用于周期性光刻圖形尺寸監(jiān)控的方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種用于周期性光刻圖形尺寸監(jiān)控的方法，包括如下步驟：S1：調(diào)整自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)設(shè)備的灰階參數(shù)，對(duì)曝光顯影后的晶圓的膠柱進(jìn)行灰度測(cè)試，通過將膠柱表面反射回來的光進(jìn)行灰階運(yùn)算得到灰度值；S2：對(duì)所述的膠柱進(jìn)行尺寸測(cè)量得到尺寸值；S3：建立灰度值與尺寸值間的對(duì)應(yīng)關(guān)系；S4：逐片進(jìn)行掃描曝光顯影后的晶圓；S5：將膠柱的灰度值實(shí)時(shí)通過對(duì)應(yīng)關(guān)系輸出為尺寸值。由于采用了以上技術(shù)方案，使得在藍(lán)寶石圖形化襯底領(lǐng)域可以將黃光蝕刻步驟后的檢測(cè)步驟得以簡(jiǎn)化，提高了生產(chǎn)效率，降低了生產(chǎn)成本。
【專利說明】用于周期性光刻圖形尺寸監(jiān)控的方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于半導(dǎo)體光電芯片制造領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002]在藍(lán)寶石圖形化襯底領(lǐng)域，生產(chǎn)廠家通常會(huì)通過3D顯徼鏡或者人工目檢的方式來對(duì)生產(chǎn)出的曝光顯影后的藍(lán)寶石襯底進(jìn)行膠柱尺寸方面的分選。但是，3D顯徼鏡的單片掃描時(shí)間過長，不能滿足大批量的連續(xù)生產(chǎn)；而人工目檢又容易因?yàn)槿说膫€(gè)體差異而引起分選標(biāo)準(zhǔn)不一的情況。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明旨在提供一種方法來解決大批量藍(lán)寶石圖形化襯底生產(chǎn)中黃光膠柱的監(jiān)控問題。
[0004]為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供的一種用于周期性光刻圖形尺寸監(jiān)控的方法，包括如下步驟:
[0005]S1:調(diào)整自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)設(shè)備的灰階參數(shù)，對(duì)曝光顯影后的晶圓的膠柱進(jìn)行灰度測(cè)試，通過將膠柱表面反射回來的光進(jìn)行灰階運(yùn)算得到灰度值；
[0006]S2:對(duì)所述的膠柱進(jìn)行尺寸測(cè)量得到尺寸值；
[0007]S3:建立灰度值與尺寸值間的對(duì)應(yīng)關(guān)系；
[0008]S4:逐片進(jìn)行掃描曝光顯影后的晶圓；
[0009]S5:將膠柱的灰度值實(shí)時(shí)通過對(duì)應(yīng)關(guān)系輸出為尺寸值。
[0010]本發(fā)明通過使用具有灰度測(cè)試的設(shè)備來進(jìn)行黃光膠柱的監(jiān)控工作。一般地，AOI設(shè)備通常用于處理晶圓生產(chǎn)中的表面缺陷檢測(cè)，但是利用AOI設(shè)備的灰度功能，卻可以很好地進(jìn)行黃光膠柱尺寸的監(jiān)控。根據(jù)灰度成像原理可知，設(shè)備是將不同表面反射回來的光進(jìn)行了灰階運(yùn)算，從而得到了灰度值。而不同尺寸的膠柱，其表面反射情況就不同，從而會(huì)得到不同的灰度值。因此，我們可以通過監(jiān)控灰度值，而間接了解黃光膠柱的尺寸，從而為監(jiān)控提供了便利。
[0011]作為進(jìn)一步的改進(jìn)，所述的步驟S1、S2中隨機(jī)選取多個(gè)膠柱進(jìn)行灰度值與尺寸值的測(cè)量以減小測(cè)量的誤差。
[0012]作為進(jìn)一步的改進(jìn)，所述的步驟S1、S2中針對(duì)同一膠柱多次測(cè)量后取平均值以減小測(cè)量的誤差。
[0013]作為進(jìn)一步的改進(jìn)，所述的步驟SI中調(diào)整自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)設(shè)備的灰階參數(shù)以使不同尺寸的膠柱在灰階范圍內(nèi)均勻分布。
[0014]作為進(jìn)一步的改進(jìn)，所述的步驟S2中，通過3D光學(xué)顯微鏡或S E M設(shè)備對(duì)晶圓進(jìn)行尺寸測(cè)量。
[0015]作為進(jìn)一步的改進(jìn)，所述的步驟S5包括設(shè)定尺寸值的閾值的步驟，當(dāng)檢測(cè)到超出閾值范圍的尺寸值時(shí)，輸出提示信號(hào)并記錄位置信息。[0016]由于采用了以上技術(shù)方案，使得在藍(lán)寶石圖形化襯底領(lǐng)域可以將黃光蝕刻步驟后的檢測(cè)步驟得以簡(jiǎn)化，提高了生產(chǎn)效率，降低了生產(chǎn)成本。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0017]圖1為根據(jù)本發(fā)明的用于周期性光刻圖形尺寸監(jiān)控的方法的流程圖。
【具體實(shí)施方式】
[0018]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的較佳實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)闡述，以使本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)和特征能更易于被本領(lǐng)域技術(shù)人員理解，從而對(duì)本發(fā)明的保護(hù)范圍做出更為清楚明確的界定。
