移動(dòng)限制突出部43與移動(dòng)限制孔53的內(nèi)壁的接合而得以限制。
[0060]圖5和圖10中顯不的參考符號(hào)Ul指明在垂直于第一光軸01的平面上的永久磁鐵60和線圈62的中心(其外部形狀的中心)。同樣地，圖5和圖10中顯示的參考符號(hào)U2指明在垂直于第一光軸01的平面上的永久磁鐵61和線圈63的中心(其外部形狀的中心)。永久磁鐵60的中心Ul對(duì)應(yīng)于永久磁鐵60在其縱長(zhǎng)(長(zhǎng)邊)方向上沿著磁極邊界線Ql的中心，還對(duì)應(yīng)于永久磁鐵60在其垂直于磁極邊界線Ql的短邊方向上的中心。永久磁鐵61的中心U2對(duì)應(yīng)于永久磁鐵61在其縱長(zhǎng)(長(zhǎng)邊)方向上沿著磁極邊界線Q2的中心，還對(duì)應(yīng)于永久磁鐵61在其垂直于磁極邊界線Q2的短邊方向上的中心。線圈62的中心Ul對(duì)應(yīng)于線圈62在其縱長(zhǎng)(長(zhǎng)邊)方向上沿著線圈62的長(zhǎng)軸的中心，還對(duì)應(yīng)于線圈62在其垂直于線圈62的長(zhǎng)軸的短邊方向上的中心。線圈63的中心U2對(duì)應(yīng)于線圈63在其縱長(zhǎng)(長(zhǎng)邊)方向上沿著線圈63的長(zhǎng)軸的中心，還對(duì)應(yīng)于線圈63在其垂直于線圈63的長(zhǎng)軸的短邊方向上的中心。圖5和圖10每一個(gè)顯示了其中第一透鏡框架30放置在其移動(dòng)范圍的中心處的狀態(tài)，其通過移動(dòng)限制突出部43和移動(dòng)限制孔53機(jī)械地限定(限制)。當(dāng)?shù)谝煌哥R框架30放置在其移動(dòng)范圍的中心處時(shí),永久磁鐵60的中心Ul和線圈62的中心Ul彼此一致(即，永久磁鐵60的中心Ul和線圈62的中心Ul在向前/向后方向上對(duì)齊)，并且永久磁鐵61的中心U2和線圈63的中心U2彼此一致(B卩，永久磁鐵61的中心U2和線圈63的中心U2在向前/向后方向上對(duì)齊)。由流過線圈62和63的電流的通路造成的第一透鏡框架30的移動(dòng)導(dǎo)致永久磁鐵60和61的中心Ul和U2的位置相對(duì)于線圈62和63的中心Ul和U2分別改變。
[0061]另外，兩個(gè)磁性傳感器65和66安裝至覆蓋構(gòu)件32的前壁56的后部并且被其支撐,如圖8和圖9中所示。兩個(gè)磁性傳感器65和66中的每一個(gè)由連接至電路板59的霍爾傳感器組成。從圖5和圖10所示的前方觀察，磁性傳感器65設(shè)置在作用方向Fl上線圈62距第一透鏡元件LI側(cè)的相對(duì)側(cè)上(在距離第一光軸01更遠(yuǎn)的一側(cè)上)以便鄰接線圈62的線性部分，并且如在作用方向Fl上所觀察的(參見圖8)，磁性傳感器65和線圈62彼此重疊。此外，從圖5和圖10所不的前方觀察,磁性傳感器66設(shè)置在作用方向F2上線圈63距第一透鏡元件LI側(cè)的相對(duì)側(cè)上(在距離第一光軸01更遠(yuǎn)的一側(cè)上)以便鄰接線圈63的線性部分，并且如在作用方向F2上所觀察的(參見圖9)，磁性傳感器66和線圈63彼此重疊。圖8中顯示的參考符號(hào)Kl指明磁性傳感器65和線圈62之間的重疊范圍，而圖9中的參考符號(hào)Kl指明磁性傳感器66和線圈63之間的重疊范圍。
[0062]當(dāng)覆蓋構(gòu)件32安裝至底部構(gòu)件31時(shí)，磁性傳感器65和66分別放置在永久磁鐵60和61的周圍地區(qū)上。如圖8和圖9中所示，在成像單元10沿著第一光軸01的向前/向后方向上，磁性傳感器65和66分別放置在永久磁鐵60和61的前方。如圖8中所不,在作用方向Fl上，永久磁鐵60在其短邊方向上的寬度大于線圈62在其短邊方向上的寬度，使得永久磁鐵60的兩端在作用方向Fl上均從線圈62的兩端突出，并且永久磁鐵60的突出端中距離第一光軸Ol更遠(yuǎn)的一個(gè)(距離第一透鏡元件LI更遠(yuǎn))(即，相對(duì)于圖8的永久磁鐵60的右端)以及磁性傳感器65彼此重疊(如從前方觀察的)。如圖9中所示，在作用方向F2上，永久磁鐵61在其短邊方向上的寬度大于線圈63在其短邊方向上的寬度，使得永久磁鐵61的兩端在作用方向F2上均從線圈63的兩端突出，并且永久磁鐵61的突出端中距離第一光軸01更遠(yuǎn)的一個(gè)(距離第一透鏡元件LI更遠(yuǎn))(B卩，相對(duì)于圖9的永久磁鐵61的左端)以及磁性傳感器66彼此重疊(如從前方觀察的)。圖8中顯示的參考符號(hào)K2指明磁性傳感器65和線圈60之間的重疊范圍，而圖9中的參考符號(hào)K2指明磁性傳感器66和永久磁鐵61之間的重疊范圍。
[0063]如圖5和圖10所不,兩個(gè)磁性傳感器65和66中的每個(gè)具有在前正射投影上的窄矩形形狀，并且圖5和圖10中顯示的參考符號(hào)U3和U4分別指明了在垂直于第一光軸01的平面上的磁性傳感器65和66的中心。磁性傳感器65的縱長(zhǎng)方向大致上平行于磁極邊界線Q1，磁性傳感器66的縱長(zhǎng)方向大致上平行于磁級(jí)邊界線Q2。如圖5中所示，穿過磁性傳感器65的中心U3并且在由永久磁鐵60和線圈62導(dǎo)致的驅(qū)動(dòng)力的作用方向Fl上延伸的直線以及穿過磁性傳感器66的中心U4并且在由永久磁鐵61和線圈63導(dǎo)致的驅(qū)動(dòng)力的作用方向F2上延伸的直線在第一參考平面Pl上彼此相交。由于這種布置，永久磁鐵60根據(jù)由電磁致動(dòng)器造成的第一透鏡框架30的移動(dòng)引起的位置上的變化使得磁性傳感器65的輸出變化，并且永久磁鐵61根據(jù)由電磁致動(dòng)器造成的第一透鏡框架30的移動(dòng)引起的位置上的變化使得磁性傳感器66的輸出變化。因此，第一透鏡框架30的位置可以從兩個(gè)磁性傳感器65和66的輸出變化進(jìn)行檢測(cè)。在成像單元10起動(dòng)后，每個(gè)磁性傳感器65和66的校正通過將第一透鏡框架30驅(qū)動(dòng)到其由移動(dòng)限制突出部43和移動(dòng)限制孔53限定的移動(dòng)端來(lái)執(zhí)行。
