一種同時制作多片含有厚度漸變區(qū)域的導(dǎo)光片的方法
【專利摘要】本發(fā)明公開一種同時制作多片含有厚度漸變區(qū)域的導(dǎo)光片的方法，包括：提供導(dǎo)光片透明基材；在基材上涂布含有厚度漸變區(qū)域和厚度均勻區(qū)域的膠層，膠層含有可光聚合材料；設(shè)計掩模板，掩模板圖案包含透光區(qū)域和由密度漸變的透光開口或阻光圖案組成的多個單元掩模板區(qū)域；使單元掩模板區(qū)域中的透光區(qū)域與基材上膠層中厚度漸變區(qū)域?qū)R，并使掩模板中含有密度漸變的透光開口或阻光圖案組成的區(qū)域與膠層中厚度均勻區(qū)域?qū)R；能量輻射照射基材上的膠層，選擇性地固化膠層中的可光聚合材料；并使用溶劑洗滌選擇性固化后的膠層，形成與掩模板圖案相對應(yīng)的含有厚度漸變區(qū)域和密度漸變的導(dǎo)光微結(jié)構(gòu)區(qū)域的多片導(dǎo)光片；使多片導(dǎo)光片分離。
【專利說明】一種同時制作多片含有厚度漸變區(qū)域的導(dǎo)光片的方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明是關(guān)于一種用于側(cè)光式光源模組的導(dǎo)光片的制作方法，特別是關(guān)于一種含有鄰近導(dǎo)光片入光端的厚度漸變區(qū)域的導(dǎo)光片的制作方法。

【背景技術(shù)】
[0002]側(cè)光式光源模組廣泛應(yīng)用于手機(jī)、平板電腦、筆記本電腦等中小尺寸液晶顯示器中。側(cè)光式光源模組含有關(guān)鍵光學(xué)兀件導(dǎo)光片和鄰近導(dǎo)光片的光源，例如LED。從光源發(fā)出的光通過導(dǎo)光片的入光側(cè)耦合進(jìn)入導(dǎo)光片。光源與導(dǎo)光片的耦合強(qiáng)度很大程度上取決于導(dǎo)光片入光側(cè)的高度和光源尺寸。在從導(dǎo)光片的入光側(cè)耦合到具有較薄厚度的導(dǎo)光片時，引起較大的光損，顯著地降低光的利用率?，F(xiàn)階段液晶顯示行業(yè)主要通過射出成型的方式，同時形成對應(yīng)圖像顯示區(qū)域的較薄均勻厚度的導(dǎo)光片區(qū)域和鄰近入光側(cè)的厚度漸變的導(dǎo)光片區(qū)域。隨著液晶顯示器向薄型和大面積方向的發(fā)展，射出成型的制作方法在技術(shù)和效率出現(xiàn)了極大的瓶頸。新型導(dǎo)光片制作方法，如中國專利申請(本 申請人:)201210121973.1、201210133996.4、201210204175.5所公開的方法，或其他方法，如激光打點(diǎn)、噴墨打印、熱轉(zhuǎn)印、熱壓印等方法可方便地制作薄型、大面積厚度均勻的導(dǎo)光片。因缺少厚度漸變的導(dǎo)光片區(qū)域，這些方法所制作的導(dǎo)光片與尺寸較大的光源搭配使用時，產(chǎn)生較大的光損。為實(shí)現(xiàn)液晶顯示器的薄型化和提高光的利用率，急需一種能克服上述缺陷的導(dǎo)光片制作方法。中國專利申請(本 申請人:)201310478310.X，提供了一種含有厚度漸變區(qū)域的導(dǎo)光片的制作方法，在平面導(dǎo)光片的基礎(chǔ)上制作厚度漸變區(qū)域。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，本發(fā)明提出了一種同時制作多片厚度均勻區(qū)域和厚度漸變區(qū)域的方法，其采用的技術(shù)方案為:一種同時制作多片含有厚度漸變區(qū)域的導(dǎo)光片的方法，包括以下步驟:
