一種無掩膜激光直寫疊加曝光方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種無掩膜激光直寫疊加曝光方法，在精密運(yùn)動平臺X方向走位的同時(shí)，曝光圖形在SLM空間光調(diào)制器高度方向上做等像素平移顯示，當(dāng)平臺移動距離等于SLM空間光調(diào)制器件像素成像平移量時(shí)發(fā)出曝光信號實(shí)現(xiàn)圖形與位置的同步曝光。一行曝光完畢后SLM空間光調(diào)制器件寬度方向上圖像做設(shè)定像素的平移顯示，同時(shí)精密運(yùn)動平臺Y向偏移對應(yīng)設(shè)定像素成像距離，實(shí)現(xiàn)高度與寬度方向上兩維疊加曝光。本發(fā)明疊加曝光方法手段靈活，要獲得不同的曝光疊加次數(shù)只需更改X方向顯示平移量與Y方向疊加次數(shù)即可；可方便的實(shí)現(xiàn)對曝光計(jì)量進(jìn)行精確控制；圖形數(shù)據(jù)量小，任意次搭接疊加曝光數(shù)據(jù)量相同。
【專利說明】一種無掩膜激光直寫疊加曝光方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及光刻【技術(shù)領(lǐng)域】，特別是涉及一種無掩膜激光直寫疊加曝光方法。

【背景技術(shù)】
[0002]無掩膜激光直寫技術(shù)被廣泛應(yīng)用于精密掩膜制造、微機(jī)電系統(tǒng)器件制作、平板顯示、細(xì)線寬PCB板制造等領(lǐng)域。
[0003]市面上的無掩膜激光直寫系統(tǒng)為了達(dá)到較高的圖像精度與較好的曝光均勻性以及對曝光計(jì)量的需求，一般在XY 二維方向上都會采用搭接重復(fù)曝光的方法，但是對搭接次數(shù)的選擇與曝光計(jì)量的控制都沒有一個(gè)靈活的手段，不同的搭接次數(shù)與曝光計(jì)量的控制往往需要設(shè)計(jì)不同的數(shù)據(jù)格式與獨(dú)特的平臺位置走位方式，以達(dá)到重復(fù)多次疊加曝光的目的。
[0004]因此，針對上述技術(shù)問題，有必要提供一種無掩膜激光直寫疊加曝光方法。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]有鑒于此，為了解決所述現(xiàn)有技術(shù)中的問題，本發(fā)明提供了一種無掩膜激光直寫疊加曝光方法。
[0006]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明實(shí)施例提供的技術(shù)方案如下:
[0007]—種無掩膜激光直寫疊加曝光方法，所述方法包括:
[0008]S1、設(shè)定搭接步距像素?cái)?shù)與搭接次數(shù)，將欲曝光圖形沿版面寬度方向按搭接步距像素等像素分切成若干個(gè)高寬一致的二值位圖數(shù)據(jù)形成曝光數(shù)據(jù)隊(duì)列；
[0009]S2、按版面寬度方向設(shè)置的疊加曝光次數(shù)，在曝光數(shù)據(jù)隊(duì)列中按序選擇與搭接次數(shù)相同數(shù)量的二值位圖在內(nèi)存中沿寬度方向拼接合并，形成一完整的新二值位圖；
[0010]S3、將新二值位圖上載到SLM空間光調(diào)制器中，設(shè)置每次顯示指令到來時(shí)上載的新二值位圖在SLM空間光調(diào)制器高度方向的顯示偏移量；
[0011]S4、精密運(yùn)動平臺沿版面高度方向運(yùn)動，每當(dāng)平臺移動距離等于顯示成像偏移量時(shí)，曝光控制器給出顯示信號給SLM空間光調(diào)制器顯示圖形，同時(shí)觸發(fā)一次曝光光源出光，完成一次SLM顯示圖像的成像曝光；
[0012]S5、SLM空間光調(diào)制器顯不一幅圖像之后,根據(jù)高度方向的顯不偏移量設(shè)置值偏移下次顯示的圖像位置；
[0013]S6、重復(fù)步驟S4和S5，完成高度方向上一行圖形數(shù)據(jù)的寫入；
[0014]S7、精密運(yùn)動平臺沿版面寬度方向偏移，偏移量等于寬度方向上設(shè)置的搭接步距像素?cái)?shù)成像距離；