[0064]如果通過將具有上述結(jié)構(gòu)的第一透鏡組單元12安裝到本體模塊11而完整裝配的成像單元10定向?yàn)橄蛑挥诔上駟卧?0的前方的物體，則由物體反射的光線(從拍攝物體發(fā)射的光線)在經(jīng)過第一透鏡元件LI之后通過入射表面Lll-a進(jìn)入第一棱鏡L11，并且通過第一棱鏡Lll的反射表面Lll-c以90度的角度反射，并且向著出射表面Lll-b行進(jìn)。隨后，從第一棱鏡LI I的出射表面LI Ι-b出現(xiàn)的反射光線在經(jīng)過第二透鏡元件L2、第二透鏡組G2、第三透鏡組G3和第四透鏡組G4之后從入射表面L12-a進(jìn)入第二棱鏡L12，并且通過第二棱鏡L12的反射表面L12-C以90度的角度反射，并且向著出射表面L12_b行進(jìn)。隨后，反射光線從出射表面L12-b出現(xiàn)并且被圖像傳感器IS的成像表面采集(接收)。通過利用第一馬達(dá)Ml和第二馬達(dá)M2沿著一對(duì)棒22和23移動(dòng)第二透鏡組G2和第三透鏡組G3來(lái)進(jìn)行成像單元10的成像光學(xué)系統(tǒng)的縮放操作。通過利用第二馬達(dá)M2沿著一對(duì)棒22和23移動(dòng)第三透鏡組G3來(lái)進(jìn)行成像單元10的成像光學(xué)系統(tǒng)的聚焦操作。通過執(zhí)行這些縮放和聚焦操作，可以在選擇的視角處采集聚焦的物體圖像。
[0065]此外，在成像單元10中，利用放置在第一棱鏡LI I的前方的第一透鏡組Gl的第一透鏡元件LI來(lái)進(jìn)行防抖(圖像抖動(dòng)校正/圖像穩(wěn)定/抖動(dòng)減弱)操作。如上所述，防抖系統(tǒng)以允許第一透鏡框架30相對(duì)于底部構(gòu)件31 (該底部構(gòu)件31相對(duì)于外殼13固定)在垂直于第一光軸01的平面上移動(dòng)的方式支撐第一透鏡框架30，并且利用電磁致動(dòng)器驅(qū)動(dòng)第一透鏡框架30。
[0066]在防抖操作期間第一透鏡元件LI的移動(dòng)方向垂直于第一光軸01。也即，保持第一透鏡元件LI的第一透鏡框架30不在對(duì)應(yīng)于成像單元10的厚度的方向的向前/向后方向上移動(dòng)。另外，支撐機(jī)構(gòu)(其包括引導(dǎo)支撐部分40A、40B和40C，導(dǎo)軸41A、41B和41C，截?cái)嗖?2A、42B和42C，移動(dòng)限制突出部43，搖擺樞軸44，可滑動(dòng)支撐部分51A、51B和51C，移動(dòng)限制孔53，樞軸支撐凹槽54等等)和用于相對(duì)于底部構(gòu)件31移動(dòng)第一透鏡框架30的驅(qū)動(dòng)器(其包括永久磁鐵60和61,線圈62和63等等)布置在圍繞第一光軸01 (繞第一透鏡兀件LI)的位置處，使得對(duì)于支撐機(jī)構(gòu)和驅(qū)動(dòng)器的安裝空間相對(duì)于成像單元10的向前/向后方向較小。因此，將第一透鏡元件LI選擇作為防抖光學(xué)元件使得即使成像單元10設(shè)置有防抖系統(tǒng)，其也能夠在向前/向后方向上使成像單元10縮小。例如，不同于本實(shí)施方案，如果防抖系統(tǒng)在垂直于第二光軸02的方向上移動(dòng)第二透鏡組G2或第三透鏡組G3以消除圖像抖動(dòng)，則相比于上述顯示的實(shí)施方案的情況，在向前/向后方向上對(duì)于外殼13內(nèi)的防抖系統(tǒng)，確保第二透鏡組框架20或第三透鏡組框架21的空間和安裝第二透鏡組框架20或第三透鏡組框架21的驅(qū)動(dòng)器將需要更大的空間，從而增加了成像單元10的厚度。
[0067]與諸如成像傳感器IS的電子組件不同，由第一透鏡框架30支撐的第一透鏡元件LI不需要連接至任意的電路板，使得成像單元10的結(jié)構(gòu)由于柔性線路板的布線不會(huì)變得復(fù)雜，或者柔性線路板在防抖操作期間不會(huì)在第一透鏡元件LI上施加阻力。例如，不同于本實(shí)施方案，如果防抖系統(tǒng)在垂直于第三光軸03的方向上移動(dòng)圖像傳感器IS以消除圖像抖動(dòng)，則被電路板和成像傳感器IS連接的柔性線路板需要具有足夠的長(zhǎng)度，以便不會(huì)阻礙圖像傳感器IS的移動(dòng)；但是，在圖像傳感器IS周圍并沒有很多的空間，使得如果柔性線路板較長(zhǎng)則柔性線路板將會(huì)干擾其他構(gòu)件。如果圖像傳感器IS和電路板在向前/向后方向上彼此間隔，從而避免該問題的發(fā)生，這個(gè)間隔與成像單元10的縮小發(fā)生矛盾。
[0068]將第一透鏡元件LI作為防抖光學(xué)元件的選擇避免了上述問題，并且使得其能夠獲得有助于縮小成像單元10的簡(jiǎn)單防抖系統(tǒng)。由于在防抖控制期間僅驅(qū)動(dòng)第一透鏡元件LI而不是全部第一透鏡組G1，因此優(yōu)點(diǎn)是防抖系統(tǒng)給的移動(dòng)部件能夠以緊湊的方式設(shè)置并且在其上的驅(qū)動(dòng)負(fù)載可以較小。在典型的防抖系統(tǒng)中，如果透鏡組僅有一部分(例如，一個(gè)透鏡元件)在垂直于其光軸的方向上被驅(qū)動(dòng)，則增加了在成像光學(xué)系統(tǒng)中產(chǎn)生像差的可能性(從而使得成像光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)性能變差)，并且因此導(dǎo)致成像光學(xué)系統(tǒng)變得不能實(shí)際地使用。在這種關(guān)系中，由于僅用于反射入射光線的第一棱鏡Lll設(shè)置在本實(shí)施方案的第一透鏡組Gl中的第一透鏡元件LI和第二透鏡元件L2 (其為具有折光力的光學(xué)元件)之間，因此在第一透鏡元件LI和第二透鏡元件L2之間的距離較大，使得即使第一透鏡元件LI獨(dú)自移動(dòng)以執(zhí)行防抖控制也能減少在像差中的增加(使得成像光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)性能的變差最小)。因此，即使第一透鏡元件LI和第二透鏡元件L2 (其在光軸方向上彼此間隔并且在其間放置第一棱鏡Lll)被當(dāng)作不同的透鏡組，也能夠保證用于防抖操作的符合要求的光學(xué)性能，雖然成像光學(xué)系統(tǒng)中，在整個(gè)第一透鏡組Gl (包括第一透鏡兀件L1、第一棱鏡Lll和第二透鏡元件L2)上控制像差，但是僅有第一透鏡元件LI被設(shè)定為用于本實(shí)施方案中的防抖操作的光學(xué)兀件。
[0069]不同于望遠(yuǎn)鏡透鏡鏡筒，在望遠(yuǎn)鏡透鏡鏡筒中當(dāng)執(zhí)行縮放操作或鏡筒收縮操作時(shí)光軸方向上的長(zhǎng)度(在圖像平面和最接近物側(cè)的透鏡元件之間的距離)變化，從第一透鏡元件LI的入射表面至圖像平面(圖像傳感器IS的成像表面)的光學(xué)路徑的長(zhǎng)度在成像單元10中始終恒定。因此，能夠?qū)⒊上駟卧?0嵌入到移動(dòng)電子設(shè)備中并且利用保護(hù)玻璃等覆蓋第一透鏡元件LI的前方，并且即使定位為最接近物側(cè)的成像單元10的光學(xué)系統(tǒng)的第一透鏡元件LI被驅(qū)動(dòng)以消除圖像抖動(dòng)，也不會(huì)出現(xiàn)實(shí)際問題。