[0004]步驟一、提供導(dǎo)光片基材，導(dǎo)光片基材具有光學(xué)透明特性；
[0005]步驟二、采用同一涂布裝置，在導(dǎo)光片基材上的同一涂布步驟中涂覆產(chǎn)生含有多個厚度漸變區(qū)域和厚度均勻區(qū)域的膠體涂層，膠體涂層含有可光聚合材料；
[0006]步驟三、設(shè)計掩模板，掩模板圖案含有多個與導(dǎo)光片中厚度漸變區(qū)域和厚度均勻區(qū)域分別對應(yīng)的透光區(qū)域和由密度漸變的透光開口或阻光圖案組成的區(qū)域；
[0007]步驟四、使單元掩模板區(qū)域中的透光區(qū)域與基材上膠層中厚度漸變區(qū)域?qū)R，并使掩模板中含有密度漸變的透光開口或阻光圖案組成的區(qū)域與膠層中厚度均勻區(qū)域?qū)R；
[0008]步驟五、使用準(zhǔn)直或接近準(zhǔn)直的能量輻射，通過掩模板，照射基材上的膠層，選擇性地固化膠層中的可光聚合材料；并使用溶劑洗滌選擇性固化后的膠層，同時形成由膠體涂層中可光聚合材料接受能量輻射后固化而形成的導(dǎo)光片厚度漸變區(qū)域和密度漸變的微結(jié)構(gòu)區(qū)域；
[0009]步驟六、使多片導(dǎo)光片分離。
[0010]導(dǎo)光片基材上可采用狹縫涂布的方式涂布含有厚度漸變區(qū)域和厚度均勻區(qū)域的膠層；所述狹縫涂布的方式是指:涂布膠體存放于膠體儲罐中，通過精密泵浦將膠體供給至狹縫涂布頭；涂布膠體從縫隙涂布頭的狹縫中吐出，同時，狹縫涂布頭沿X方向移動，使涂布膠體覆蓋到透明基材的表面上，涂布膠體涂層區(qū)域包含厚度漸變區(qū)域和厚度均勻區(qū)域；涂布膠體涂層區(qū)域之間的間隙，在縫隙涂布頭移動至該區(qū)域時，無膠體從涂布頭的狹縫中吐出。
[0011 ] 在導(dǎo)光片基片上膠層的涂布過程中，狹縫涂布頭起始位置可定于沿X軸運(yùn)動方向的“B”處，涂布膠體從狹縫涂布頭的狹縫中吐出，在-X方向流動至“A”處，狹縫涂布頭從位置“B”處移動至位置“C”處，可通過控制狹縫涂布頭運(yùn)動的速度和從狹縫涂布頭狹縫中膠體吐出的速度，形成從對應(yīng)位置“B”處的膠體最厚處開始，厚度逐漸減小的厚度漸變區(qū)域；形成厚度逐漸減小的厚度漸變區(qū)域的控制方式可為涂布頭狹縫膠體吐出的速度保持恒定，而狹縫涂布頭沿X方向的運(yùn)動速度逐漸增加，當(dāng)狹縫涂布頭運(yùn)動至位置“C”，在狹縫涂布頭涂布膠體吐出的速度保持恒定的同時，使狹縫涂布頭勻速運(yùn)動至位置“C”，形成厚度均勻區(qū)域。
[0012]導(dǎo)光片基材上可采用狹縫涂布的方式涂布含有厚度漸變區(qū)域和厚度均勻區(qū)域的膠層；所述狹縫涂布的方式是指:狹縫涂布頭吐出涂布膠體的狹縫上設(shè)置了多個填充狹縫的小區(qū)間，涂布膠體無法從相應(yīng)的填充小區(qū)間處吐出；涂布至導(dǎo)光片基材上的膠層，相應(yīng)地在Y方向上形成間隙性的區(qū)間，包含厚度漸變區(qū)域和厚度均勻區(qū)域的膠層之間被沒被膠層覆蓋的區(qū)間隔開。
[0013]所述掩模板含有襯底和多個單元掩模板圖案區(qū)域，單元掩模板區(qū)域包含透光區(qū)域和含有密度漸變透光開口或阻光圖案區(qū)域，單元掩模板區(qū)域由阻光部分隔開，單元掩模板區(qū)域中透光開口與涂覆在基材上厚度漸變的區(qū)域?qū)?yīng)，單元掩模板中由密度漸變的透光開口或阻光部分組成的圖案區(qū)域與基材上厚度均勻區(qū)域?qū)?yīng)。
