摩擦處理方法
【專利摘要】本發(fā)明的課題在于提供一種摩擦處理方法,能大幅地抑制亮點缺陷。本發(fā)明的摩擦處理方法包括:離線除塵步驟,在離線狀態(tài)下,使刷輥(102)一面左右振動一面旋轉(zhuǎn)接觸于外周裝設(shè)著摩擦布(90)的摩擦輥(72),從而去除附著在摩擦布(90)上的塵埃;及配向膜形成步驟,一面使具有配向膜形成材料層的基材連續(xù)移行,一面使用已在離線除塵步驟中除去塵埃的摩擦輥(72)來形成配向膜。
【專利說明】摩擦處理方法 【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及一種使用摩擦棍(rubbing roller)形成配向膜的摩擦處理方法,尤其 涉及一種當(dāng)制造液晶顯示裝置的光學(xué)補(bǔ)償膜(film)時對配向膜形成材料層的表面進(jìn)行摩 擦處理的摩擦處理方法。 【背景技術(shù)】
[0002] 液晶顯示裝置中,使用用于擴(kuò)大視角的光學(xué)補(bǔ)償膜作為偏光板用構(gòu)件。一般而言, 該光學(xué)補(bǔ)償膜是利用如下方法制造:在透明樹脂制的帶狀可撓性支撐體(以下,也稱作"網(wǎng) (web) ")的表面上涂布配向用涂布液且使其干燥后形成配向膜形成材料層之后,對其表面 實施摩擦處理而形成配向膜;而且,在配向膜上涂布液晶性涂布液且使其干燥后形成液晶 層,之后使其硬化。
[0003] 摩擦處理是液晶分子的代表性的配向處理方法,且是通過以下方法進(jìn)行:在網(wǎng)表 面上形成配向膜形成材料層,使卷繞著摩擦用布質(zhì)材料的摩擦輥高速旋轉(zhuǎn)而對該配向膜形 成材料層的表面進(jìn)行摩擦。
[0004] 近年來,就液晶顯示裝置而言,裝置的大型化、高亮度化得到進(jìn)步,且要求降低制 造成本(cost)。隨之,要求液晶顯示裝置的構(gòu)件即偏光板也大尺寸(size)化、高功能化、品 質(zhì)提高,隨之,光學(xué)補(bǔ)償膜也寬幅化、長條化。而且,尤其是,因液晶顯示裝置的高亮度化、高 精細(xì)化,使得對液晶顯示裝置的顯示品質(zhì)的下降產(chǎn)生影響的亮點尺寸變小。因此,要求除去 會成為亮點的原因的微小的塵埃(除塵)。
[0005] 因此,專利文獻(xiàn)1中,提出一種能通過高效率地除去摩擦處理中產(chǎn)生的塵埃、且實 現(xiàn)摩擦輥的長壽命化來提高生產(chǎn)性的摩擦處理方法。
[0006] [現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)]
[0007] [專利文獻(xiàn)]
[0008] [專利文獻(xiàn)1]日本專利特開2011-123120號公報
【發(fā)明內(nèi)容】
[0009] 然而,即使如專利文獻(xiàn)1那樣進(jìn)行摩擦處理也難以防止亮點缺陷。
[0010] 本發(fā)明是鑒于所述情況而完成的,其目的在于提供一種能大幅地抑制亮點缺陷的 摩擦處理方法。
[0011] 為了達(dá)成所述目的,本發(fā)明提供一種摩擦處理方法,包括:離線除塵步驟,在離線 狀態(tài)下,使刷棍(brush roller) -面左右振動一面旋轉(zhuǎn)接觸于外周裝設(shè)著摩擦布的摩擦 輥,從而除去附著在摩擦布上的塵埃;及配向膜形成步驟,一面使具有配向膜形成材料層的 基材連續(xù)移行,一面使用已在離線除塵步驟中除去塵埃的摩擦輥來形成配向膜。