[0070]如上所述，雖然在上述結(jié)構(gòu)中僅驅(qū)動(dòng)鏡頭組的一部分，其中作為為第一透鏡組LGl的元件并且放置在第一棱鏡LI I的前方的第一透鏡元件LI單獨(dú)被驅(qū)動(dòng)以減弱圖像抖動(dòng)，但是這樣的構(gòu)造不會(huì)簡(jiǎn)單的影響成像光學(xué)系統(tǒng)的像差。但是，由于第一透鏡元件LI需要具有比防抖系統(tǒng)更高的操作準(zhǔn)確度，在該防抖系統(tǒng)中驅(qū)動(dòng)整個(gè)透鏡組以減弱圖像抖動(dòng)，需要精確地支撐和驅(qū)動(dòng)保持第一透鏡元件LI的第一透鏡框架30，從而穩(wěn)定防抖性能和光學(xué)性能。此外，關(guān)于驅(qū)動(dòng)第一透鏡元件LI以減弱圖像抖動(dòng)，該第一透鏡元件LI在成像光學(xué)系統(tǒng)的所有透鏡元件之中具有最大的直徑，需要使得該防抖系統(tǒng)盡可能緊湊以便有助于成像單元的小型化。下面將描述該防抖系統(tǒng)的特征。
[0071]當(dāng)在下面描述的前提下如圖5中所示設(shè)定可以被第一參考平面Pl和第二參考平面P2劃分為四個(gè)的四個(gè)象限V1、V2、V3和V4時(shí)，第一象限Vl和第四象限V4放置在第二參考平面P2的一側(cè)上(參考圖5的第二參考平面P2的右側(cè))，朝向在光線被第一棱鏡LU反射時(shí)沿第二光軸02的光學(xué)行進(jìn)方向，而第二象限V2和第三象限V3放置在第二參考平面P2的相對(duì)于第一象限Vl和第四象限V4的側(cè)面的相對(duì)側(cè)上(參考圖5的第二參考平面P2的左側(cè))。
[0072]在第二參考平面P2的左側(cè)部分和右側(cè)部分中，成像光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)元件(比如，第二透鏡元件L2、第二透鏡組G2、第三透鏡組G3、第四透鏡組G4和第二棱鏡L12)在第二參考平面P2的右側(cè)部分(包括第一象限Vl和第四象限V4)上沿著第二光軸02布置。構(gòu)成用于沿著第二光軸02移動(dòng)第二透鏡組G2和第三透鏡組G3的前進(jìn)/收回驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)的元件的一對(duì)棒22和23、第一馬達(dá)和第二馬達(dá)同樣布置在第二參考平面P2的右側(cè)部分上。
[0073]另一方面,永久磁鐵60和61以及線圈62和63 (構(gòu)成用于驅(qū)動(dòng)第一透鏡兀件LI以減弱圖像抖動(dòng)的電磁致動(dòng)器)以及磁性傳感器65和66 (在其驅(qū)動(dòng)期間用于檢測(cè)第一透鏡元件LI的位置)布置在第二和第三象限V2和V3上，該第二和第三象限V2和V3在第二參考平面P2的左側(cè)部分中放置在第二參考平面P2的與向著光線沿著第二光軸02的行進(jìn)方向的側(cè)面的相對(duì)側(cè)上。更具體地，永久磁鐵60、線圈62和磁性傳感器65放置在第二象限V2中；永久磁鐵61、線圈63和磁性傳感器66放置在第三象限V3中；并且第二象限V2中的每一個(gè)元件和第三象限V3中的每一個(gè)元件相對(duì)于第一參考平面Pl大致上對(duì)稱地布置。如上所述，永久磁鐵60和61布置為使得其磁極邊界線Ql和Q2的傾斜角度相對(duì)于第一參考平面Pl分別為大約±45度，并且磁極邊界線Ql和Q2的傾斜方向被設(shè)定為在背離第二參考平面P2的向左方向上接近第一參考平面Pl (以便減少在磁極邊界線Ql和Q2之間的距離)。同樣地，線圈62和63布置為使得線圈62的長(zhǎng)軸和線圈63的長(zhǎng)軸的傾斜角度相對(duì)于第一參考平面Pl分別成為大約±45度，并且線圈62和63的長(zhǎng)軸的傾斜方向被設(shè)定為在遠(yuǎn)離第二參考平面P2的向左方向上接近第一參考平面Pl (以便減少在線圈62和63的長(zhǎng)軸之間的距離)。換言之，分別沿著磁極邊界線Ql和Q2延伸的兩條直線之間的交叉點(diǎn)以及分別沿著線圈62和63的長(zhǎng)軸延伸的兩條直線之間的交叉點(diǎn)放置在第二參考平面P2的左側(cè)部分上，其在第二參考平面P2的針對(duì)第二光軸02延伸的相對(duì)側(cè)上。[0074]通過構(gòu)成用于驅(qū)動(dòng)第一透鏡元件LI的防抖系統(tǒng)的元件的永久磁鐵60和61以及線圈62和63的上述布置得到下面的效果。電磁致動(dòng)器的布置不是簡(jiǎn)單地服從空間約束，這是因?yàn)榈诙笙轛2和第三象限V3為第二參考平面P2從朝向光線沿著第二光軸02行進(jìn)的方向的一側(cè)的相對(duì)側(cè)上的部分，并且因?yàn)閺牡谝焕忡RLll在光學(xué)上向后(參考圖3的向右)放置的成像光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)元件既沒有布置在第二象限V2上也沒有布置在第三象限V3上。例如，根據(jù)上述(顯示)的布置，即使永久磁鐵60和線圈62的組合以及永久磁鐵61和線圈63的組合分別布置在第一象限Vl和第四象限V4上從而相對(duì)于第二參考平面P2對(duì)稱，也能夠驅(qū)動(dòng)第一透鏡元件LI。但是，第二透鏡元件L2放置在與第一棱鏡Lll的出射表面Lll-b鄰接的位置處的第一象限Vl和第四象限V4上，使得在這種情況下的問題在于在不干擾第二透鏡元件L2的情況下難以保證用于安裝整個(gè)電磁致動(dòng)器的空間。然而，在顯示的其中永久磁鐵60和線圈62的組合設(shè)置在第二象限V2中且永久磁鐵61和線圈63的組合設(shè)置在第三象限V3中的實(shí)施方案的布置中，并沒有這樣的約束。
[0075]通常而言，為了利用音圈馬達(dá)驅(qū)動(dòng)物體，每一個(gè)音圈馬達(dá)包括永久磁鐵和線圈，使用了兩組具有相互不同的驅(qū)動(dòng)力方向的永久磁鐵和線圈。本實(shí)施方案的成像裝置設(shè)置有永久磁鐵60和線圈62的組合(其縱長(zhǎng)(長(zhǎng)邊)方向(磁極分界線Ql和線圈62的長(zhǎng)軸)彼此平行)，以及永久磁鐵61和線圈63的組合(其縱長(zhǎng)(長(zhǎng)邊)方向(磁極分界線Q2和線圈63的長(zhǎng)軸)彼此平行)，并且由前一個(gè)組合(永久磁鐵60和線圈62)生成的驅(qū)動(dòng)力的作用方向Fl和由后一個(gè)組合(永久磁鐵61和線圈63)生成的驅(qū)動(dòng)力的作用方向F2彼此垂直。這種布置使得能夠在垂直于第一光軸01的平面上自由移動(dòng)第一透鏡元件LI。另外，前一個(gè)組合(永久磁鐵60和線圈62)以及后一個(gè)組合(永久磁鐵61和線圈63)的傾斜方向設(shè)定為使得磁極邊界線Ql和Q2之間的距離以及線圈62和63的長(zhǎng)軸之間的距離在向右方向(第二光軸02在其上延伸)上增加，并且使得磁極邊界線Ql和Q2之間的距離以及線圈62和63的長(zhǎng)軸之間的距離在相反方向(即，向左方向)上減少。這種布置使得其能夠?qū)⒂谰么盆F60和線圈62以及永久磁鐵61和線圈63容納在圓柱形狀的第一透鏡框架30的透鏡保持部分50外圍區(qū)域中的第二象限V2和第三象限V3中。