[0015]S8、去除最先寫入的曝光數(shù)據(jù)隊(duì)列，并加入下一行曝光數(shù)據(jù)隊(duì)列，形成另一完整的新二值位圖；
[0016]S9、重復(fù)步驟S3?S7，完成整個(gè)曝光圖形的成像曝光。
[0017]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述曝光光源為脈沖光源或連續(xù)光源。
[0018]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述步驟S3中SLM空間光調(diào)制器顯示圖形為全屏顯示或窗口顯示。
[0019]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述精密運(yùn)動平臺包括X方向和Y方向，SLM空間光調(diào)制器高度方向圖形成像在基板上與曝光版面高度方向相同對應(yīng)精密運(yùn)動平臺X方向，SLM空間光調(diào)制器寬度方向圖形成像在基板上與曝光版面寬度方向相同對應(yīng)精密運(yùn)動平臺Y方向。
[0020]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述曝光方法過程為:
[0021]欲曝光圖形完成X方向一整行曝光之后，Y方向步進(jìn)偏移進(jìn)入下一行曝光。
[0022]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述曝光方法還包括:
[0023]設(shè)置不同SLM空間光調(diào)制器高度方向顯示偏移量、版面寬度方向的搭接步距像素?cái)?shù)與搭接次數(shù)，實(shí)現(xiàn)多種疊加曝光的效果。
[0024]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述步驟S3中“將新二值位圖上載到SLM空間光調(diào)制器中”之前還包括:去除新二值位圖的位圖頭信息。
[0025]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述步驟SI前還包括:
[0026]對欲曝光圖形四周邊緣添加一定空白區(qū)域，實(shí)現(xiàn)實(shí)際寫入圖形的完全搭接。
[0027]作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，所述步驟S4 “觸發(fā)一次曝光光源出光”中曝光光源為脈沖光源或連續(xù)光源，所述曝光光源為脈沖光源時(shí)，觸發(fā)出光時(shí)長在100納秒內(nèi)，所述曝光光源為連續(xù)光源時(shí)，觸發(fā)出光時(shí)長在500微秒內(nèi)。
[0028]本發(fā)明具有以下有益效果:
[0029]疊加曝光方法手段靈活，要獲得不同的曝光疊加次數(shù)只需更改X方向顯示平移量與Y方向疊加次數(shù)即可；
[0030]通過本發(fā)明可方便的實(shí)現(xiàn)對曝光計(jì)量進(jìn)行精確控制；
[0031 ] 本發(fā)明圖形數(shù)據(jù)量小，任意次搭接疊加曝光數(shù)據(jù)量相同。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0032]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明中記載的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0033]圖1為本發(fā)明無掩膜激光直寫疊加曝光方法的原理圖；
[0034]圖2為本發(fā)明一具體實(shí)施例中光刻圖形處理分切的原理圖；
[0035]圖3為本發(fā)明一具體實(shí)施例中寬度方向搭接次數(shù)為2時(shí)，分切數(shù)據(jù)的拼接合并與播放的時(shí)序不意圖；