[0012] 根據(jù)本發(fā)明,在離線狀態(tài)下,使刷輥一面左右(輥寬度方向)振動一面旋轉(zhuǎn)接觸 于外周裝設(shè)著摩擦布的摩擦輥,從而除去附著在摩擦布上的塵埃,在在線(online)的狀態(tài) 下,使用該摩擦輥形成配向膜,由此,能大幅地抑制亮點缺陷。另外,通過使刷輥左右振動, 也能抑制因附著在刷輥上的塵埃而使摩擦布的性能部分地劣化的情形。
[0013] 本發(fā)明中,優(yōu)選的是,基材為帶狀可撓性支撐體。
[0014] 而且,本發(fā)明中,優(yōu)選的是,刷輥相對于摩擦輥的旋轉(zhuǎn)方向與使用摩擦輥形成配向 膜的旋轉(zhuǎn)方向相同。只要刷輥相對于摩擦輥的旋轉(zhuǎn)方向與使用摩擦輥形成配向膜的旋轉(zhuǎn)方 向相同,那么就能使布紋一致。
[0015] 而且,本發(fā)明中,優(yōu)選的是,配向膜形成材料層是以改性聚乙烯醇為主成分而形 成。尤其是在涂布改性聚乙烯醇(改性PVA(Pol yvinyl Alcohol))而成為配向膜的光學(xué)膜 中,配向膜原材料(改性PVA)帶負(fù)電,與此相對,適宜用作摩擦布的原材料的疏水性合成纖 維帶正電,所以,因摩擦處理而產(chǎn)生的由配向膜引起的塵埃在靜電相互作用下容易附著在 摩擦布上,所以,本發(fā)明特別有效。
[0016] [發(fā)明的效果]
[0017] 根據(jù)本發(fā)明的摩擦處理方法,能大幅地抑制亮點缺陷。 【專利附圖】
【附圖說明】
[0018] 圖1是表示光學(xué)補(bǔ)償膜的制造線的說明圖。
[0019] 圖2是示意性地表示本發(fā)明的摩擦處理裝置的構(gòu)成圖。
[0020] 圖3是示意性地表示從正面觀察本發(fā)明的摩擦處理裝置的一部分的構(gòu)成圖。
[0021] [符號的說明]
[0022] 10 :光學(xué)補(bǔ)償膜的制造線
[0023] 11、11A、11B :棒涂布裝置
[0024] 15A、15B:除塵機(jī)
[0025] 16、16a:網(wǎng)
[0026] 66 :送出機(jī)
[0027] 67 :卷取機(jī)
[0028] 68 :導(dǎo)輥
[0029] 70、70A、70B :摩擦處理裝置
[0030] 71A、71B:除塵機(jī)
[0031] 72、72A、72B :摩擦輥
[0032] 76、76A、76B :干燥區(qū)
[0033] 78、78A、78B :加熱區(qū)
[0034] 80 :紫外線燈
[0035] 81 :送出機(jī)
[0036] 82 :卷取機(jī)
[0037] 84:輥臺(檢查裝置)
[0038] 84A、84B :輥臺
[0039] 86、86A、86B :支承輥
[0040] 88 :支承輥(層壓機(jī))
[0041] 88A、88B:支承輥
[0042] 90 :摩擦布
[0043] 100 :離線除塵裝置
[0044] 102 :刷子(刷輥)
[0045] 104 :排氣裝置
[0046] 108 :高吹送量噴嘴裝置
[0047] Θ :吹送角度 【具體實施方式】
[0048] 以下,根據(jù)隨附圖式,對本發(fā)明的摩擦處理方法的良好的實施方式進(jìn)行說明。
[0049] 圖1是作為應(yīng)用本發(fā)明的摩擦處理方法的一例的光學(xué)補(bǔ)償膜的制造線10。