[0076]僅用于驅(qū)動(dòng)第一透鏡元件LI的目的，能夠使得永久磁鐵60和線圈62以及永久磁鐵61和線圈63相對(duì)于第一參考平面Pl的傾斜方向不同于在上面描述的實(shí)施方案中的那些傾斜方向。例如，即使永久磁鐵60的磁極邊界線Ql和線圈62的長(zhǎng)軸平行于參考平面Pl和P2中的一個(gè)，并且永久磁鐵61的磁極邊界線Q2和線圈63的長(zhǎng)軸平行于另一個(gè)參考平面Pl或P2，也能夠在垂直于第一光軸01的平面上驅(qū)動(dòng)第一透鏡元件LI。但是，這種布置導(dǎo)致永久磁鐵60和線圈62的組合以及永久磁鐵61和線圈63的組合中的至少一個(gè)大量進(jìn)入第一象限Vl或第四象限V4，這使得利用幾乎不服從于空間約束的第二象限V2和第三象限V3的上述效果變差。另外，還存在的缺點(diǎn)在于在沿著第一參考平面Pl的方向上增加了防抖系統(tǒng)的大小，這是由于永久磁鐵60和線圈62的組合或者永久磁鐵61和線圈63的組合放置在根據(jù)圖5的移動(dòng)限制突出部43和移動(dòng)限制孔53的左手側(cè)上。
[0077]相反，根據(jù)以上說明的實(shí)施方案中的描述，從圖5中顯示從前方觀察，防抖系統(tǒng)可以通過設(shè)定永久磁鐵60和61以及線圈62和63的傾斜方向，以節(jié)省空間的方式安裝在第二象限V2和第三象限V3中。在上述實(shí)施方案中，雖然永久磁鐵60和61的磁極邊界線Ql和Q2相對(duì)于第一參考平面Pl的傾斜角分別被設(shè)定為大約±45度，線圈62和63的長(zhǎng)軸相對(duì)于第一參考平面Pl的傾斜角分別被設(shè)定為大約±45度，但是即使磁極邊界線Ql和Q2相對(duì)于第一參考平面Pl的傾斜角以及線圈62和63的長(zhǎng)軸相對(duì)于第一參考平面Pl的傾斜角稍稍改變，也可獲得上述空間節(jié)省設(shè)計(jì)的效果。具體而言，如果永久磁鐵60和61的磁極邊界線Ql和Q2相對(duì)于第一參考平面Pl的傾斜角以及線圈62和63的長(zhǎng)軸相對(duì)于第一參考平面Pl的傾斜角每一個(gè)被設(shè)定在±35度至±55度之內(nèi)，其中磁極邊界線Ql和Q2的角度以及線圈62和63的長(zhǎng)軸的角度每一個(gè)保持在90度處，則將實(shí)現(xiàn)防抖系統(tǒng)的空間節(jié)省布置。
[0078]此外，沿著第二光軸02可移動(dòng)的第二透鏡組G2和第三透鏡組G3設(shè)置在從第一棱鏡Lll延伸的光學(xué)路徑上；分別構(gòu)成第二透鏡組G2和第三透鏡組G3的驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的第一馬達(dá)Ml和第二馬達(dá)M2包含金屬部件；并且一對(duì)棒22和23也為金屬部件。如果這些金屬部件由磁性材料構(gòu)成并且放置在電磁致動(dòng)器附近，則這樣的金屬部件可能會(huì)將不利影響施加在電磁致動(dòng)器的防抖驅(qū)動(dòng)操作上。特別是本實(shí)施方案的防抖系統(tǒng)的動(dòng)磁式電磁致動(dòng)器中，其中永久磁鐵60和61支撐在可移動(dòng)第一透鏡框架30上，為了使得電磁致動(dòng)器執(zhí)行具有高精度的驅(qū)動(dòng)控制，需要移除由在永久磁鐵60和61的磁場(chǎng)上的外部磁性材料導(dǎo)致的不利影響。與永久磁鐵60和61以及線圈62和63布置在第一象限Vl和第四象限V4中的情況相t匕，布置在第二象限V2和第三象限V3上的永久磁鐵60和61以及線圈62和63距離每個(gè)馬達(dá)Ml和M2以及每個(gè)棒22和23更遠(yuǎn)；因此，即使在電磁致動(dòng)器的這些部件包含磁性金屬時(shí)，這些部件的任何不利影響不會(huì)輕易地達(dá)到電磁致動(dòng)器的驅(qū)動(dòng)。
[0079]如上所述，通過將永久磁鐵60和61以及線圈62和63安裝在第二參考平面P2的與朝向光線沿著第二光軸02的方向行進(jìn)的一側(cè)的相反側(cè)上的部分(第二象限V2和第三象限V3)上，并且通過永久磁鐵60和61以及線圈62和63的布置獲得具有優(yōu)秀的空間利用和驅(qū)動(dòng)性能的防抖系統(tǒng)，在永久磁鐵60和61以及線圈62和63的這種布置中，磁極邊界線Ql和Q2之間的距離以及線圈62和63的長(zhǎng)軸之間的距離在與用于驅(qū)動(dòng)第一鏡頭元件LI的防抖系統(tǒng)的布置中的第二光軸02的延伸方向相反的方向上減少。
[0080]雖然永久磁鐵60和61以及線圈62和63全部布置在成像裝置的上述實(shí)施方案中的第二象限V2和第三象限V3中，但是永久磁鐵60和61以及線圈62和63能夠交替地布置，以便部分地伸出超過第二參考平面P2進(jìn)入第一和第四象限Vl和V4中。在這種情況中，作為達(dá)到用于防抖系統(tǒng)的空間利用和驅(qū)動(dòng)性能的上述效果的條件，需要將至少永久磁鐵60和61的中心Ul和U2以及線圈62和63的中心Ul和U2放置在第二參考平面P2的左手側(cè)上，即，分別在第二象限V2和第三象限V3之內(nèi)。
[0081]另外，已經(jīng)獲得了在成像單元10的向前/向后方向(深度方向)上的防抖系統(tǒng)的縮小。構(gòu)成防抖系統(tǒng)的驅(qū)動(dòng)源的元件的永久磁鐵60和61固定到第一透鏡框架30的凸緣55上。凸緣55從透鏡保持部分50 (其為圓柱形并且保持第一透鏡元件LI)的旁邊突出并且從第一透鏡元件LI在沿著第一光軸01的方向上(即，在向前/向后方向；參見圖7)通過透鏡保持部分50支撐的位置向后放置(參考圖7中的向下)。因此，在向前/向后方向上，分別通過在其上的凸緣55支撐的永久磁鐵60和61的位置設(shè)定在第一棱鏡Lll的入射表面Lll-a的周圍區(qū)域上的第一透鏡元件LI之后。
[0082]與永久磁鐵60和61共同組成防抖系統(tǒng)的驅(qū)動(dòng)源的線圈62和63以及檢測(cè)第一透鏡元件LI的位置的磁性傳感器65和66在覆蓋構(gòu)件32安裝至底部構(gòu)件31的狀態(tài)下保持在與向前/向后方向上的第一透鏡元件LI重疊的位置處(參見圖2)。
[0083]如上所述，在第一透鏡元件LI和第一棱鏡Lll側(cè)面的空間中，永久磁鐵60和61以及線圈62和63布置為使得永久磁鐵60和線圈62在向前/向后方向上彼此重合，并且使得永久磁鐵61和線圈63在向前/向后方向上彼此重合，并且因此，電磁致動(dòng)器能夠以空間節(jié)省的方式安裝在向前/向后方向上，這有助于成像單元10的縮小。