[0036]圖4為本發(fā)明一具體實(shí)施例中寬度方向搭接次數(shù)為2時(shí)，分切數(shù)據(jù)的拼接合并與播放的另一時(shí)序不意圖；
[0037]圖5為本發(fā)明一具體實(shí)施例中SLM空間光調(diào)制器的播放窗口不意圖,其中圖形在白色區(qū)域播放，黑白部分不顯示圖像；
[0038]圖6為本發(fā)明一具體實(shí)施例中疊加曝光次數(shù)為8時(shí)的疊加曝光示意圖；
[0039]圖7為本發(fā)明一具體實(shí)施例中疊加曝光次數(shù)為6時(shí)的疊加曝光示意圖；
[0040]圖8為本發(fā)明另一實(shí)施例中版面邊緣擴(kuò)邊留白的示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0041]以下將結(jié)合附圖所示的【具體實(shí)施方式】對本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述。但這些實(shí)施方式并不限制本發(fā)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員根據(jù)這些實(shí)施方式所做出的結(jié)構(gòu)、方法、或功能上的變換均包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
[0042]本發(fā)明公開了一種無掩膜激光直寫疊加曝光方法，包括有激光光源、SLM空間光調(diào)制器、光學(xué)成像系統(tǒng)、精密運(yùn)動平臺、曝光控制器、PC機(jī)。精密運(yùn)動平臺包括X方向和Y方向，SLM空間光調(diào)制器高度方向圖形成像在基板上與曝光版面高度方向相同對應(yīng)精密運(yùn)動平臺X方向，SLM空間光調(diào)制器寬度方向圖形成像在基板上與曝光版面寬度方向相同對應(yīng)精密運(yùn)動平臺Y方向。
[0043]參圖1所不,本發(fā)明曝光方法為:欲曝光圖形完成X方向一整行曝光之后，Y方向步進(jìn)偏移進(jìn)入下一行曝光。在精密運(yùn)動平臺X方向走位的同時(shí)，曝光圖形在SLM空間光調(diào)制器高度方向上做等像素平移顯示，當(dāng)平臺移動距離等于SLM空間光調(diào)制器件像素成像平移量時(shí)發(fā)出曝光信號實(shí)現(xiàn)圖形與位置的同步曝光。一行曝光完畢后SLM空間光調(diào)制器件寬度方向上圖像做設(shè)定像素的平移顯示，同時(shí)精密運(yùn)動平臺Y向偏移對應(yīng)設(shè)定像素成像距離，實(shí)現(xiàn)高度與寬度方向上兩維疊加曝光。
[0044]本發(fā)明中的無掩膜激光直寫疊加曝光方法具體包括以下步驟:
[0045]S1、設(shè)定搭接步距像素?cái)?shù)與搭接次數(shù)，將欲曝光圖形沿版面寬度方向按搭接步距像素等像素分切成若干個(gè)高寬一致的二值位圖數(shù)據(jù)形成曝光數(shù)據(jù)隊(duì)列。其中二值位圖的高度方向像素大小對應(yīng)版面大小，二值位圖的寬度方向像素大小由寬度方向搭接步距像素?cái)?shù)與搭接次數(shù)決定，滿足搭接步距像素?cái)?shù)與搭接次數(shù)的乘積小于等于SLM圖像顯示窗口寬度方向的大小；
[0046]S2、在PC機(jī)中按版面寬度方向設(shè)置的疊加曝光次數(shù)，在曝光數(shù)據(jù)隊(duì)列中按序選擇與搭接次數(shù)相同數(shù)量的二值位圖在內(nèi)存中沿寬度方向拼接合并，形成一完整的新二值位圖，其中新二值位圖的高度與原來曝光數(shù)據(jù)隊(duì)列分切二值位圖一致，寬度為原來曝光數(shù)據(jù)隊(duì)列分切二值位圖的搭接次數(shù)倍；
[0047]S3、將新二值位圖去除位圖頭信息后，上載到SLM空間光調(diào)制器中，設(shè)置每次顯示指令到來時(shí)上載的新二值位圖在SLM空間光調(diào)制器高度方向的顯示偏移量(像素?cái)?shù))。其中，SLM空間光調(diào)制器顯示圖形為全屏顯示或窗口顯示；