[0014]所述準(zhǔn)直或近似準(zhǔn)直的能量輻射為紫外光或電子束，膠層中可光聚合材料接受能量輻射而固化，采用溶劑洗滌經(jīng)能量輻射步驟后的膠層，使接收能量輻射而固化的部分留在基材上，未固化的部分在溶劑洗滌的過程中被去除，在厚度漸變的膠體區(qū)域形成厚度漸變的固體區(qū)域，厚度均勻的膠體區(qū)域形成密度漸變的微結(jié)構(gòu)區(qū)域；
[0015]所述導(dǎo)光片可通過切割的方式將單元導(dǎo)光片分切，分切的方式可采用激光、機(jī)械或其他合適的切割方式；對厚度漸變區(qū)域的分切，包含沿厚度最大位置的切割；沿厚度最大位置的切割可在單元導(dǎo)光片從大版導(dǎo)光片分切后單獨(dú)進(jìn)行，或在將單元導(dǎo)光片從大版導(dǎo)光片中分切時同時進(jìn)行；所獲得的單元導(dǎo)光片的厚度漸變區(qū)域的端面可進(jìn)一步進(jìn)行拋光處理或其他提高光學(xué)性能的處理。
[0016]有益效果:本申請?zhí)峁┮环N同時制作多片含有厚度均勻區(qū)域和厚度漸變區(qū)域的導(dǎo)光片的方法，極大地提高了導(dǎo)光片的制作效率，有效地降低了導(dǎo)光片的成本。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1為本發(fā)明基材上采用狹縫涂布方式涂布膠層的示意圖。
[0018]圖2為本發(fā)明采用狹縫涂布方式涂布膠層的過程示意圖。
[0019]圖3為本發(fā)明涂布多個膠體區(qū)域的示意圖。
[0020]圖4為本發(fā)明用于同時制作多片含有厚度漸變區(qū)域的導(dǎo)光片的掩模板示意圖。
[0021]圖5為本發(fā)明單元掩模板圖案示意圖。
[0022]圖6描述本發(fā)明實(shí)施例的制作方法。
[0023]圖7描述本發(fā)明實(shí)施例同時制作的多片含有厚度漸變區(qū)域的導(dǎo)光片。
[0024]圖8為本發(fā)明實(shí)施例的經(jīng)分切后的單元導(dǎo)光片。
[0025]圖9為本發(fā)明描述含有本發(fā)明導(dǎo)光片的光源模組。

【具體實(shí)施方式】
[0026]為讓本發(fā)明提供的同時制作多片含有厚度漸變區(qū)域的導(dǎo)光片制作方法明顯易懂，下文特舉實(shí)施例，并配合附圖，作詳細(xì)說明如下，但本發(fā)明并不僅限于此。
[0027]圖1描述在透明基材上采用狹縫涂布(Slot Die Coating,又稱Slit Coating)的方式涂布含有多個厚度漸變區(qū)域和厚度均勻區(qū)域的膠體涂層的示例。圖中101為透明基材，位于XY平面上。合適的透明基材包括聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚酞酸酯(PC)或其他合適的材料。狹縫涂布裝置包含如圖中102所示的縫隙涂布頭(slot-die coating head)。涂布膠體存放于膠體儲罐中，通過精密泵浦將膠體供給至狹縫涂布頭。膠體從涂布頭的狹縫中吐出，同時，涂布頭沿X方向移動，使膠體覆蓋到透明基材的表面上，形成膠體涂層。圖中103為一已完成涂布的膠體涂層區(qū)域，包含厚度漸變區(qū)域104和厚度均勻區(qū)域105。圖中106為膠體涂布層區(qū)域之間的間隙，在涂布頭移動至該區(qū)域時，無膠體從涂布頭的狹縫中吐出。