[0084]如圖5、圖8、圖9和圖10所示，在線圈62和63的外側(cè)上布置磁性傳感器65和66還具有優(yōu)秀的空間效率。永久磁鐵60和61以及線圈62和63布置為使得永久磁鐵60和線圈62的組合以及永久磁鐵61和線圈63的組合的傾斜方向在背離第二參考平面P2的方向上接近第一參考平面P1，使得在第一透鏡組單元12 (其前正射投影為大致矩形形狀)的兩個(gè)左角的每一個(gè)(根據(jù)圖5和圖11的底部構(gòu)件31的基板35的左上角和左下角)以及電磁致動(dòng)器的安裝區(qū)域之間獲得大致上的三角形空間。換言之，如從前方觀察的，在基板35的左上角和左下角的周圍區(qū)域上的基板35的前方上分別得到兩個(gè)大致上的三角形空間。當(dāng)利用這兩個(gè)三角形空間的同時(shí)安裝磁性傳感器65和66。具體而言，由于永久磁鐵60的寬度在通過使線圈62通電而產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)力的作用方向Fl上大于線圈62的寬度，并且永久磁鐵61的寬度在通過使線圈63通電而產(chǎn)生的驅(qū)動(dòng)力的作用方向F2上大于線圈63的寬度，并且由于磁性傳感器65鄰近線圈62的外部線性部分來(lái)放置，同時(shí)磁性傳感器66鄰近線圈66的外部線性部分來(lái)放置，因此已經(jīng)將在背離第一光軸01的方向上磁性傳感器65從永久磁鐵60的突出量以及在背離第一光軸01的方向上磁性傳感器66從永久磁鐵61的突出量最小化。因此，可以避免發(fā)生可能由于安裝磁性傳感器65和66導(dǎo)致的成像單元10的前正射投影形狀的大小的增加。
[0085]雖然磁性傳感器65和66的中心U3和U4分別與永久磁鐵60和61的中心Ul和U2間隔開，如圖5和圖10中所示，由于每個(gè)磁性傳感器65和66放置為以一定程度接近于相關(guān)聯(lián)的永久磁鐵60或61，以便部分地包括在相關(guān)聯(lián)的永久磁鐵60或61的前正射投影區(qū)域中，如圖8和圖9所示的重疊范圍K2，因此磁性傳感器65和66能夠達(dá)到足夠的檢測(cè)精確度。
[0086]第一透鏡框架30的位置可以被檢測(cè)，即使磁性傳感器65和66在沿著第一光軸01的方向上放置在磁性傳感器60和61的后方,不同于以上描述的實(shí)施方案。但是，在這種情況下，需要為在永久磁鐵60和61的后方安裝傳感器提供空間。相反，根據(jù)在成像裝置的上述實(shí)施方案中的磁性傳感器65和66的布置,在永久磁鐵60和61的后方不需要用于安裝傳感器的空間，并且還可以獲得減少成像單元10在向前/向后方向上的厚度的效果。具體而言，獲得了成像單元10的進(jìn)一步縮小，這是因?yàn)樵谘刂谝还廨S01的方向上，磁性傳感器65和線圈62彼此重疊，并且磁性傳感器66和線圈63彼此重疊，如圖8和圖9中的重疊范圍Kl所示。
[0087]以上已經(jīng)描述了在第一透鏡組單元12中的電磁致動(dòng)器的布置的特征，并且下面將討論在底部構(gòu)件31上用于第一透鏡框架30的支撐結(jié)構(gòu)。
[0088]首先，第一透鏡框架30被支撐以便可沿著垂直于第一光軸01的平面移動(dòng)，并且防止其通過以上描述的結(jié)構(gòu)在沿著第一光軸01的方向上脫離底部構(gòu)件31，在該結(jié)構(gòu)中每個(gè)導(dǎo)軸41A、41B或41C通過相關(guān)聯(lián)的可滑動(dòng)支撐部分51A、51B或51C(在其一對(duì)突出部52之間)來(lái)保持，其具有在沿著第一光軸01的方向上相對(duì)的兩個(gè)壁并且為U形截面。因此，不需要提供諸如彈簧的偏置裝置以在底部構(gòu)件31上保持第一透鏡框架30，從而已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了對(duì)于在底部構(gòu)件31上的第一透鏡框架30的支撐結(jié)構(gòu)的簡(jiǎn)單化。另外，對(duì)于在底部構(gòu)件31上的第一透鏡框架30的支撐結(jié)構(gòu)在裝配可加工性上表現(xiàn)十分優(yōu)秀，這是因?yàn)橹蔚谝煌哥R框架30的狀態(tài)通過從第一透鏡組單元12的一側(cè)(上側(cè)、下側(cè)或左側(cè))將每個(gè)導(dǎo)軸41A、41B和41C插入到相關(guān)聯(lián)的引導(dǎo)支撐部分40A、40B或40C的伸長(zhǎng)開口凹槽Tl中以及插入到相關(guān)聯(lián)的可滑動(dòng)支撐構(gòu)件51A、51B或51C的伸長(zhǎng)開口凹槽T2中而完成。
[0089]如上所述，從第一棱鏡Lll在光學(xué)上向后放置的成像光學(xué)系統(tǒng)的光學(xué)元件布置在通過第一棱鏡Lll偏斜的第二光軸02上(B卩，布置在第一象限Vl和第四象限V4上)，使得空間在第二光軸02側(cè)受到限制。例如，如果第一透鏡框架30的支撐器安裝在沿著第一棱鏡Lll的出射表面Lll-b (入射表面Lll-a的出射長(zhǎng)邊)的位置處，則該支撐器可能與第二透鏡元件L2或透鏡保持部分39發(fā)生干擾。然而，在成像裝置的上述實(shí)施方案的第一透鏡組單元12中，以允許第一透鏡框架30相對(duì)于底部構(gòu)件31移動(dòng)的方式支撐第一透鏡框架30的導(dǎo)軸41A、41B和41C以及引導(dǎo)支撐部分40A、40B和40C布置在沿著入射表面Lll_a的三個(gè)邊(除了其出射長(zhǎng)邊)的U形區(qū)域上，如圖10和圖11所示沿著第一光軸01從前方觀察的，因此既不會(huì)干擾第二透鏡元件L2也不會(huì)干擾透鏡保持部分39。
[0090]如圖5和圖10中所示從前方觀察，在導(dǎo)軸41A、41B和41C和引導(dǎo)支撐部分40A、40B和40C中，兩個(gè)導(dǎo)軸41A和41B以及引導(dǎo)支撐部分40A和40B沿著第一棱鏡Lll的一對(duì)側(cè)表面Lll-d (沿著入射表面Lll-a的短邊)布置在第一參考平面Pl的任一側(cè)上。如圖10和圖11所示，導(dǎo)軸41A和41B的軸大致上平行于參考平面Pl (第二光軸02)，并且每個(gè)導(dǎo)軸41A和41B在其軸向方向上的長(zhǎng)度大致上適合在第一棱鏡Lll的安裝范圍內(nèi)。因此，導(dǎo)軸41A和41B的安裝不會(huì)增加第一透鏡組單元12在成像單元10的向左/向右(縱長(zhǎng)方向)上的大小。另外，導(dǎo)軸41A和41B以及可滑動(dòng)支撐部分51A和51B從第一透鏡框架30的透鏡保持部分50的兩側(cè)在成像單元10的向上/向下方向(寬度方向)上(在背離第一參考平面Pl的方向上)的突出量已經(jīng)下降到與構(gòu)成如圖5和圖10所示的電磁致動(dòng)器的永久磁鐵60和61以及線圈62和63相同的程度，這實(shí)現(xiàn)了成像單元10的大小在其向上/向下(寬度)方向上的減小。主要由于導(dǎo)軸41A和41B的布置，其中其軸大致上平行于在垂直于第一光軸01的平面上的第一參考平面Pl而延伸，相比于導(dǎo)軸41A和41B布置為使得其軸在與垂直于第一光軸01的平面上與第一參考平面Pl相交的方向上延伸的情況，導(dǎo)軸41A和41B在成像單元10的向上/向下方向(寬度方向)上的突出量為最小量。