[0050] 如圖1所示,從送出機(jī)66送出作為帶狀可撓性支撐體(例如為透明支撐體)的網(wǎng) 16。網(wǎng)16由導(dǎo)輥(guide roller) 68導(dǎo)引而經(jīng)過除塵機(jī)15A,由此,除去附著在網(wǎng)16的表面 上的灰塵。作為除塵機(jī)15A,可采用周知的各種類型。例如,可采用如下構(gòu)成:將經(jīng)靜電除 塵后的壓縮空氣(air)(氮氣)噴附在網(wǎng)16的表面,除去附著在網(wǎng)16的表面上的灰塵。
[0051] 在除塵機(jī)15A的網(wǎng)移行方向下游(以下簡稱為下游)設(shè)有棒(bar)涂布裝置11A, 將含有配向膜形成材料層的形成材料的涂布液涂布在網(wǎng)16上。另外,涂布裝置并不限于 棒涂布裝置,可采用各種涂布裝置,例如凹版涂布機(jī)(gravure coater)、棍式涂布機(jī)(roll coater)(轉(zhuǎn)送棍(transfer roll)涂布機(jī)、逆轉(zhuǎn)棍(reverse roll)涂布機(jī)等)、模涂布機(jī) (die coater)、擠壓式涂布機(jī)(extrusion coater)、噴注式涂布機(jī)(fountain coater)、幕 簾式涂布機(jī)(curtain coater)、浸漬涂布機(jī)(dip coater)、噴霧式涂布機(jī)(spray coater) 或滑斗(slide hopper)等。
[0052] 在棒涂布裝置11A的下游依序設(shè)有干燥區(qū)(zone) 76A、加熱區(qū)78A,在網(wǎng)16上形成 配向膜形成材料層。在涂布涂布液且使其干燥后,卷繞在卷取機(jī)67上。
[0053] 而且,從送出機(jī)81送出形成有配向膜形成材料層的網(wǎng)16a。網(wǎng)16a受導(dǎo)輥68導(dǎo)引 而被送入摩擦處理裝置70。摩擦輥72A(72B)是為了對配向膜形成材料層實施摩擦處理而 設(shè)。在摩擦輥72A(72B)的上游設(shè)有除塵機(jī)71A(71B),除去附著在網(wǎng)16a的表面上的灰塵。
[0054] 摩擦處理裝置70A(70B)是為了對配向膜形成材料層實施摩擦處理的裝置,本示 例中,成為由摩擦輥72A、摩擦輥72B形成2段的輥構(gòu)成。另外,作為摩擦處理裝置70,也可 米用1段的棍構(gòu)成。
[0055] 摩擦處理裝置70A(70B)能旋轉(zhuǎn)驅(qū)動外周表面卷有后述的摩擦用布質(zhì)材料的摩擦 輥72A(72B),且控制旋轉(zhuǎn)速度為例如lOOOrpm左右為止。摩擦輥72A(72B)的形狀可例如為 外徑為150mm、在帶摩擦角度的狀態(tài)下長度也比網(wǎng)16a的寬度略微長的輥狀。而且,摩擦處 理裝置70A(70B)為了能調(diào)整為任意的摩擦角度,而相對于網(wǎng)16a的移行方向可在水平面上 自如旋轉(zhuǎn)。
[0056] 摩擦棍72是將摩擦布90貼附于圓筒軸而形成的,其外徑制造成100mm?500mm, 優(yōu)選的是150nm?300mm。作為摩擦布90,可列舉可由橡膠(gum)、尼龍(nylon)、聚酯 (polyester)等獲得的片材(sheet)、可由尼龍纖維、人造絲(rayon)纖維、聚酯纖維獲得的 片材(絲絨(velvet)等)、紙、紗布(gauze)、毛毯(felt)等(參照圖2)。
[0057] 摩擦輥72連接于未圖示的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動源,且以按規(guī)定的速度(例如200rpm? 600rpm)旋轉(zhuǎn)的方式受到控制。另外,優(yōu)選的是,摩擦輥72構(gòu)成為能將其旋轉(zhuǎn)速度控制在規(guī) 定的范圍、例如lOOOrpm左右為止的范圍內(nèi)。