[0048]S4、精密運(yùn)動平臺沿版面高度方向運(yùn)動，每當(dāng)平臺移動距離等于顯示成像偏移量時(shí)，曝光控制器給出顯示信號給SLM空間光調(diào)制器顯示圖形，同時(shí)觸發(fā)一次曝光光源出光，完成一次SLM顯示圖像的成像曝光。本發(fā)明中的曝光光源可以為脈沖光源或連續(xù)光源；
[0049]S5、SLM空間光調(diào)制器顯不一幅圖像之后,根據(jù)高度方向的顯不偏移量設(shè)置值偏移下次顯示的圖像位置；
[0050]S6、重復(fù)步驟S4和S5，完成高度方向上一行圖形數(shù)據(jù)的寫入；
[0051]S7、精密運(yùn)動平臺沿版面寬度方向偏移，偏移量等于寬度方向上設(shè)置的搭接步距像素?cái)?shù)成像距離；
[0052]S8、在PC機(jī)中去除最先寫入的曝光數(shù)據(jù)隊(duì)列，并加入下一行曝光數(shù)據(jù)隊(duì)列，形成另一完整的新二值位圖；
[0053]S9、重復(fù)步驟S3?S7，完成整個(gè)曝光圖形的成像曝光。
[0054]進(jìn)一步地，本發(fā)明中曝光方法還包括:
[0055]設(shè)置不同SLM空間光調(diào)制器高度方向顯示偏移量、版面寬度方向的搭接步距像素?cái)?shù)與搭接次數(shù)，實(shí)現(xiàn)多種疊加曝光的效果。
[0056]步驟SI前還包括:
[0057]對欲曝光圖形四周邊緣添加一定空白區(qū)域，實(shí)現(xiàn)實(shí)際寫入圖形的完全搭接。
[0058]以下結(jié)合具體實(shí)施例對本發(fā)明作進(jìn)一步說明。
[0059]在本發(fā)明一具體實(shí)施例中無掩膜激光直寫疊加曝光方法具體包括以下步驟:
[0060]I)將欲曝光圖形沿版面寬度方向等像素分切成若干個(gè)高寬一致的二值位圖數(shù)據(jù)形成曝光數(shù)據(jù)隊(duì)列，如圖2所示。其中二值位圖的寬度方向像素大小為128，高度方向像素大小由版面高度決定。
[0061]2)設(shè)置Y方向疊加曝光次數(shù)為2，將步驟I)中的曝光數(shù)據(jù)隊(duì)列中第一條與第二條二值位圖在內(nèi)存中沿寬度方向搭接合并，形成一完整的寬度為256像素的新二值位圖，如圖3所示。
[0062]3)將SLM空間光調(diào)制器中開一顯示窗口，窗口大小512X256像素，如圖5所示。
[0063]4)將步驟2)中的數(shù)據(jù)去除位圖頭信息后上載到SLM空間光調(diào)制器中，設(shè)置每次顯示指令到來時(shí)步驟2)中上載的數(shù)據(jù)在SLM空間光調(diào)制器高度方向的顯示成像偏移量(像素?cái)?shù))為128像素，等待顯示指令。
[0064]5)平臺沿版面高度方向運(yùn)動，每當(dāng)平臺移動距離等于步驟4)中設(shè)置的SLM空間光調(diào)制器高度方向的顯示偏移量128像素成像距離時(shí)，曝光控制器給出顯示信號給SLM空間光調(diào)制器顯示圖形，同時(shí)觸發(fā)一次曝光光源出光，完成一次SLM顯示圖像的成像曝光。其中，曝光光源可為脈沖光源或連續(xù)光源，曝光光源為脈沖光源時(shí)，觸發(fā)出光時(shí)長在100納秒內(nèi)，曝光光源為連續(xù)光源時(shí)，觸發(fā)出光時(shí)長在500微秒內(nèi)。
[0065]6)完成步驟5) —幅圖像成像曝光之后，整體圖像沿高度方向移動128像素，寬度方向不做移動。
[0066]7)重復(fù)步驟5)與6)完成高度方向上一行圖形數(shù)據(jù)的寫入，如圖6所示。
[0067]8) 一行圖形數(shù)據(jù)寫入完畢之后，精密運(yùn)動平臺在寬度方向上做偏移，偏移量等于寬度方向上設(shè)置的疊加128像素的成像距離。
[0068]9)將步驟I)中的曝光數(shù)據(jù)隊(duì)列中第二條與第三條二值位圖在內(nèi)存中沿寬度方向合并，形成一完整的寬度為256像素的新二值位圖，如圖4所示。
