一種光學(xué)精密系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)裝置制造方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種光學(xué)精密系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)裝置，涉及精密儀器【技術(shù)領(lǐng)域】，其中，本發(fā)明通過在第一物體上設(shè)置第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，在第二物體上設(shè)置第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，利用照明系統(tǒng)給所述第一物體上的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記提供照明，利用成像系統(tǒng)將第一物體上的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記成像在第二物體表面后形成第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，且第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記及第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在第二物體表面重疊后形成第一圖像。進(jìn)而利用觀測(cè)系統(tǒng)中的成像模塊、聚束模塊將包含多組、離散分布的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的第一圖像會(huì)聚后，形成第二圖像，由單個(gè)探測(cè)模塊和處理模塊接收、處理，實(shí)現(xiàn)多通道對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記實(shí)時(shí)、統(tǒng)一顯示和調(diào)整，從而實(shí)現(xiàn)第一物體和第二物體的位置精確對(duì)準(zhǔn)。達(dá)到了對(duì)準(zhǔn)精度高、操作便捷的技術(shù)效果。
【專利說明】一種光學(xué)精密系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)裝置
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及精密儀器【技術(shù)領(lǐng)域】，尤其涉及一種光學(xué)精密系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]在現(xiàn)代微電子學(xué)中，集成電路的制造屬于精密微細(xì)加工技術(shù)，包括光刻、離子注入、刻蝕、外延生長、氧化等一系列工藝。在表面涂有光刻膠的硅片上，通過曝光、顯影等工藝將圖形轉(zhuǎn)移到光刻膠上，在此基礎(chǔ)上進(jìn)行刻蝕或者離子注入等工序。由于，一般的芯片制程過程中至少需要幾十次的光刻工序，每層版圖的光刻都需要事先與前層圖形進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)。精密對(duì)準(zhǔn)裝置是提高精密系統(tǒng)精度與性能的關(guān)鍵。
[0003]但本申請(qǐng)發(fā)明人在實(shí)現(xiàn)本申請(qǐng)實(shí)施例中發(fā)明技術(shù)方案的過程中，發(fā)現(xiàn)現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)準(zhǔn)裝置精度不高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明實(shí)施例提供一種光學(xué)精密系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)裝置，用于解決現(xiàn)有技術(shù)中對(duì)準(zhǔn)精度不高的技術(shù)問題，達(dá)到對(duì)準(zhǔn)精度高、操作便捷的技術(shù)效果。
[0005]本申請(qǐng)通過本申請(qǐng)的一實(shí)施例提供如下技術(shù)方案:
[0006]一種光學(xué)精密系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)裝置，用于所述光學(xué)精密系統(tǒng)中的第一物體和第二物體間的位置對(duì)準(zhǔn)，其中，所述第一物體上設(shè)有第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，所述第二物體上設(shè)有第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其中，所述裝置包括:照明系統(tǒng)，所述照明系統(tǒng)配置于所述第一物體前面，用于照明所述第一物體上的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記；成像系統(tǒng)，所述成像系統(tǒng)配置于所述第一物體和第二物體之間，用于將所述第一物體上的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記成像在所述第二物體上；其中，所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在所述第二物體上的成像為第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記；觀測(cè)系統(tǒng)，所述觀測(cè)系統(tǒng)配置于所述第二物體后面，用于觀測(cè)所述第二物體上的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和所述第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記構(gòu)成的第一圖像。