[0019]參見附圖1所示，為根據(jù)本發(fā)明的用于周期性光刻圖形尺寸監(jiān)控的方法的流程圖。該方法包括如下步驟:
[0020]S1:調(diào)整自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)設(shè)備的灰階參數(shù)，對(duì)曝光顯影后的晶圓的膠柱進(jìn)行灰度測(cè)試，通過將膠柱表面反射回來的光進(jìn)行灰階運(yùn)算得到灰度值；
[0021]S2:通過3D光學(xué)顯微鏡或S E M設(shè)備對(duì)膠柱進(jìn)行尺寸測(cè)量得到尺寸值；
[0022]S3:建立灰度值與尺寸值間的對(duì)應(yīng)關(guān)系；
[0023]S4:逐片進(jìn)行掃描曝光顯影后的晶圓；
[0024]S5:將膠柱的灰度值實(shí)時(shí)通過對(duì)應(yīng)關(guān)系輸出為尺寸值。
[0025]為了盡可能的減小測(cè)量過程所帶來的誤差，步驟S1、S2中隨機(jī)選取多個(gè)膠柱進(jìn)行灰度值與尺寸值的測(cè)量以減小測(cè)量的誤差，例如可以是位置間隔較遠(yuǎn)的隨機(jī)選取的膠柱；另外，步驟S1、S2中針對(duì)同一膠柱多次測(cè)量后取平均值以減小測(cè)量的誤差。
[0026]需要說明的是，在步驟SI中調(diào)整自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)設(shè)備的灰階參數(shù)以使不同尺寸的膠柱在灰階范圍內(nèi)均勻分布，AOI設(shè)備通常用于處理晶圓生產(chǎn)中的表面缺陷檢測(cè)，但是利用AOI設(shè)備的灰度功能，卻可以很好地進(jìn)行黃光膠柱尺寸的監(jiān)控。根據(jù)灰度成像原理可知，設(shè)備是將不同表面反射回來的光進(jìn)行了灰階運(yùn)算，從而得到了灰度值。而不同尺寸的膠柱，其表面反射情況就不同，從而會(huì)得到不同的灰度值。因此，我們可以通過監(jiān)控灰度值，而間接了解黃光膠柱的尺寸，從而為監(jiān)控提供了便利。
[0027]作為進(jìn)一步的改進(jìn)，在步驟S5包括設(shè)定尺寸值的閾值的步驟，當(dāng)檢測(cè)到超出閾值范圍的尺寸值時(shí)，輸出提示信號(hào)并記錄位置信息，使得在藍(lán)寶石圖形化襯底領(lǐng)域可以將黃光蝕刻步驟后的檢測(cè)步驟得以簡(jiǎn)化，提高了生產(chǎn)效率，降低了生產(chǎn)成本。
[0028]以上實(shí)施方式只為說明本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思及特點(diǎn)，其目的在于讓熟悉此項(xiàng)技術(shù)的人了解本發(fā)明的內(nèi)容并加以實(shí)施，并不能以此限制本發(fā)明的保護(hù)范圍，凡根據(jù)本發(fā)明精神實(shí)質(zhì)所做的等效變化或修飾，都應(yīng)涵蓋在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1.一種用于周期性光刻圖形尺寸監(jiān)控的方法，其特征在于，包括如下步驟: S1:調(diào)整自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)設(shè)備的灰階參數(shù)，對(duì)曝光顯影后的晶圓的膠柱進(jìn)行灰度測(cè)試，通過將膠柱表面反射回來的光進(jìn)行灰階運(yùn)算得到灰度值； 52:對(duì)所述的膠柱進(jìn)行尺寸測(cè)量得到尺寸值； 53:建立灰度值與尺寸值間的對(duì)應(yīng)關(guān)系； 54:逐片進(jìn)行掃描曝光顯影后的晶圓； 55:將膠柱的灰度值實(shí)時(shí)通過對(duì)應(yīng)關(guān)系輸出為尺寸值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于周期性光刻圖形尺寸監(jiān)控的方法，其特征在于:所述的步驟S1、S2中隨機(jī)選取多個(gè)膠柱進(jìn)行灰度值與尺寸值的測(cè)量。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于周期性光刻圖形尺寸監(jiān)控的方法，其特征在于:所述的步驟S1、S2.中針對(duì)同一膠柱多次測(cè)量后取平均值。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于周期性光刻圖形尺寸監(jiān)控的方法，其特征在于:所述的步驟SI中調(diào)整自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)設(shè)備的灰階參數(shù)以使不同尺寸的膠柱在灰階范圍內(nèi)均勻分布。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于周期性光刻圖形尺寸監(jiān)控的方法，其特征在于:所述的步驟S2中，通過3D光學(xué)顯微鏡或SEM設(shè)備對(duì)晶圓進(jìn)行尺寸測(cè)量。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于周期性光刻圖形尺寸監(jiān)控的方法，其特征在于:所述的步驟S5包括設(shè)定尺寸值的閾值的步驟，當(dāng)檢測(cè)到超出閾值范圍的尺寸值時(shí)，輸出提示信號(hào)并記錄位置信息。
【文檔編號(hào)】G03F7/20GK103852976SQ201410126862
【公開日】2014年6月11日 申請(qǐng)日期:2014年4月1日 優(yōu)先權(quán)日:2014年4月1日
【發(fā)明者】陳起偉, 魏臻, 孫智江, 施榮華 申請(qǐng)人:海迪科（蘇州）光電科技有限公司