[0069]10)將步驟9)中的數(shù)據(jù)去除位圖頭信息后上載到SLM空間光調(diào)制器中，設(shè)置每次顯示指令到來時(shí)步驟9)中上載的數(shù)據(jù)在SLM空間光調(diào)制器高度方向的顯示偏移量(像素?cái)?shù))為128像素，等待顯示指令。
[0070]11)重復(fù)步驟5)至10)實(shí)現(xiàn)高度方向上512/128 = 4次，寬度方向上256/128 =2次，共4X2 = 8次疊加曝光
[0071]12)將上述步驟2) Y方向的疊加曝光次數(shù)設(shè)置3，將上述步驟3) SLM顯示窗口設(shè)置成512X384像素，將上述步驟4)與步驟10)的SLM空間光調(diào)制器高度方向的顯示偏移量(像素?cái)?shù))設(shè)置為256像素，實(shí)現(xiàn)高度方向上512/256 = 2次，寬度方向上384/128 = 3次，共2X3 = 6次疊加曝光，如圖7所示。
[0072]上述實(shí)施例僅為本發(fā)明的一優(yōu)選實(shí)施例，在其他實(shí)施例中，搭接步距像素?cái)?shù)、搭接次數(shù)及疊加曝光次數(shù)可以根據(jù)需要進(jìn)行不同設(shè)置。
[0073]本實(shí)施例中，首個(gè)寫入圖形10開始的這一長條曝光數(shù)據(jù)隊(duì)列以及從每行開始長度等于SLM移動量像素的區(qū)塊，并沒有實(shí)現(xiàn)設(shè)定次數(shù)的疊加曝光次數(shù)。實(shí)際操作中這一區(qū)塊是版面邊緣添加的空白不曝光區(qū)域，目的是使版面邊緣四周能有疊加數(shù)據(jù)，實(shí)現(xiàn)疊加邏輯運(yùn)算，實(shí)際曝光版面開始于這一區(qū)域之后，具體如圖8所示。
[0074]由以上技術(shù)方案可以看出，本發(fā)明具有以下有益效果:
[0075]疊加曝光方法手段靈活，要獲得不同的曝光疊加次數(shù)只需更改X方向顯示平移量與Y方向疊加次數(shù)即可；
[0076]通過本發(fā)明可方便的實(shí)現(xiàn)對曝光計(jì)量進(jìn)行精確控制；
[0077]本發(fā)明圖形數(shù)據(jù)量小，任意次搭接疊加曝光數(shù)據(jù)量相同。
[0078]對于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，顯然本發(fā)明不限于上述示范性實(shí)施例的細(xì)節(jié)，而且在不背離本發(fā)明的精神或基本特征的情況下，能夠以其他的具體形式實(shí)現(xiàn)本發(fā)明。因此，無論從哪一點(diǎn)來看，均應(yīng)將實(shí)施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本發(fā)明的范圍由所附權(quán)利要求而不是上述說明限定，因此旨在將落在權(quán)利要求的等同要件的含義和范圍內(nèi)的所有變化囊括在本發(fā)明內(nèi)。不應(yīng)將權(quán)利要求中的任何附圖標(biāo)記視為限制所涉及的權(quán)利要求。
[0079]此外，應(yīng)當(dāng)理解，雖然本說明書按照實(shí)施方式加以描述，但并非每個(gè)實(shí)施方式僅包含一個(gè)獨(dú)立的技術(shù)方案，說明書的這種敘述方式僅僅是為清楚起見，本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)將說明書作為一個(gè)整體，各實(shí)施例中的技術(shù)方案也可以經(jīng)適當(dāng)組合，形成本領(lǐng)域技術(shù)人員可以理解的其他實(shí)施方式。
【權(quán)利要求】