[0007]進(jìn)一步的，所述觀測(cè)系統(tǒng)包括:成像模塊，所述成像模塊位于所述第二物體后面，用于將所述第二物體上的第一圖像成像至探測(cè)模塊上；聚束模塊，所述聚束模塊位于所述成像模塊后面，用于將包含多組離散分布的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的第一圖像會(huì)聚后形成第二圖像；探測(cè)模塊，所述探測(cè)模塊位于所述聚束模塊后面，用于探測(cè)所述第二圖像。處理模塊，所述處理模塊位于探測(cè)模塊后面，根據(jù)所述第二圖像體征所述第一物體和所述第二物體的相對(duì)位置。
[0008]進(jìn)一步的，所述第二物體為透射式物體或者所述第二物體為反射式物體。
[0009]進(jìn)一步的，所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形與第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形為任意兩兩互補(bǔ)的圖形。
[0010]進(jìn)一步的，所述成像模塊根據(jù)所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的數(shù)量進(jìn)行設(shè)置，所述成像模塊為兩組或多組成像透鏡，或者所述成像模塊為兩根或者多根成像光纖。
[0011]進(jìn)一步的，所述聚束模塊為兩組或多組相配合的斜方棱鏡，或者所述聚束模塊為兩組或多組相配合的反射鏡組。
[0012]本發(fā)明實(shí)施例的有益效果如下:[0013]本發(fā)明一實(shí)施例提供的一種光學(xué)精密系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)裝置，通過在第一物體上設(shè)置第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，在第二物體上設(shè)置第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，利用照明系統(tǒng)給所述第一物體上的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記提供照明，利用成像系統(tǒng)將第一物體上的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記成像在第二物體表面后形成第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，進(jìn)而利用觀測(cè)系統(tǒng)觀測(cè)第二物體上的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記所形成的第一圖像，且利用觀測(cè)系統(tǒng)中的聚束模塊，將包含兩組或多組離散分布的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的第一圖像，會(huì)聚后形成第二圖像；利用圖像處理模塊對(duì)探測(cè)模塊探測(cè)到的第二圖像進(jìn)行處理后，就可以精確的確定第一物體和第二物體的位置關(guān)系，達(dá)到了對(duì)準(zhǔn)精度高、操作便捷的技術(shù)效果。
[0014]進(jìn)一步的，本發(fā)明一實(shí)施例通過設(shè)置第二物體為透明式或者反射式物體，不僅可用于第二物體為透光物體時(shí)，利用其透過的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖像，實(shí)現(xiàn)與第一物體的位置對(duì)準(zhǔn)；也可用于第二物體為不透光物體時(shí)，利用其表面反射的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖像，實(shí)現(xiàn)與第一物體的位置對(duì)準(zhǔn)。同時(shí)，可以根據(jù)實(shí)際需要調(diào)整光路方向，進(jìn)而可以實(shí)現(xiàn)調(diào)整整個(gè)裝置機(jī)械空間的技術(shù)效果。
[0015]進(jìn)一步的，本發(fā)明一實(shí)施例通過將第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記定義為互補(bǔ)性圖形，具有辨識(shí)快速、辨識(shí)準(zhǔn)確的技術(shù)效果。
[0016]進(jìn)一步的，本發(fā)明一實(shí)施例通過聚束模塊將將包含兩組或多組離散分布的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的第一圖像，會(huì)聚后形成第二圖像發(fā)送給探測(cè)模塊，具有減小探測(cè)模塊體積的技術(shù)效果。
[0017]進(jìn)一步的，本發(fā)明一實(shí)施例通過處理模塊可以自動(dòng)的獲得第一物體和第二物體的相對(duì)位置，并可以根據(jù)預(yù)設(shè)程序自動(dòng)調(diào)整第一物體和第二物體的位置，具有智能操作的技術(shù)效果。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0018]圖1為本發(fā)明一實(shí)施例中一種光學(xué)精密系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖2為本發(fā)明一實(shí)施例中一種光學(xué)精密系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)裝置的又一結(jié)構(gòu)示意圖
[0020]圖3為本發(fā)明一實(shí)施例中一組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的示意圖；
[0021]圖4為本發(fā)明一實(shí)施例中又一組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的示意圖；
[0022]圖5為本發(fā)明一實(shí)施例中對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記相對(duì)于物體的位置關(guān)系示意圖；