[0058] 在摩擦輥72A(72B)的上方,設(shè)有輥臺(stage)84A(84B),在該輥臺84A(84B)的 下表面經(jīng)由彈簧(spring)而自如旋轉(zhuǎn)地安裝著支承棍(backup roll)86A(86B)、支承棍 88A(88B)。對于支承輥86A(86B)、支承輥88A(88B)設(shè)有檢測網(wǎng)16a的張力(tension)的機(jī) 構(gòu),從而能管理摩擦?xí)r的張力。
[0059] 另外,支承輥86A(86B)、支承輥88A(88B)可上下調(diào)整,能使輥上下移動而調(diào)整網(wǎng) 16a對于摩擦棍72A(72B)的包角(wrap angle)。
[0060] 根據(jù)以上構(gòu)成,網(wǎng)16a-面由支承輥86A(86B)、88A(88B)從上部按壓,一面利用從 下側(cè)擠壓網(wǎng)16a的摩擦輥72A(72B)對網(wǎng)16a表面(下表面)的配向膜形成材料層的表面 進(jìn)行摩擦,形成具有配向性的配向膜。
[0061] 配向膜形成材料層只要為透明、且可利用配向處理進(jìn)行配向即可。作為配向膜形 成材料層的形成材料的示例,可列舉聚甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸/甲基丙烯酸共聚物、苯乙 烯/馬來酰亞胺共聚物、(改性)聚乙烯醇、聚(N-羥甲基丙烯酰胺)、苯乙烯/乙烯基甲 苯共聚物、氯磺化聚乙烯、硝化纖維、聚氯乙烯、氯化聚烯烴、聚酯、聚酰亞胺、乙酸乙烯酯共 聚物、乙烯/乙酸乙烯酯共聚物、羧甲酸纖維素、聚乙烯、聚丙烯及聚碳酸酯等聚合物及硅 烷耦合劑等化合物。作為優(yōu)選的聚合物的示例,可列舉聚酰亞胺、聚苯乙烯、苯乙烯衍生物 的聚合物、明膠、(改性)聚乙烯醇或聚乙烯醇衍生物。就配向膜形成材料層的形成材料而 言,具有聚合性基的材料會增加與液晶層的接合強(qiáng)度,因此有效,更優(yōu)選的是含有改性聚乙 烯醇作為主成分的形成材料。本說明書中,所謂主成分表示在形成材料中含有60質(zhì)量%以 上的改性聚乙烯醇,優(yōu)選的是含有80質(zhì)量%以上,更優(yōu)選的是含有90質(zhì)量%以上。
[0062] 在摩擦處理裝置70的下游設(shè)有除塵機(jī)15B,能除去附著在網(wǎng)16a的表面上的灰塵。
[0063] 在除塵機(jī)15B的下游設(shè)有棒涂布裝置11B,將含有圓盤狀向列型(disco nematic) 液晶的涂布液涂布在網(wǎng)16a上。作為涂布裝置11B,與將包含配向膜形成材料層的形成材料 的涂布液涂布在網(wǎng)16上時相同,可使用各種涂布裝置。
[0064] 在棒涂布裝置11B的下游,依序設(shè)有干燥區(qū)76B、加熱區(qū)78B,在網(wǎng)16a上形成有液 晶層。而且,在該下游設(shè)有紫外線燈(lamp)80,通過照射紫外線而使液晶交聯(lián),形成所需的 聚合物。而且,利用檢查裝置84進(jìn)行檢查,且將由層壓(laminate)機(jī)88送出的保護(hù)膜88A 層壓在網(wǎng)16a上,利用設(shè)在該下游的卷取機(jī)82卷取形成有聚合物的網(wǎng)16a。