[0028]圖2描述采用狹縫涂布方式在透明基材101上形成包含多個厚度漸變區(qū)域104和厚度均勻區(qū)域的膠體涂層105的過程示例。在該示例過程中，涂布頭102的起始位置定于沿X軸(涂布頭運(yùn)動方向)的“B”處，膠體從涂布頭的狹縫中吐出，在-X方向流動至“A”處，涂布頭從位置“B”處移動至位置“C”處，通過控制涂布頭運(yùn)動的速度和從涂布頭狹縫中膠體吐出的速度，形成從對應(yīng)位置“B”的膠體最厚處201開始，厚度逐漸減小的厚度漸變區(qū)域202。形成區(qū)域202的一種控制方式可為涂布頭狹縫膠體吐出的速度保持恒定，而涂布頭沿X方向的運(yùn)動速度逐漸增加。當(dāng)涂布頭運(yùn)動至位置“C”，在涂布頭狹縫膠體吐出的速度保持恒定的同時，使涂布頭勻速運(yùn)動至位置“D”，形成厚度均勻區(qū)域105。
[0029]圖3描述涂布多個包含厚度漸變區(qū)域和厚度均勻區(qū)域的膠體涂層的另一示例。圖中301為透明基材。涂布頭302吐出膠體的狹縫上設(shè)置了多個填充狹縫的小區(qū)間，膠體無法從相應(yīng)的填充小區(qū)間處吐出。涂布至透明基材301上的膠體涂層，相應(yīng)地在Y方向上形成間隙性的區(qū)間。包含厚度漸變區(qū)域和厚度均勻區(qū)域的膠層303之間被沒有膠層覆蓋的區(qū)間304隔開。如圖1中106和圖3中304所示的無膠層覆蓋的區(qū)域的形成可減少膠體的用量，但本發(fā)明并不限于這樣的膠層分布方式。例如，圖1中106和圖3中304所示的區(qū)域被膠層覆蓋的情形同樣可用于本發(fā)明的實(shí)施。
[0030]圖1和圖3所描述的用于本發(fā)明的膠體涂布方式，采用同一涂布裝置，如圖1所示的縫隙涂布頭102和圖3所示的在狹縫上設(shè)置了多個填充狹縫的小區(qū)間的涂布頭302，在透明基材上的同一涂布步驟中，涂覆產(chǎn)生了含有厚度漸變區(qū)域和厚度均勻區(qū)域的膠體涂層。
[0031]圖4描述用于同時制作多片含有厚度漸變區(qū)域的導(dǎo)光片的掩模板示例。掩模板包含一襯底基片401和位于襯底基片表面的掩膜板圖案。掩模板圖案包含多個單元掩膜板圖案402，至少一個單元掩膜板圖案中包含一透光區(qū)域403和由密度漸變的透光開口或阻光圖案組成的區(qū)域404。襯底基片可采用高平整度的玻璃，如石英玻璃、鈉鈣玻璃、或硼硅玻璃。構(gòu)成圖案402的阻光材料可為金屬鉻層。所述掩模板或可為柔性掩模板。柔性掩模板的襯底可為一聚酯材料，構(gòu)成圖案402的阻光材料可為乳劑層，如銀鹽乳劑層；柔性掩模板可進(jìn)一步包含粘結(jié)層，促進(jìn)乳劑層和聚酯層間的附著力，和保護(hù)層，保護(hù)銀鹽乳劑層不被破壞。
[0032]圖5描述一單元掩模板圖案示例。單元掩膜板圖案502，包含透光區(qū)域503和由透光開口 505組成的區(qū)域504。透光開口 505的密度在區(qū)域504中沿X方向逐漸增加。透光開口之間由阻光材料組成的區(qū)域506隔開。本發(fā)明中“透光區(qū)域503”是指(I)均勻透光的區(qū)域，區(qū)域內(nèi)各處具有相同的透光率；或(2)含有阻光圖案的透光區(qū)域，阻光圖案對應(yīng)位置的透光率小于其他位置透光率的二分之一。