[0023]圖6為本發(fā)明一實(shí)施例中的一種觀測(cè)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0024]圖7為本發(fā)明一實(shí)施例中的又一種觀測(cè)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0025]圖8為本發(fā)明一實(shí)施例中的再一種觀測(cè)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0026]本發(fā)明一實(shí)施例提供的一種光學(xué)精密系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)裝置，通過在第一物體和第二物體上設(shè)置一組或多組、離散分布的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，并通過觀測(cè)系統(tǒng)對(duì)所述第二物體表面自身包含的所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，及由第一物體上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記經(jīng)成像系統(tǒng)在第二物體表面所成的像，兩者共同成像和觀測(cè)。利用觀測(cè)系統(tǒng)中的聚束模塊將第一物體和第二物體上離散分布的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的像會(huì)聚后，由單個(gè)探測(cè)模塊和圖像處理模塊接收、處理，能夠?qū)崿F(xiàn)多通道對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記實(shí)時(shí)、統(tǒng)一顯示和調(diào)整，可以實(shí)現(xiàn)精密系統(tǒng)中第一物體和第二物體的位置精確控制，達(dá)到提高系統(tǒng)精密系統(tǒng)精度和性能的目的。[0027]為使本申請(qǐng)一實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本申請(qǐng)實(shí)施例中的附圖，對(duì)本申請(qǐng)實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本申請(qǐng)一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒旧暾?qǐng)中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0028]實(shí)施例一
[0029]為使本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠更詳細(xì)了解本發(fā)明，以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0030]如圖1所述，圖1為本發(fā)明一實(shí)施例中一種光學(xué)精密系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)裝置的結(jié)構(gòu)示意圖，其中所述對(duì)準(zhǔn)裝置用于所述光學(xué)精密系統(tǒng)中的第一物體2和第二物體3間的位置對(duì)準(zhǔn)，其中，所述第一物體2上設(shè)有第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記21，所述第二物體3上設(shè)有第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記31，其中，所述裝置包括:
[0031]照明系統(tǒng)1，所述照明系統(tǒng)I配置于所述第一物體2前面，用于照明所述第一物體2上的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記21 ；
[0032]具體來說，第一物體2上可以設(shè)有多個(gè)第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記21，第二物體3上也可以設(shè)有多個(gè)第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記31，本申請(qǐng)并不限定對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的數(shù)量，需要說明的是，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的數(shù)量對(duì)于提升對(duì)準(zhǔn)率具有一定的提升作用。
[0033]進(jìn)一步的，照明系統(tǒng)可以是一個(gè)光罩，或者本領(lǐng)域技術(shù)人員可以獲知的其他照明物體，本申請(qǐng)也不具體限定照明系統(tǒng)的類型。
[0034]進(jìn)一步的，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記可以是多種形式，具體來說可以是形狀互補(bǔ)的圖形。比如如圖3為十字叉與反十字叉的對(duì)準(zhǔn)，如圖4為橫向和縱向的雙十字的對(duì)準(zhǔn)。本申請(qǐng)不具體限定對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的圖形方式，只要利于觀察對(duì)準(zhǔn)率的圖形方式均為本申請(qǐng)的保護(hù)范圍。對(duì)于圖3、4的圖形而言，不僅可以具體校對(duì)焦點(diǎn)，還能進(jìn)一步校對(duì)長寬的偏差率是較優(yōu)的圖形方式。
[0035]進(jìn)一步的，對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的標(biāo)記線條的寬度和間距取決于第一物體2與第二物體3位置對(duì)準(zhǔn)精度要求，和成像模塊4及觀測(cè)系統(tǒng)5的分辨率。例如，標(biāo)記線條的寬度可取20um，間距可取30um,標(biāo)記長度可取0.5mm?1mm。
[0036]成像系統(tǒng)4，所述成像系統(tǒng)4配置于所述第一物體2和第二物體3之間，用于將所述第一物體2上的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記21成像在所述第二物體3上；其中，所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記21在所述第二物體3上的成像為第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記21’ ；