[0091]另外，第一透鏡框架30通過導(dǎo)軸41A和41B的支撐部分布置為在第一棱鏡Lll的入射表面Lll-a的長(zhǎng)邊方向上彼此間隔，從而放置為與第一參考平面Pl大致上等距；這種布置使其能夠以在向上/向下方向上平衡的方式支撐第一透鏡框架30。此外，第一透鏡框架30的支撐結(jié)構(gòu)在向左/向右方向(在第一棱鏡Lll的入射表面Lll-a的短邊方向上)上的支撐平衡也十分優(yōu)秀，這是因?yàn)閷?dǎo)軸41A保持在其間的可滑動(dòng)支撐部分51A的一對(duì)突出部52以及將導(dǎo)軸41B保持在其間的可滑動(dòng)支撐部分51B的一對(duì)突出部52位于第二參考平面P2上。
[0092]為了在底部構(gòu)件31上穩(wěn)定地支撐第一透鏡框架30，需要在三個(gè)或更多個(gè)支撐點(diǎn)處支撐第一透鏡框架30。因此，除了通過布置在第一參考平面Pl的兩側(cè)的導(dǎo)軸41A和41B以及可滑動(dòng)支撐部分51A和51B的兩個(gè)支撐點(diǎn)之外，第一透鏡組單元12設(shè)置有導(dǎo)軸41C和可滑動(dòng)支撐部分51C的組合作為第三支撐部分。如圖5和圖10所示，導(dǎo)軸41C和可滑動(dòng)支撐部分51C布置在第一透鏡組單元12的左端附近，從而在向上/向下方向上大致上裝入在永久磁鐵60和61以及線圈62和63之間的空間中。因此，導(dǎo)軸41C的安裝不會(huì)導(dǎo)致第一透鏡組單元12在成像單元10的向上/向下方向(寬度方向)上增加大小。此外，由于導(dǎo)軸41C的布置，其中其軸在垂直于第一光軸Ol的平面上大致上平行于第二參考平面P2而延伸，相比于導(dǎo)軸41C布置為使得其軸在垂直于第一光軸01的平面上在與第二參考平面P2相交的方向上延伸的情況，導(dǎo)軸41C在成像單元10的向左方向上的突出量為最小值。
[0093]可以由上看出，以上說明的第一透鏡框架30的支撐結(jié)構(gòu)有助于成像單元10的小型化，其中第一透鏡框架30被支撐從而通過導(dǎo)軸41A、41B和41C可移動(dòng)，該導(dǎo)軸41A、41B和41C布置在沿著第一棱鏡Lll的入射表面Lll-a的三個(gè)邊(除了其出射長(zhǎng)邊)的區(qū)域中(U形區(qū)域)。
[0094]作為與以上說明的成像裝置的實(shí)施方案不同的成像裝置的實(shí)施方案，而不是提供具有導(dǎo)軸41C的第一透鏡組單元12，可以通過使導(dǎo)軸41A和導(dǎo)軸41B中的至少一個(gè)在其軸向方向上延伸，并且通過使第一透鏡框架30的部件與導(dǎo)軸41A和導(dǎo)軸41B的該延伸部分接合來(lái)提供第三支撐部分。但是，如果導(dǎo)軸41A和41B分別在第二象限V2和第三象限V3中延伸，則導(dǎo)軸41A和41B的延伸部分將與電磁致動(dòng)器產(chǎn)生干擾，這是因?yàn)閺膱D5和圖10中可以看出，構(gòu)成電磁致動(dòng)器的永久磁鐵60和61、線圈62和63以及磁性傳感器65和66布置在圍繞第一透鏡元件LI的第二和第三象限V2和V3中。此外，與本體模塊11接觸的出射邊凸緣37設(shè)置在第一和第四象限Vl和V4中，使得幾乎沒有空間允許導(dǎo)軸41A和41B在該側(cè)延伸。因此，這種結(jié)構(gòu)在空間效率上十分優(yōu)秀，在該結(jié)構(gòu)中其軸在平行于第二參考平面P2的方向延伸的導(dǎo)軸41C (第三支撐部分)安裝在第二參考平面P2的與第二光軸02延伸的側(cè)的相反側(cè)上的空間(第二象限V2和第三象限V3)中。換言之，由于這種布置，已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了最優(yōu)空間效率，在該布置中當(dāng)從圖5中所示的前方觀察第一透鏡組單元12時(shí)，構(gòu)成電磁致動(dòng)器的永久磁鐵60和61、線圈62和63及磁性傳感器65和66，以及第一透鏡元件LI等布置在通過導(dǎo)軸41A、41B和41C的外部輪廓限定的U形區(qū)域中。
[0095]移動(dòng)限制突出部43和移動(dòng)限制孔53，以及搖擺樞軸44和樞軸支撐凹槽54同樣構(gòu)成第一透鏡框架30的支撐結(jié)構(gòu)的元件。如圖5、圖10和圖11所示，移動(dòng)限制突出部43和移動(dòng)限制孔53在通過透鏡保持部分50、電磁致動(dòng)器(永久磁鐵60和61以及線圈62和63)和可滑動(dòng)支撐部分51C圍繞的位置處布置地具有空間效率。
[0096]搖擺樞軸44和樞軸支撐凹槽54設(shè)置在第四象限V4中，從而不會(huì)與設(shè)置在第二象限V2和第三象限V3中的電磁致動(dòng)器和其他元件產(chǎn)生干擾。此外，搖擺樞軸44和樞軸支撐凹槽54以具有空間效率且不干擾第二透鏡元件L2的方式，布置在第一透鏡元件LI的圓形部分和D-切割部分之間的邊界附近的區(qū)域外側(cè)，并且安置在第四象限V4中。
[0097]雖然已經(jīng)基于上述實(shí)施方案描述了本實(shí)用新型，但是本實(shí)用新型不僅限制于此；可以對(duì)上述實(shí)施方案進(jìn)行各種修改。例如，雖然上述成像裝置的實(shí)施方案的磁性傳感器65和66為使用霍爾元件的霍爾傳感器，但是同樣能夠利用使用MR (磁抗)元件的MR傳感器作為磁性傳感器65和66。
[0098]上述實(shí)施方案的成像單元10具有這樣的結(jié)構(gòu)，使得第一透鏡框架30通過底部構(gòu)件31支撐以便相對(duì)于底部構(gòu)件31可經(jīng)由導(dǎo)軸41A、41B和41C移動(dòng)。如上所述，雖然這種支撐結(jié)構(gòu)有助于第一透鏡組單元12的小型化，但是根據(jù)本實(shí)用新型的電磁致動(dòng)器和磁性傳感器的布置構(gòu)造在修改的結(jié)構(gòu)中同樣有效，在該修改的結(jié)構(gòu)中，導(dǎo)軸41A、41B和41C由安裝在第一透鏡框架30和底部構(gòu)件31之間的球形引導(dǎo)構(gòu)件(例如，球)替代，或者由任意其他引導(dǎo)設(shè)備替代。
