掩膜板及利用掩膜板構(gòu)圖的方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種掩膜板及利用掩膜板構(gòu)圖的方法，該掩膜板包括遮光區(qū)域和開(kāi)口區(qū)域，所述開(kāi)口區(qū)域的邊緣呈凹凸?fàn)?。本發(fā)明通過(guò)將掩膜板的開(kāi)口區(qū)域的邊緣設(shè)為凹凸?fàn)?，從而可以提高光刻膠在涂布、曝光、顯影、烘烤工序后形成矩陣的邊緣直線性，進(jìn)而能夠防止彩膜基板中彩色濾光片的矩陣邊緣產(chǎn)生鋸齒狀或者波浪狀的問(wèn)題，從而提高液晶顯示器的色彩顯示的均勻性，尤其對(duì)于采用負(fù)性光刻膠或者形成矩陣線寬較細(xì)的產(chǎn)品，其效果尤為顯著。
【專利說(shuō)明】掩膜板及利用掩膜板構(gòu)圖的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示領(lǐng)域，尤其涉及一種掩膜板及利用掩膜板構(gòu)圖的方法。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示器憑借其功耗低、制造成本相對(duì)較低和無(wú)輻射等特點(diǎn)，已經(jīng)成為平面顯示器的主流，被廣泛應(yīng)用于各種顯示元件，例如移動(dòng)電話、電腦、電視等電子裝置的顯示器上。
[0003]液晶顯示器的主要結(jié)構(gòu)包括對(duì)盒形成的陣列基板、彩膜基板以及位于陣列基板和彩膜基板之間的液晶層，其原理是通過(guò)電場(chǎng)控制液晶層中液晶分子的扭轉(zhuǎn)，從而控制液晶層的透光率，而彩膜基板上形成有黑矩陣(BM)和著色層矩陣(RGB)，分別實(shí)現(xiàn)遮光和濾光的作用，在液晶顯示器的制作過(guò)程中，對(duì)于彩膜基板，其上的黑矩陣(BM)、著色層矩陣(RGB)與支撐柱(PS)普遍采用負(fù)性光刻膠，并通過(guò)涂布、接近式曝光、顯影、烘烤等工序形成，具體地，參見(jiàn)圖1及圖2，在接近式曝光工序中，曝光光線穿過(guò)掩膜板I’的開(kāi)口區(qū)域照射至基板3’上的負(fù)性光刻膠2’表面，接觸到光線的光刻膠區(qū)域?qū)l(fā)生聚合反應(yīng)，形成高強(qiáng)度的高分子鏈，而后經(jīng)過(guò)顯影、烘烤后將在基板3’表面形成矩陣21’，而未接觸到光線的光刻膠區(qū)域在顯影工序中將被溶解或剝離，但是，在曝光工序中，參見(jiàn)圖3及圖4，掩膜板包括遮光區(qū)域11’和開(kāi)口區(qū)域12’，掩膜板中開(kāi)口區(qū)域12’的邊緣為直線狀，在曝光光源穿過(guò)掩膜板的開(kāi)口區(qū)域12’時(shí)，由于光源的衍射作用，不同掩膜板開(kāi)口區(qū)域?qū)?yīng)的光強(qiáng)存在差異，特別是在開(kāi)口區(qū)域的邊緣處，其對(duì)應(yīng)的光強(qiáng)偏低(開(kāi)口區(qū)域線寬越小，此種差異越明顯)，從而影響開(kāi)口區(qū)域邊緣處的負(fù)性光刻膠的表面硬化效果，在后續(xù)的顯影工序中，開(kāi)口區(qū)域邊緣處的光刻膠吸收水分膨脹，應(yīng)力加大，容易產(chǎn)生橫向變形，造成矩陣21’邊緣的彎曲(如圖5)，進(jìn)而使得彩膜基板中的彩色濾光片的矩陣邊緣產(chǎn)生鋸齒狀或者波浪狀，造成后續(xù)形成的顯示器產(chǎn)生色彩顯示不均等不良，特別是在形成線寬小于10 μ m的黑矩陣(BM)的過(guò)程中，此種現(xiàn)象更為明顯。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004](一 )要解決的技術(shù)問(wèn)題
[0005]本發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種掩膜板及利用掩膜板構(gòu)圖的方法，能夠提高光刻膠形成矩陣的邊緣的直線性。
[0006]( 二 )技術(shù)方案
[0007]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明的技術(shù)方案提供了一種掩膜板，包括遮光區(qū)域和開(kāi)口區(qū)域，其中，所述開(kāi)口區(qū)域的邊緣呈凹凸?fàn)睢?br> [0008]進(jìn)一步地,所述凹凸?fàn)顬殇忼X狀或者波浪狀。
[0009]進(jìn)一步地，所述凹凸?fàn)钣啥鄠€(gè)凸起形成，且同一邊緣上任意相鄰兩個(gè)凸起之間的間距相同。
[0010]進(jìn)一步地，所述多個(gè)凸起為等腰三角形且大小相同。[0011]進(jìn)一步地，所述凸起的頂角為30度?150度。
[0012]進(jìn)一步地,所述凸起的高度為I μ m至2 μ m,寬度為I μ m至8 μ m。
[0013]進(jìn)一步地，所述開(kāi)口區(qū)域兩邊緣上的凸起一一正對(duì)設(shè)置。
[0014]進(jìn)一步地，所述開(kāi)口區(qū)域兩邊緣上任意相對(duì)凸起之間的距離為4μπι至50 μ m。
[0015]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本發(fā)明還提供了一種利用上述任意一種掩膜板構(gòu)圖的方法，包括:
[0016]在基板上形成光刻膠層；
[0017]采用所述掩膜板對(duì)所述光刻膠層進(jìn)行曝光，顯影后形成光刻膠矩陣。
[0018]進(jìn)一步地，所述光刻膠層中的光刻膠為負(fù)性光刻膠。
[0019](三)有益效果
[0020]本發(fā)明通過(guò)將掩膜板的開(kāi)口區(qū)域的邊緣設(shè)為凹凸?fàn)睿瑥亩梢蕴岣吖饪棠z在涂布、曝光、顯影、烘烤工序后形成矩陣的邊緣直線性，進(jìn)而能夠防止彩膜基板中彩色濾光片的矩陣邊緣產(chǎn)生鋸齒狀或者波浪狀的問(wèn)題，從而提高液晶顯示器的色彩顯示的均勻性，尤其對(duì)于采用負(fù)性光刻膠或者形成矩陣線寬較細(xì)的產(chǎn)品，其效果尤為顯著。