[0037]具體來說，成像系統(tǒng)4的物方焦平面位于第一物體2的后表面上，像方焦平面位于第二物體3的前表面。
[0038]觀測(cè)系統(tǒng)5，所述觀測(cè)系統(tǒng)5配置于所述第二物體3后面，用于觀測(cè)所述第二物體3上的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記31和所述第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記21’構(gòu)成的第一圖像。
[0039]具體來說，觀測(cè)系統(tǒng)5位于所述第二物體3的后面，對(duì)所述第二物體3表面自身包含的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記31，及由所述第一物體2的所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記21經(jīng)成像系統(tǒng)4在第二物體3表面所成的像第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記21’，共同成像成第一圖像并觀察。其中，第一圖像中第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記及第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記均包含兩組或多組、離散分布的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。
[0040]進(jìn)一步的，所述觀測(cè)系統(tǒng)5包括:
[0041]成像模塊51，所述成像模塊51位于所述第二物體2后面，用于將所述第二物體2上的第一圖像成像到探測(cè)模塊53上；[0042]具體來說，成像模塊51可以根據(jù)所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的數(shù)量進(jìn)行設(shè)置。比如每對(duì)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記均可以設(shè)置單獨(dú)的成像模塊，每個(gè)成像模塊均可以對(duì)每對(duì)對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記單獨(dú)進(jìn)行放大或者縮小成像。
[0043]聚束模塊52，所述聚束模塊52位于所述成像模塊52后面，用于將包含兩組或多組離散分布的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的第一圖像，會(huì)聚后形成第二圖像發(fā)送給探測(cè)模塊53。
[0044]具體來說，聚束模塊52用于將離散分布的兩對(duì)或者多組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成的在第二物體3上形成的圖像，比如第一圖像進(jìn)行會(huì)聚，以減少所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記形成的圖像之間的間距，以便被所述探測(cè)模塊53接收，實(shí)現(xiàn)多通道對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記統(tǒng)一顯示和調(diào)整，避免多個(gè)所述探測(cè)模塊占用機(jī)械空間，同時(shí)節(jié)約成本。
[0045]探測(cè)模塊53，所述探測(cè)模塊53位于所述聚束模塊52后面，用于探測(cè)所述第二圖像62。
[0046]具體來說，探測(cè)模塊53采集所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記經(jīng)成像模塊51和聚束模塊52處理后的第二圖像，并將第二圖像發(fā)送給處理模塊54。
[0047]處理模塊54，所述處理模塊54根據(jù)所述第二圖像體征所述第一物體2和所述第二物體3的相對(duì)位置。
[0048]具體來說，處理模塊54接收第二圖像，并進(jìn)一步可以根據(jù)第二圖像分析出第一物體2和第二物體3之間的相對(duì)位置，進(jìn)一步的，還可以根據(jù)預(yù)先設(shè)定的規(guī)則，精確調(diào)整第一物體2和第二物體3之間的相對(duì)位置。
[0049]上述實(shí)施例所提供的一種光學(xué)精密系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)裝置中的第二物體3是透射式的，也就是說，第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記21經(jīng)過成像系統(tǒng)4后與第二物體3表面上的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記31組合后形成第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記21 ‘，然后由于第二物體3是透射式的，進(jìn)而可以被觀測(cè)系統(tǒng)5獲得。
[0050]進(jìn)一步的，本發(fā)明實(shí)施例還提供一種光學(xué)精密系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)裝置的第二物體3是反射式的，也就是說，第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記21經(jīng)過成像系統(tǒng)4后與第二物體3表面上的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記31組合后形成第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記21 ‘，然后由于第二物體3是反射式的，可以將第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記21’反射后被觀測(cè)系統(tǒng)5獲得。采用該種方式可用于第二物體為不透光物體時(shí)，利用其表面反射的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖像，實(shí)現(xiàn)與第一物體的位置對(duì)準(zhǔn)。同時(shí)，也可以通過改變光路，實(shí)現(xiàn)節(jié)省空間，自由靈活的技術(shù)效果。如圖5所示，為本發(fā)明一實(shí)施例中對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記相對(duì)于物體的位置關(guān)系示意圖。