[0099]另外，本實(shí)用新型同樣可以應(yīng)用于一種類型的成像裝置，其具有L形光學(xué)路徑，不包括對(duì)應(yīng)于成像光學(xué)系統(tǒng)中的第二棱鏡L12的棱鏡?？商娲兀瑥澢鈱W(xué)系統(tǒng)的成像裝置同樣能夠?yàn)閷?duì)本實(shí)用新型適用的成像裝置，其中，該彎曲光學(xué)系統(tǒng)除了第一棱鏡Lll和第二棱鏡L12之外還包括一個(gè)或多個(gè)反射器。雖然設(shè)置在上述實(shí)施方案的成像裝置中的成像光學(xué)系統(tǒng)使用棱鏡作為用于彎曲光學(xué)路徑的反射器，但是每個(gè)棱鏡可以被不同類型的反射器(例如，鏡子)替代。通過每個(gè)反射器的光軸的彎曲角度(反射角度)可以為除了 90度的任意角度。
[0100]雖然第一透鏡框架30相對(duì)于底部構(gòu)件31的操作方向利用上述成像裝置的實(shí)施方案中的搖擺樞軸44和樞軸支撐凹槽54進(jìn)行限定，但是能夠通過提供不同的致動(dòng)器而不是搖擺樞軸44和樞軸支撐凹槽54來(lái)限定操作方向。
[0101]此外，電磁致動(dòng)器的上述實(shí)施方案為動(dòng)磁式電磁致動(dòng)器，其中通過可移動(dòng)第一透鏡框架30支撐永久磁鐵60和61，并且通過不可移動(dòng)覆蓋構(gòu)件32支撐線圈62和63。這種類型的電磁致動(dòng)器在線圈和磁性傳感器的布線中十分優(yōu)秀；但是，本實(shí)用新型還適用于動(dòng)圈式電磁致動(dòng)器，其中通過可移動(dòng)的第一透鏡框架30支撐線圈62和63，并且通過不可移動(dòng)的底部構(gòu)件31或覆蓋構(gòu)件32支撐永久磁鐵60和61。在這種情況下，明智的是將磁性傳感器65和66同樣設(shè)置在第一透鏡框架30上。
[0102]雖然永久磁鐵60和61中的每一個(gè)在前視圖中具有在沿著相關(guān)聯(lián)的磁極分界線Ql或Q2的方向上矩形形狀，并且線圈62和63中的每一個(gè)在前視圖中具有在沿著上述防抖系統(tǒng)的實(shí)施方案中的相關(guān)聯(lián)的磁極分界線Ql或Q2的方向上伸長(zhǎng)的形狀，但是本實(shí)用新型同樣可以應(yīng)用于具有與永久磁鐵60和61以及線圈62和63的不同形狀的永久磁鐵和線圈的防抖系統(tǒng)。具體而言，防抖系統(tǒng)的永久磁鐵可以被例如每一個(gè)在前視圖中具有正方形形狀的永久磁鐵代替。
[0103]雖然當(dāng)?shù)谝煌哥R框架30放置在上述防抖系統(tǒng)的實(shí)施方案中的其移動(dòng)范圍的中心處時(shí),永久磁鐵60的中心Ul以及線圈62的中心Ul在垂直于第一光軸01的平面上大致上彼此一致,并且永久磁鐵61的中心U2以及線圈63的中心U2在垂直于第一光軸01的平面上大致上彼此一致，但是本實(shí)用新型同樣可以應(yīng)用與配備有如下防抖系統(tǒng)的成像裝置，在該防抖系統(tǒng)中每個(gè)永久磁鐵的中心和相關(guān)聯(lián)的線圈的中心在防抖系統(tǒng)的初始狀態(tài)中彼此并不一致(不對(duì)齊)。
[0104]雖然第二透鏡組G2、第三透鏡組G3和第四透鏡組G4設(shè)置在上述成像裝置的實(shí)施方案中的第二光軸02上，但是本實(shí)用新型同樣可以應(yīng)用于在其中少于或多于三個(gè)透鏡組設(shè)置在對(duì)應(yīng)于第二光軸02的成像光學(xué)系統(tǒng)的光軸上的成像光學(xué)系統(tǒng)。
[0105]此外，在第一透鏡組Gl中，能夠改變布置在第一光軸01上的第一棱鏡Lll的入射表面Lll-a前方的透鏡元件的數(shù)目，以及布置在第二光軸02上的第一棱鏡Lll的出射表面Lll-b的右手側(cè)上的透鏡元件的數(shù)目。例如，在上述實(shí)施方案中的第一透鏡元件LI可以被布置在第一棱鏡Lll前方的兩個(gè)或多個(gè)前透鏡元件替代。在這種情況下，布置在第一棱鏡Lll前方的前透鏡元件之間的距離較小，并且相應(yīng)地，為了避免變差的像差，最好通過在垂直于第一光軸Ol的方向上移動(dòng)布置在第一棱鏡Lll前方的全部多個(gè)前透鏡元件來(lái)進(jìn)行防抖控制。此外，雖然第二透鏡元件L2布置在上述實(shí)施方案的第一棱鏡Lll的右手側(cè)上，但是在第一透鏡組Gl中的透鏡元件的數(shù)目可以多于一個(gè)，該第一透鏡組Gl中的透鏡元件布置在向著第二透鏡組G2從第一棱鏡Lll的出射表面Lll-b延伸的光學(xué)路徑上。此外，能夠修正第一透鏡組Gl,從而在從第一棱鏡LI I的出射表面Lll-b向著第二透鏡組G2延伸的光軸路徑上不包括任意透鏡元件。
[0106]在上述實(shí)施方案中，從第一透鏡元件LI的入射表面至成像單元10中的圖像平面的光學(xué)路徑的長(zhǎng)度始終恒定。在這種類型的成像光學(xué)系統(tǒng)中，最接近于物側(cè)的第一透鏡元件LI通常為負(fù)透鏡。但是，根據(jù)本實(shí)用新型的用于在成像裝置中的防抖控制的透鏡元件(前透鏡元件)可以為正透鏡。無(wú)論前透鏡元件的光焦度(power)是負(fù)或正，只要其具有折光力，可以選擇任意透鏡元件作為前透鏡元件。
[0107]此外，雖然上述成像單元10的實(shí)施方案的成像光學(xué)系統(tǒng)為變焦透鏡(可變焦光學(xué)系統(tǒng))，該變焦透鏡通過沿著第二光軸02移動(dòng)第二透鏡組G2和第三透鏡組G3來(lái)執(zhí)行縮放操作(光焦度變化操作)，但是本實(shí)用新型同樣適用于包含不具有光焦度變化能力的成像光學(xué)系統(tǒng)的成像裝置。例如，可以修正成像單元10，使得第二透鏡組G2和第三透鏡組G3對(duì)于縮放操作不移動(dòng)，并且使得第二透鏡組G2或第三透鏡組G3對(duì)于聚焦操作單獨(dú)移動(dòng)。
[0108]雖然在上述成像裝置的實(shí)施方案中的第一棱鏡Lll的入射表面Lll-a為橫向伸長(zhǎng)的矩形的形狀，但是本實(shí)用新型同樣可以應(yīng)用于具有第一棱鏡(其對(duì)應(yīng)于第一棱鏡Lll)的一類成像裝置，該第一棱鏡的入射表面具有諸如正方形或梯形的不同形狀。
[0109]在本文描述的本實(shí)用新型的特定實(shí)施方案中可以進(jìn)行明顯改變，這樣的修改落在本實(shí)用新型要求的精神和范圍之內(nèi)。應(yīng)當(dāng)指出，本文包含的全部主題是說明性的，并且不限制本實(shí)用新型的范圍。
【權(quán)利要求】