[0065] 本實施方式中,光學(xué)補(bǔ)償膜的制造線10整體、尤其是棒涂布裝置11A、棒涂布裝置 14B可設(shè)置在潔凈室(clean room)等清潔的環(huán)境中。這時,清潔度優(yōu)選的是1000級(class) 以下,更優(yōu)選的是100級以下,再更優(yōu)選的是10級以下。
[〇〇66] 圖2是表示本實施方式的離線除塵步驟中的離線除塵裝置100的構(gòu)成的示意圖, 圖3是從正面觀察本實施方式的離線除塵步驟中的離線除塵裝置100的一部分的示意圖。 [〇〇67] 本發(fā)明中,制造光學(xué)補(bǔ)償膜之后,具有除去摩擦布90的塵埃的離線除塵步驟。通 過在該離線除塵步驟中除去摩擦布90的塵埃,能防止在光學(xué)補(bǔ)償膜的制造線10上形成配 向膜時(更詳細(xì)而言,是摩擦處理時)產(chǎn)生的塵埃附著在配向膜(摩擦處理中的配向膜形 成材料層)上,因此,能制造外觀良好的膜。
[0068] 離線除塵步驟可如圖2所示使用輥狀的刷子(刷輥)102來進(jìn)行。輥狀的刷子102 是以如下方式構(gòu)成:通過接觸于摩擦布90,而除去附著在摩擦布90上的塵埃。優(yōu)選的是, 刷輥相對于摩擦輥的旋轉(zhuǎn)方向與使用摩擦輥形成配向膜的旋轉(zhuǎn)方向相同。只要使用摩擦輥 形成配向膜的旋轉(zhuǎn)方向(圖2的旋轉(zhuǎn)方向成為順轉(zhuǎn))相同,那么可使布紋一致。
[〇〇69] 摩擦輥72連接于未圖示的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動源,且以按規(guī)定的速度(例如200rpm? 600rpm)旋轉(zhuǎn)的方式受到控制。另外,摩擦輥72優(yōu)選的是以如下方式構(gòu)成:能將其旋轉(zhuǎn)速 度控制在規(guī)定的范圍、例如lOOOrpm左右為止的范圍內(nèi)。
[0070] 而且,刷子102也連接于未圖示的旋轉(zhuǎn)驅(qū)動源,且以按規(guī)定的速度旋轉(zhuǎn)的方式受 到控制。刷子102的旋轉(zhuǎn)速度的最佳值為lOOrpm?700rpm,當(dāng)為lOOrpm以上時具有打落 塵埃的效果。而且,當(dāng)為700rpm以下時容易去掉塵埃。
[0071] 刷子102與摩擦輥72的重疊 (over lap)量(刷子的壓入量)的最佳值為 0. 5mlm?1. 5mm。當(dāng)為0. 5mm以上時具有打落塵埃的效果,當(dāng)為1. 5mm以下時會減少摩擦 布的損傷。
[0072] 刷子102的棍的直徑的最佳值為50mm?200mm,當(dāng)為50mm以上時在旋轉(zhuǎn)過程中軸 (shaft)不會彎曲,能在寬度方向上均勻地除去塵埃。而且,當(dāng)為200mm以下時輥的制作成 本不會上升。
[0073] 而且,如圖3所示,本實施方式的離線除塵裝置100中,刷子102 -面維持與摩擦 布90的距離一面左右振動(振蕩(oscillate))。因使刷子102振蕩,使得刷子102與摩擦 布90的接觸部位變得不固定,所以,能抑制因附著在刷輥上的塵埃而使摩擦布的性能部分 地劣化的情形。
[0074] 另外,優(yōu)選的是,離線除塵裝置100具有排氣裝置104。排氣裝置104能防止已由 摩擦布除塵步驟除去的塵埃再次附著在摩擦布上,因此,能制造出品質(zhì)更佳的光學(xué)補(bǔ)償膜。
[0075] 而且,為了除去附著在刷子前端的塵埃,優(yōu)選的是,在排氣裝置104內(nèi)設(shè)置高吹送 量噴嘴(high blow nozzle)裝置108。吹送角度Θ為Γ?45°時,從刷子102上除去粉 灰塵的能力明顯提高,因此是優(yōu)選的。