[0033]圖6描述一本發(fā)明的示例制作方法。圖中601含有基材604和涂覆在基材604上的多個膠層區(qū)域。單個膠層區(qū)域含有厚度漸變的膠層區(qū)域605和厚度均勻的膠層區(qū)域606。膠層區(qū)域之間由無膠層的區(qū)域607隔開。圖中602為一掩模板，掩模板含有襯底608，和多個掩模板圖案區(qū)域。單個掩模板圖案區(qū)域包含透光區(qū)域609 (例如圖4所示的區(qū)域403、圖5所示的區(qū)域503)和含有密度漸變的透光開口或阻光圖案區(qū)域610 (例如圖4所示的區(qū)域404、圖5所示的區(qū)域504)。單元掩模板區(qū)域由阻光部分611隔開。圖中603為準(zhǔn)直或近似準(zhǔn)直的能量輻射，如紫外光或電子束。掩模板圖案中透光開口 609與涂覆在基材上厚度漸變的區(qū)域605對齊。膠層中可光聚合材料接受能量輻射而固化，使這部分厚度漸變的膠體變?yōu)楹穸葷u變的固體。掩模板中由密度漸變的透光開口或阻光部分組成的圖案區(qū)域610與基材上厚度均勻區(qū)域606對齊，能量輻射通過掩模板上透光開口使對應(yīng)部分的膠體選擇性地聚合。采用溶劑洗滌經(jīng)能量輻射步驟后的膠層，使接收能量輻射而固化的部分留在基材上，未固化的部分在溶劑洗滌的過程中被去除，形成包括多片含有厚度漸變區(qū)域的導(dǎo)光片。
[0034]圖7描述一同時制作的、包含9片含有厚度漸變區(qū)域的導(dǎo)光片的示例。單元導(dǎo)光片702包含厚度漸變區(qū)域703和密度漸變的微結(jié)構(gòu)區(qū)域704。
[0035]值得指出的是，圖5所示單元掩模板區(qū)域中的透光區(qū)域503，可為整個區(qū)域透光的區(qū)域，或在該區(qū)域內(nèi)可進(jìn)一步包含復(fù)雜的圖案，使對應(yīng)該部分的厚度漸變的膠體在固化和溶劑洗滌后，在厚度漸變固體的表面含有細(xì)微結(jié)構(gòu)，以增強(qiáng)導(dǎo)光功能、或提高光效。
[0036]本發(fā)明所描述的含有厚度漸變區(qū)域的導(dǎo)光片的制作方法，在導(dǎo)光片基材上通過同一涂布步驟，涂覆產(chǎn)生與導(dǎo)光片中厚度漸變區(qū)域和厚度均勻區(qū)域相對應(yīng)的厚度漸變和厚度均勻的膠體涂層；用于制作本發(fā)明導(dǎo)光片的掩膜板圖案中，含有與導(dǎo)光片中厚度漸變區(qū)域和厚度均勻區(qū)域分別對應(yīng)的透光區(qū)域和由密度漸變的透光開口或阻光圖案組成的區(qū)域；采用如圖6所描述的方法，同時獲得由膠體涂層中可光聚合材料接受能量輻射后固化而形成的導(dǎo)光片厚度漸變區(qū)域和密度漸變的微結(jié)構(gòu)區(qū)域。
[0037]如圖7所示的導(dǎo)光片可通過切割的方式沿單元導(dǎo)光片702之間的間隔區(qū)域705和706將單元導(dǎo)光片分切下來。分切的方式可采用激光、機(jī)械或其他合適的切割方式。圖8為經(jīng)分切后的單元導(dǎo)光片，包含基材801，厚度漸變區(qū)域802和位于導(dǎo)光片基材上的導(dǎo)光微結(jié)構(gòu)803。對厚度漸變區(qū)域的分切，包含沿厚度最大位置的切割。沿厚度最大位置的切割可在單元導(dǎo)光片從大版導(dǎo)光片分切后單獨(dú)進(jìn)行，或在將單元導(dǎo)光片從大版導(dǎo)光片中分切時同時進(jìn)行。所獲得的單元導(dǎo)光片的厚度漸變區(qū)域的端面可進(jìn)一步進(jìn)行拋光處理或其他提高光學(xué)性能的處理。合適的拋光方法包括鉆石拋光，布輪拋光，火焰拋光。如單元導(dǎo)光片的斷面在切割后已達(dá)到所要求的光潔程度，拋光處理的步驟則可省去。