【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0021]圖1?2是現(xiàn)有技術(shù)中負(fù)性光刻膠曝光顯影的示意圖；
[0022]圖3是現(xiàn)有技術(shù)中掩膜板的示意圖；
[0023]圖4?5是現(xiàn)有技術(shù)中形成的負(fù)性光刻膠矩陣的示意圖；
[0024]圖6是本發(fā)明實(shí)施方式提供的一種掩膜板的示意圖；
[0025]圖7是本發(fā)明實(shí)施方式提供的一種開(kāi)口區(qū)域的示意圖；
[0026]圖8是本發(fā)明實(shí)施方式提供的另一種開(kāi)口區(qū)域的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0027]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)描述。以下實(shí)施例用于說(shuō)明本發(fā)明，但不用來(lái)限制本發(fā)明的范圍。
[0028]圖5是本發(fā)明實(shí)施方式提供的一種掩膜板的示意圖，該掩膜板包括遮光區(qū)域11和開(kāi)口區(qū)域12，所述開(kāi)口區(qū)域12的邊緣呈凹凸?fàn)睢?br> [0029]其中，上述凹凸?fàn)羁梢詾閳D7所示的波浪狀，也可以為圖8所示的鋸齒狀。
[0030]具體地，可以通過(guò)在開(kāi)口區(qū)域12的邊緣處形成多個(gè)凸起或者多個(gè)凹陷結(jié)構(gòu)以形成上述的凹凸?fàn)钸吘?，參?jiàn)圖8，上述開(kāi)口區(qū)域12的邊緣由多個(gè)凸起13形成，且同一邊緣上，任意相鄰兩個(gè)凸起之間的間距相同，例如，同一邊緣兩相鄰?fù)蛊痖g的間距為O μ m、l μ m、2 μ m等等。
[0031]優(yōu)選地，可以將開(kāi)口區(qū)域邊緣上的多個(gè)凸起的形狀設(shè)為大小相同的等腰三角形，其中，凸起13 (等腰三角形)的頂角α可以為30度?150度，例如可以為60度、90度、120
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[0032]優(yōu)選地，凸起的高度C為Ιμπι至2μ m,例如,可以為1.3 μ m、1.5 μ m、1.8 μ m等，寬度A為Iym至8μηι,例如，可以為3μηι、5μηι、7μηι等等。
[0033]參見(jiàn)圖8，開(kāi)口區(qū)域12包括第一邊緣121和第二緣邊122，優(yōu)選地，可以使第一邊緣121上的凸起與第二緣邊122的凸起一一正對(duì)設(shè)置。
[0034]其中，在上述的實(shí)施方式中，開(kāi)口區(qū)域兩邊緣上任意相對(duì)凸起之間的距離B(即兩個(gè)正對(duì)凸起頂點(diǎn)間的距離)為4 μ m至50 μ m,例如可以為10 μ m、20 μ m等等。參見(jiàn)表1,表I是凸起的高度C為1.5 μ m且掩膜板開(kāi)口區(qū)域透光率為100 %時(shí)，凸起寬度A (單位:μ m)、兩邊緣上任意相對(duì)凸起之間的距離B (單位:μ m)在不同數(shù)值下形成的黑矩陣的線寬L(單位:μ m)的值。
[0035]表1
【權(quán)利要求】
1.一種掩膜板，包括遮光區(qū)域和開(kāi)口區(qū)域，其特征在于，所述開(kāi)口區(qū)域的邊緣呈凹凸?fàn)睢?br> 2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述凹凸?fàn)顬殇忼X狀或者波浪狀。
3.根據(jù)權(quán)利要求1至2任一所述的掩膜板，其特征在于，所述凹凸?fàn)钣啥鄠€(gè)凸起形成，且同一邊緣上任意相鄰兩個(gè)凸起之間的間距相同。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掩膜板，其特征在于，所述多個(gè)凸起為等腰三角形且大小相同。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述凸起的頂角為30度?150度。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述凸起的高度為Iμ m至2 μ m，寬度為 1μηιΜ8μηι。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掩膜板，其特征在于，所述開(kāi)口區(qū)域兩邊緣上的凸起一一正對(duì)設(shè)置。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的掩膜板，其特征在于，所述開(kāi)口區(qū)域兩邊緣上任意相對(duì)凸起之間的距離為4 μ m至50 μ m。
9.一種利用如權(quán)利要求1至8任一所述的掩膜板構(gòu)圖的方法，其特征在于，包括: 在基板上形成光刻膠層； 采用所述掩膜板對(duì)所述光刻膠層進(jìn)行曝光，顯影后形成光刻膠矩陣。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述光刻膠層中的光刻膠為負(fù)性光刻膠。
【文檔編號(hào)】G02F1/1335GK104035274SQ201410259177
【公開(kāi)日】2014年9月10日 申請(qǐng)日期:2014年6月11日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月11日
【發(fā)明者】汪棟 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司