[0051]具體來說，第一物體2和第二物體3為精密系統(tǒng)中兩關(guān)鍵元件，如:依據(jù)莫爾條紋原理的精密測(cè)量系統(tǒng)中的參考光柵和檢測(cè)光柵。所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記位于第一物體2和第二物體3的兩側(cè)接近光柵圖形的位置。光柵圖形周圍可有多組所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記。例如，在第二物體3光柵圖形的兩側(cè)可設(shè)置多組所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其中第一組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記用于與第一物體2的標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)，剩余對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記用于與除第一物體2外的其他物體上對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)。
[0052]如圖6所示，為本發(fā)明一實(shí)施例中的一種觀測(cè)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0053]具體來說，所述成像模塊51可由兩組雙膠合透鏡組成，組合不同的放大倍率，以配合探測(cè)模塊53的尺寸和成像清晰性。所述成像模塊51數(shù)值孔徑應(yīng)大于對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記出射光(包含± I級(jí)衍射光)的數(shù)值孔徑，分辨率應(yīng)大于兩標(biāo)記對(duì)準(zhǔn)時(shí)的最小間隙，例如取5?IOum0[0054]所述聚束模塊52可為兩塊粘貼在一起的斜方棱鏡，斜方棱鏡將兩組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記集中成像在探測(cè)模塊53上。以便單個(gè)所述探測(cè)模塊完整接收，提高成像一致性。同時(shí)，避免多個(gè)所述探測(cè)模塊占用機(jī)械空間，實(shí)現(xiàn)多通道對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記統(tǒng)一顯示和調(diào)整。
[0055]探測(cè)模塊53可為一個(gè)電荷耦合器件，采集所述多個(gè)第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記經(jīng)所述成像模塊51和所述聚束模塊52所成的第二圖像，進(jìn)而獲取所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的對(duì)準(zhǔn)情況，并據(jù)此來精確調(diào)整第一物體2和第二物體3的相對(duì)位置。處理模塊54，可通過人眼觀察后處理，也可通過計(jì)算機(jī)自動(dòng)處理。
[0056]如圖7所示，為本發(fā)明一實(shí)施例中的又一種觀測(cè)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0057]具體來說，其中，所述聚束模塊52可各包含兩片或多片反射鏡組，反射鏡組將兩組或多組對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記集中成像在探測(cè)模塊53上，再由處理模塊54進(jìn)行處理。
[0058]如圖8所示，為本發(fā)明一實(shí)施例中的再一種觀測(cè)系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0059]具體來說，其中，成像模塊51為一根成像光纖，對(duì)所述第二物體3表面自身包含的所述第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記31，及由第一物體2上的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記21經(jīng)成像系統(tǒng)4在第二物體3表面所成的像21’，共同成像并會(huì)聚于探測(cè)模塊53上。在該實(shí)施例中，可省去聚束模塊，通過調(diào)整兩根或多跟成像光纖之間的相對(duì)距離，使對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的像會(huì)聚于單個(gè)探測(cè)模塊53上。
[0060]上述本申請(qǐng)實(shí)施例中的技術(shù)方案，至少具有如下的技術(shù)效果或優(yōu)點(diǎn):
[0061]本發(fā)明一實(shí)施例提供的一種光學(xué)精密系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)裝置，通過在第一物體上設(shè)置第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，在第二物體上設(shè)置第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，利用照明系統(tǒng)給所述第一物體提供照明，利用成像系統(tǒng)將第一物體上的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記成像在第二物體表面后形成第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，進(jìn)而利用觀測(cè)系統(tǒng)觀測(cè)第二物體上的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記所形成的第一圖像，就可以精確的確定第一物體和第二物體的位置關(guān)系，達(dá)到了對(duì)準(zhǔn)精度高、操作便捷的技術(shù)效果。