1.一種無掩膜激光直寫疊加曝光方法，其特征在于，所述方法包括: 51、設(shè)定搭接步距像素?cái)?shù)與搭接次數(shù)，將欲曝光圖形沿版面寬度方向按搭接步距像素等像素分切成若干個(gè)高寬一致的二值位圖數(shù)據(jù)形成曝光數(shù)據(jù)隊(duì)列； 52、按版面寬度方向設(shè)置的疊加曝光次數(shù)，在曝光數(shù)據(jù)隊(duì)列中按序選擇與搭接次數(shù)相同數(shù)量的二值位圖在內(nèi)存中沿寬度方向拼接合并，形成一完整的新二值位圖； 53、將新二值位圖上載到SLM空間光調(diào)制器中，設(shè)置每次顯示指令到來時(shí)上載的新二值位圖在SLM空間光調(diào)制器高度方向的顯示偏移量； 54、精密運(yùn)動平臺沿版面高度方向運(yùn)動，每當(dāng)平臺移動距離等于顯示成像偏移量時(shí)，曝光控制器給出顯示信號給SLM空間光調(diào)制器顯示圖形，同時(shí)觸發(fā)一次曝光光源出光，完成一次SLM顯示圖像的成像曝光； 55、SLM空間光調(diào)制器顯示一幅圖像之后，根據(jù)高度方向的顯示偏移量設(shè)置值偏移下次顯示的圖像位置； 56、重復(fù)步驟S4和S5，完成高度方向上一行圖形數(shù)據(jù)的寫入； 57、精密運(yùn)動平臺沿版面寬度方向偏移，偏移量等于寬度方向上設(shè)置的搭接步距像素?cái)?shù)成像距離； 58、去除最先寫入的曝光數(shù)據(jù)隊(duì)列，并加入下一行曝光數(shù)據(jù)隊(duì)列，形成另一完整的新二值位圖； 59、重復(fù)步驟S3?S7，完成整個(gè)曝光圖形的成像曝光。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述曝光光源為脈沖光源或連續(xù)光源。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟S3中SLM空間光調(diào)制器顯示圖形為全屏顯示或窗口顯示。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述精密運(yùn)動平臺包括X方向和Y方向，SLM空間光調(diào)制器高度方向圖形成像在基板上與曝光版面高度方向相同對應(yīng)精密運(yùn)動平臺X方向，SLM空間光調(diào)制器寬度方向圖形成像在基板上與曝光版面寬度方向相同對應(yīng)精密運(yùn)動平臺Y方向。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的方法，其特征在于，所述曝光方法過程為: 欲曝光圖形完成X方向一整行曝光之后，Y方向步進(jìn)偏移進(jìn)入下一行曝光。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述曝光方法還包括: 設(shè)置不同SLM空間光調(diào)制器高度方向顯示偏移量、版面寬度方向的搭接步距像素?cái)?shù)與搭接次數(shù)，實(shí)現(xiàn)多種疊加曝光的效果。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟S3中“將新二值位圖上載到SLM空間光調(diào)制器中”之前還包括:去除新二值位圖的位圖頭信息。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟SI前還包括: 對欲曝光圖形四周邊緣添加一定空白區(qū)域，實(shí)現(xiàn)實(shí)際寫入圖形的完全搭接。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟S4“觸發(fā)一次曝光光源出光”中曝光光源為脈沖光源或連續(xù)光源，所述曝光光源為脈沖光源時(shí)，觸發(fā)出光時(shí)長在100納秒以內(nèi)，所述曝光光源為連續(xù)光源時(shí)，觸發(fā)出光時(shí)長在500微秒以內(nèi)。
【文檔編號】G03F7/20GK104298080SQ201410621284
【公開日】2015年1月21日 申請日期:2014年11月6日 優(yōu)先權(quán)日:2014年11月6日
【發(fā)明者】朱鵬飛, 陳林森, 胡進(jìn), 浦東林, 袁曉峰 申請人:蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司