1.一種成像裝置，其特征在于，所述成像裝置包括: 前透鏡組，所述前透鏡組構(gòu)成所述成像裝置的成像光學(xué)系統(tǒng)的部分，并且設(shè)置在相對(duì)于光軸方向的固定位置處，其中所述前透鏡組包括以從物側(cè)開始的順序的至少一個(gè)前透鏡元件和反射器，并且其中沿著第一光軸從所述前透鏡元件發(fā)出的光線被所述反射器反射，從而沿著不平行于所述第一光軸的第二光軸行進(jìn)； 至少一個(gè)后透鏡組，所述至少一個(gè)后透鏡組構(gòu)成所述成像光學(xué)系統(tǒng)的另一部分，并且設(shè)置為比所述前透鏡組更接近圖像平面； 底部構(gòu)件，所述底部構(gòu)件至少支撐所述反射器； 可移動(dòng)框架，所述可移動(dòng)框架支撐所述前透鏡元件并且通過所述底部構(gòu)件支撐以便能夠沿著垂直于所述第一光軸的平面相對(duì)于所述底部構(gòu)件移動(dòng)；以及 驅(qū)動(dòng)器，所述驅(qū)動(dòng)器響應(yīng)于施加于所述成像光學(xué)系統(tǒng)的振動(dòng)，驅(qū)動(dòng)所述可移動(dòng)框架以減弱在所述圖像平面上的圖像抖動(dòng)， 其中，所述驅(qū)動(dòng)器包括: 第一音圈馬達(dá)，所述第一音圈馬達(dá)包括分別安裝至所述底部構(gòu)件和所述可移動(dòng)框架的一個(gè)和另一個(gè)的第一線圈和第一永久磁鐵，使得所述第一線圈和所述第一永久磁鐵在平行于所述第一光軸的方向上彼此面對(duì)，其中，在所述第一線圈通電時(shí)，所述第一音圈馬達(dá)在垂直于所述第一永久 磁鐵的磁極邊界線的第一方向上生成驅(qū)動(dòng)力；以及 第二音圈馬達(dá)，所述第二音圈馬達(dá)包括分別安裝至所述底部構(gòu)件和所述可移動(dòng)框架的所述一個(gè)和所述另一個(gè)的第二線圈和第二永久磁鐵，使得所述二線圈和所述第二永久磁鐵在平行于所述第一光軸的所述方向上彼此面對(duì)，其中，在所述第二線圈通電時(shí)，所述第二音圈馬達(dá)在垂直于所述第二永久磁鐵的磁極邊界線的第二方向上生成驅(qū)動(dòng)力， 其中，所述第一永久磁鐵和所述第二永久磁鐵放置為使得其所述磁極邊界線的方向在垂直于所述第一光軸的平面上彼此垂直， 其中，所述第一音圈馬達(dá)和所述第二音圈馬達(dá)分別放置在第一參考平面的相對(duì)側(cè)上，所述第一光軸和所述第二光軸位于所述第一參考平面中， 其中，所述第一永久磁鐵和所述第二永久磁鐵的中心以及所述第一線圈和所述第二線圈的中心放置在第二參考平面的一側(cè)上，所述第二參考平面包括所述第一光軸并且垂直于所述第一參考平面，其中第二光軸在背離所述第二參考平面的方向上在所述第二參考平面的另一側(cè)上延伸， 其中，所述第一永久磁鐵的所述磁極邊界線以及所述第二永久磁鐵的所述磁極邊界線相對(duì)于彼此傾斜，以便在背離所述第二參考平面的方向上接近所述第一參考平面， 其中，所述成像裝置進(jìn)一步包括第一磁性傳感器和第二磁性傳感器，所述第一磁性傳感器檢測(cè)所述可移動(dòng)框架在所述第一方向上的位置，在所述第一方向上所述第一音圈馬達(dá)生成所述驅(qū)動(dòng)力；所述第二磁性傳感器檢測(cè)所述可移動(dòng)框架在所述第二方向上的位置，在所述第二方向上所述第二音圈馬達(dá)生成所述驅(qū)動(dòng)力，以及 其中，從所述第一光軸觀察，所述第一磁性傳感器在所述第一方向上放置在所述第一線圈與所述前透鏡元件側(cè)的相對(duì)側(cè)上，所述第二磁性傳感器在所述第二方向上放置在所述第二線圈與所述前透鏡元件側(cè)的相對(duì)側(cè)上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像裝置，其特征在于，在所述第一方向上所述第一永久磁鐵的寬度大于所述第一線圈的寬度， 其中，沿著所述第一光軸觀察，所述第一磁性傳感器的至少一部分和所述第一永久磁鐵的至少一部分彼此重疊， 其中，在所述第二方向上，所述第二永久磁鐵的寬度大于所述第二線圈的寬度，以及 其中，沿著所述第一光軸觀察，所述第二磁性傳感器的至少一部分和所述第二永久磁鐵的至少一部分彼此重疊。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像裝置，其特征在于，沿著所述第一方向觀察，所述第一磁性傳感器的至少一部分和所述第一線圈的至少一部分彼此重疊，以及 其中，沿著所述第二方向觀察，所述第二磁性傳感器的至少一部分和所述第二線圈的至少一部分彼此重疊。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像裝置，其特征在于，所述第一線圈具有的伸長(zhǎng)形狀擁有在垂直于所述第一方向的方向上延伸的一對(duì)長(zhǎng)邊， 其中，所述第二線圈具有的伸長(zhǎng)形狀擁有在垂直于所述第二方向的方向上延伸的一對(duì)長(zhǎng)邊， 其中，所述第一磁性傳感器沿著所述第一線圈的所述長(zhǎng)邊中的一個(gè)放置，以及 其中，所述第二磁性傳感器沿著所述第二線圈的所述長(zhǎng)邊中的一個(gè)放置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像裝置，其特征在于，所述第一永久磁鐵和所述第二永久磁鐵在所述第一參考平面的兩側(cè)上對(duì)稱布置， 其中，所述第一線圈和所述第二線圈在所述第一參考平面的兩側(cè)上對(duì)稱布置，以及 其中，所述第一磁性傳感器和所述第二磁性傳感器在所述第一參考平面的兩側(cè)上對(duì)稱布置。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像裝置，其特征在于，所述第一永久磁鐵和所述第二永久磁鐵安裝至所述可移動(dòng)框架，以及 其中，所述第一線圈、所述第二線圈、所述第一磁性傳感器和所述第二磁性傳感器通過所述底部構(gòu)件固定地支撐。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的成像裝置，其特征在于，所述成像裝置進(jìn)一步包括固定至所述底部構(gòu)件以覆蓋所述可移動(dòng)框架的覆蓋構(gòu)件， 其中，所述第一線圈、所述第二線圈、所述第一磁性傳感器和所述第二傳感器設(shè)置在所述覆蓋構(gòu)件上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像裝置，其特征在于，所述第一磁性傳感器和所述第二磁性傳感器中的每一個(gè)包括霍爾傳感器。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成像裝置，其特征在于，所述前透鏡組的所述反射器包括棱鏡。
【文檔編號(hào)】G03B5/00GK203745778SQ201420057061
【公開日】2014年7月30日 申請(qǐng)日期:2014年1月29日 優(yōu)先權(quán)日:2013年2月4日
【發(fā)明者】鈴鹿真也 申請(qǐng)人:Hoya株式會(huì)社