[0076] 另外,刷子102包含長絲(filament),但當(dāng)配向膜形成材料層以改性聚乙烯醇作 為主成分時,就作為膜亮點缺陷的誘發(fā)物質(zhì)的聚乙烯醇(PVA)微粉而言,只要長絲為尼龍 則可去掉,但當(dāng)為聚丙烯或人造絲時因帶電序列靠近,所以難以去掉。
[0077] 刷子102的長絲的長度的最佳值為5mm?11mm,通過設(shè)為5mm?11mm可使長絲的 硬度變得最佳,容易去掉塵埃,摩擦布上不易留下?lián)p傷。
[0078] 而且,刷子102的長絲的粗度的最佳值為100 μ m?300 μ m。通過設(shè)為100 μ m? 300 μ m,使得長絲的硬度變得最佳,容易去掉塵埃,摩擦布上不易留下?lián)p傷。
[0079] 接著,對離線除塵裝置100的作用進(jìn)行說明。
[0080] 離線除塵裝置100中,通過使左右振動的輥狀的刷子102接觸摩擦布90,來除去附 著在摩擦布90上的塵埃。
[0081] 因此,根據(jù)本實施方式,利用已除去附著的塵埃的摩擦輥72,能在在線的狀態(tài)下形 成高品質(zhì)的經(jīng)過摩擦處理的配向膜,因此,能提供亮點缺陷少的高品質(zhì)的光學(xué)補(bǔ)償膜。
[0082] [實施例]
[0083] 在纖維素三乙酸酯(FUJITAC,富士膠片(股)制造,厚度:40μη,寬度:1500mm)的 長條狀膜(網(wǎng))的一側(cè),涂布長鏈烷基改性聚乙烯醇(MP-203,可樂麗(Kuraray)(股)制 造)的5重量%的水溶液,在90°C下干燥4分鐘。這樣,形成厚度2.0 μπι的配向膜形成材 料層。
[0084] 使用圖1的裝置對配向膜形成材料層表面實施摩擦處理。利用輥(輥外徑:90_, 長度:1650mm) -面從上部對具有配向膜形成材料層的網(wǎng)進(jìn)行按壓,一面在箭頭方向上連 續(xù)地以20米(m) /分的速度搬送該網(wǎng)。一面使從下側(cè)對網(wǎng)進(jìn)行擠壓的摩擦輥(外徑:300mm) 朝向與網(wǎng)的移行方向相反的方向以400rpm的速度旋轉(zhuǎn),一面使貼附在圓筒軸上的摩擦布 (絲絨)接觸于配向膜形成材料層。
[0085] 對于摩擦輥,利用表1的實驗1?實驗7所示的方法進(jìn)行塵埃的除去處理。另外, 在離線除塵過程中,刷子構(gòu)件形狀使用材質(zhì)為尼龍、長度8mm、直徑180 μ m的類型。
[〇〇86] 實驗1中,一面進(jìn)行振蕩一面進(jìn)行離線除塵,之后,一面對具有配向膜形成材料層 的網(wǎng)進(jìn)行摩擦一面進(jìn)行除塵(在線除塵)。實驗2中,將高吹送量噴嘴裝置的吹送角度設(shè)為 30°而進(jìn)行除塵,除此之外設(shè)為與實驗1相同的條件。實驗3中,使刷子旋轉(zhuǎn)方向逆轉(zhuǎn),除 此之外設(shè)為與實驗1相同的條件。實驗4中,一面進(jìn)行振蕩一面進(jìn)行離線除塵,之后,不進(jìn) 行在線除塵而對具有配向膜形成材料層的網(wǎng)進(jìn)行摩擦。實驗5中,在不振蕩的情況下進(jìn)行 離線除塵,之后一面對具有配向膜形成材料層的網(wǎng)進(jìn)行摩擦一面進(jìn)行除塵。實驗6中,在在 線、離線的狀態(tài)下均不進(jìn)行除塵。實驗7中,在離線的狀態(tài)下不進(jìn)行除塵,僅在在線的狀態(tài) 下進(jìn)行除塵。