[0038]圖9描述含有本發(fā)明導(dǎo)光片901的光源模組示例。在導(dǎo)光片901鄰近厚度漸變區(qū)域的一側(cè)，裝有多個LED光源902。LED光源902發(fā)出的光從側(cè)面進(jìn)入導(dǎo)光片，在導(dǎo)光片厚度漸變區(qū)域，通過在導(dǎo)光片基材表面和固化后的膠體的表面的全反射傳播至導(dǎo)光微結(jié)構(gòu)區(qū)域。導(dǎo)光片中的厚度漸變區(qū)域，增加了從LED光源發(fā)出的光進(jìn)入導(dǎo)光片的耦合面積。提高了光的利用效率。導(dǎo)光片厚度均勻區(qū)域中的導(dǎo)光微結(jié)構(gòu)，破壞了光在導(dǎo)光片內(nèi)的全反射條件，使光從對應(yīng)位置離開導(dǎo)光片。示例光源模組中903為起聚光作用的棱鏡片，如美國3M公司生產(chǎn)的VikuitiTM產(chǎn)品，904為一擴(kuò)散片。部分離開導(dǎo)光片的光線經(jīng)棱鏡片903和擴(kuò)散片904后從光源模組出射；部分離開導(dǎo)光片的光線被反射片905反射后，再通過導(dǎo)光片901，并經(jīng)棱鏡片903和擴(kuò)散片904后從光源模組出射。
[0039]以上所述僅為描述本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】，并不用于限制本發(fā)明。在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi)，可以有各種更改和變化，但均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種同時制作多片含有厚度漸變區(qū)域的導(dǎo)光片的方法，其特征在于，包括以下步驟: 一、提供導(dǎo)光片基材，導(dǎo)光片基材具有光學(xué)透明特性； 二、采用同一涂布裝置，在導(dǎo)光片基材上的同一涂布步驟中涂覆產(chǎn)生含有多個厚度漸變區(qū)域和厚度均勻區(qū)域的膠體涂層，膠體涂層含有可光聚合材料； 三、設(shè)計掩模板，掩模板圖案含有多個與導(dǎo)光片中厚度漸變區(qū)域和厚度均勻區(qū)域分別對應(yīng)的透光區(qū)域和由密度漸變的透光開口或阻光圖案組成的區(qū)域； 四、使單元掩模板區(qū)域中的透光區(qū)域與基材上膠層中厚度漸變區(qū)域?qū)R，并使掩模板中含有密度漸變的透光開口或阻光圖案組成的區(qū)域與膠層中厚度均勻區(qū)域?qū)R； 五、使用準(zhǔn)直或接近準(zhǔn)直的能量輻射，通過掩模板，照射基材上的膠層，選擇性地固化膠層中的可光聚合材料；并使用溶劑洗滌選擇性固化后的膠層，同時形成由膠體涂層中可光聚合材料接受能量輻射后固化而形成的導(dǎo)光片厚度漸變區(qū)域和密度漸變的微結(jié)構(gòu)區(qū)域； 六、使多片導(dǎo)光片分離。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于:步驟二中，導(dǎo)光片基材上采用狹縫涂布的方式涂布含有厚度漸變區(qū)域和厚度均勻區(qū)域的膠層；所述狹縫涂布的方式是指:涂布膠體存放于膠體儲罐中，通過精密泵浦將膠體供給至狹縫涂布頭；涂布膠體從縫隙涂布頭的狹縫中吐出，同時，狹縫涂布頭沿X方向移動，使涂布膠體覆蓋到透明基材的表面上，涂布膠體涂層區(qū)域包含厚度漸變區(qū)域和厚度均勻區(qū)域；涂布膠體涂層區(qū)域之間的間隙，在縫隙涂布頭移動至該區(qū)域時，無膠體從涂布頭的狹縫中吐出。