[0062]進(jìn)一步的，本發(fā)明一實(shí)施例通過設(shè)置第二物體為透明式或者反射式物體，不僅可用于第二物體為透光物體時(shí)，利用其透過的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖像，實(shí)現(xiàn)與第一物體的位置對(duì)準(zhǔn)；也可用于第二物體為不透光物體時(shí)，利用其表面反射的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖像，實(shí)現(xiàn)與第一物體的位置對(duì)準(zhǔn)。同時(shí)，可以根據(jù)實(shí)際需要調(diào)整光路方向，進(jìn)而可以實(shí)現(xiàn)調(diào)整整個(gè)裝置機(jī)械空間的技術(shù)效果。
[0063]進(jìn)一步的，本發(fā)明一實(shí)施例通過將第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記定義為互補(bǔ)性圖形，具有辨識(shí)快速、辨識(shí)準(zhǔn)確的技術(shù)效果。
[0064]進(jìn)一步的，本發(fā)明一實(shí)施例通過聚束模塊包含多組離散分布的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的第一圖像會(huì)聚后形成第二圖像發(fā)送給探測(cè)模塊，具有減小探測(cè)模塊體積的技術(shù)效果。
[0065]進(jìn)一步的，本發(fā)明一實(shí)施例通過處理模塊可以自動(dòng)的獲得第一物體和第二物體的相對(duì)位置，并可以根據(jù)預(yù)設(shè)程序自動(dòng)調(diào)整第一物體和第二物體的位置，具有智能操作的技術(shù)效果。
[0066]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種光學(xué)精密系統(tǒng)的對(duì)準(zhǔn)裝置，用于所述光學(xué)精密系統(tǒng)中的第一物體和第二物體間的位置對(duì)準(zhǔn)，其中，所述第一物體上設(shè)有第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，所述第二物體上設(shè)有第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，其中，所述裝置包括: 照明系統(tǒng)，所述照明系統(tǒng)配置于所述第一物體前面，用于照明所述第一物體上的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記； 成像系統(tǒng)，所述成像系統(tǒng)配置于所述第一物體和第二物體之間，用于將所述第一物體上的第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記成像在所述第二物體上；其中，所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記在所述第二物體上的成像為第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記； 觀測(cè)系統(tǒng)，所述觀測(cè)系統(tǒng)配置于所述第二物體后面，用于觀測(cè)所述第二物體上的第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記和所述第三對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記構(gòu)成的第一圖像。
2.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述觀測(cè)系統(tǒng)包括: 成像模塊，所述成像模塊位于所述第二物體后面，用于將所述第二物體上的第一圖像成像到探測(cè)模塊上； 聚束模塊，所述聚束模塊位于所述成像模塊后面，用于將包含兩組或多組離散分布的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的第一圖像會(huì)聚后形成第二圖像； 探測(cè)模塊，所述探測(cè)模塊位于所述聚束模塊后面，用于探測(cè)所述第二圖像； 處理模塊，所述處理模塊對(duì)探測(cè)模塊探測(cè)到的第二圖像進(jìn)行處理后，就可以精確的確定第一物體和第二物體的位置關(guān)系。
3.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述第二物體為透射式物體或者所述第二物體為反射式物體。
4.如權(quán)利要求1所述的裝置，其特征在于，所述第一對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形與第二對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記圖形為任意兩兩互補(bǔ)的圖形。
5.如權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，所述成像模塊根據(jù)所述對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記的數(shù)量進(jìn)行設(shè)置，所述成像模塊為兩組或多組成像透鏡，或者所述成像模塊為兩根或者多根成像光纖。
6.如權(quán)利要求2所述的裝置，其特征在于，所述聚束模塊為兩組或多組相配合的斜方棱鏡，或者所述聚束模塊為兩組或多組相配合的反射鏡組。
【文檔編號(hào)】G03F9/00GK103955124SQ201410185976
【公開日】2014年7月30日 申請(qǐng)日期:2014年5月5日 優(yōu)先權(quán)日:2014年5月5日
【發(fā)明者】宗明成, 王丹, 黃有為, 李世光, 孫裕文 申請(qǐng)人:中國科學(xué)院微電子研究所