[〇〇87][評價方法]
[0088] 對于實驗1?實驗7的摩擦處理后的透明膜的亮點缺陷數(shù),根據(jù)使用電荷耦合器 件(charge coupled device,(XD)相機(jī)的面狀檢查裝置的亮點產(chǎn)生頻率進(jìn)行評價。評價結(jié) 果示于表1中。另外,關(guān)于表中的記號,將在線、離線狀態(tài)下均未實施除塵時的亮點產(chǎn)生頻 率設(shè)為150%,按以下方式評價。
[0089] 6. ··品質(zhì)非常優(yōu)良(產(chǎn)生頻率小于30% )
[0090] 5···品質(zhì)優(yōu)良(產(chǎn)生頻率為30 %以上且小于50% )
[0091] 4···品質(zhì)容許范圍內(nèi)(產(chǎn)生頻率為50%以上且小于80% )
[0092] 3. ··品質(zhì)容許極限(產(chǎn)生頻率為80%以上且小于100% )
[0093] 2···品質(zhì)差(產(chǎn)生頻率為100%以上且小于120% )
[0094] 1···品質(zhì)容許范圍外(產(chǎn)生頻率為120%以上且150%以下)
[0095] 另外,3以上為合格水平(level),2以下為不合格水平。
[〇〇96] 根據(jù)表1的實驗1?實驗7的評價結(jié)果可知,實施了本發(fā)明的離線除塵處理時,能 獲得亮點缺陷數(shù)少的品質(zhì)高的膜。另外,實驗5中,亮點缺陷的評價良好,但摩擦輥的寬度 方向分布不良,產(chǎn)生配向不良。
[〇〇97] 而且,關(guān)于未使用的摩擦布,也與使用了使用后的摩擦布時相同,在經(jīng)過離線除塵 之后進(jìn)行摩擦處理時,可獲得與使用了使用后的摩擦布時相同的效果。
[0098] [表 1]
[0099]
【權(quán)利要求】
1. 一種摩擦處理方法,其特征在于包括: 離線除塵步驟,在離線狀態(tài)下,使刷輥一面左右振動一面旋轉(zhuǎn)接觸于外周裝設(shè)著摩擦 布的摩擦輥,從而除去附著在所述摩擦布上的塵埃;及 配向膜形成步驟,一面使具有配向膜形成材料層的基材連續(xù)移行,一面使用已在所述 離線除塵步驟中除去塵埃的所述摩擦輥來形成配向膜。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的摩擦處理方法,其特征在于: 所述基材為帶狀可撓性支撐體。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的摩擦處理方法,其特征在于: 所述刷輥相對于所述摩擦輥的旋轉(zhuǎn)方向與使用所述摩擦輥形成所述配向膜的旋轉(zhuǎn)方 向相同。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的摩擦處理方法,其特征在于: 所述刷輥相對于所述摩擦輥的旋轉(zhuǎn)方向與使用所述摩擦輥形成所述配向膜的旋轉(zhuǎn)方 向相同。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1至權(quán)利要求4中任一項所述的摩擦處理方法,其特征在于: 所述配向膜形成材料層是以改性聚乙烯醇作為主成分。
【文檔編號】G02F1/1337GK104102049SQ201410143730
【公開日】2014年10月15日 申請日期:2014年4月10日 優(yōu)先權(quán)日:2013年4月12日
【發(fā)明者】村上大 申請人:富士膠片株式會社