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于:狹縫涂布頭起始位置定于沿X軸運(yùn)動方向的“B”處，涂布膠體從狹縫涂布頭的狹縫中吐出，在-X方向流動至“A”處，狹縫涂布頭從位置“B”處移動至位置“C”處，通過控制狹縫涂布頭運(yùn)動的速度和從狹縫涂布頭狹縫中膠體吐出的速度，形成從對應(yīng)位置“B”處的膠體最厚處開始，厚度逐漸減小的厚度漸變區(qū)域；形成厚度逐漸減小的厚度漸變區(qū)域的控制方式為涂布頭狹縫膠體吐出的速度保持恒定，而狹縫涂布頭沿X方向的運(yùn)動速度逐漸增加，當(dāng)狹縫涂布頭運(yùn)動至位置“C”，在狹縫涂布頭涂布膠體吐出的速度保持恒定的同時，使狹縫涂布頭勻速運(yùn)動至位置“C”，形成厚度均勻區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于:步驟二中，導(dǎo)光片基材上采用狹縫涂布的方式涂布含有厚度漸變區(qū)域和厚度均勻區(qū)域的膠層；所述狹縫涂布的方式是指:狹縫涂布頭吐出涂布膠體的狹縫上設(shè)置了多個填充狹縫的小區(qū)間，涂布膠體無法從相應(yīng)的填充小區(qū)間處吐出；涂布至導(dǎo)光片基材上的膠層，相應(yīng)地在Y方向上形成間隙性的區(qū)間，包含厚度漸變區(qū)域和厚度均勻區(qū)域的膠層之間被沒被膠層覆蓋的區(qū)間隔開。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于:步驟四中，掩模板含有襯底和多個單元掩模板圖案區(qū)域，單元掩模板區(qū)域包含透光區(qū)域和含有密度漸變透光開口或阻光圖案區(qū)域，單元掩模板區(qū)域由阻光部分隔開，單元掩模板區(qū)域中透光開口與涂覆在基材上厚度漸變的區(qū)域?qū)?yīng)，單元掩模板中由密度漸變的透光開口或阻光部分組成的圖案區(qū)域與基材上厚度均勻區(qū)域?qū)?yīng)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于:步驟五中，準(zhǔn)直或近似準(zhǔn)直的能量輻射為紫外光或電子束，膠層中可光聚合材料接受能量輻射而固化，采用溶劑洗滌經(jīng)能量輻射步驟后的膠層，使接收能量輻射而固化的部分留在基材上，未固化的部分在溶劑洗滌的過程中被去除，在厚度漸變的膠體區(qū)域形成厚度漸變的固體區(qū)域，厚度均勻的膠體區(qū)域形成密度漸變的微結(jié)構(gòu)區(qū)域。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于:步驟六中，多片導(dǎo)光片通過切割的方式將單元導(dǎo)光片分切，分切的方式采用激光、機(jī)械或其他合適的切割方式；對厚度漸變區(qū)域的分切，包含沿厚度最大位置的切割；沿厚度最大位置的切割可在單元導(dǎo)光片從大版導(dǎo)光片分切后單獨(dú)進(jìn)行，或在將單元導(dǎo)光片從大版導(dǎo)光片中分切時同時進(jìn)行；所獲得的單元導(dǎo)光片的厚度漸變區(qū)域的端面可進(jìn)一步進(jìn)行拋光處理或其他提高光學(xué)性能的處理。
【文檔編號】G02B6/00GK104133344SQ201410405130
【公開日】2014年11月5日 申請日期:2014年8月15日 優(yōu)先權(quán)日:2014年8月15日
【發(fā)明者】路志堅, 鄭穎博, 李中強(qiáng) 申請人:南京博昱光電科技有限公司